8英寸电感耦合等离子体刻蚀(ICP)设备

8英寸电感耦合等离子体刻蚀(ICP)设备

参考价:面议
型号: Pishow® A 系列
产地: 江苏
品牌: 鲁汶
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Pishow® A 系列

8英寸电感耦合等离子体刻蚀(ICP)设备 

1. 详细介绍

ICP是一种加工微纳结构的等离子刻蚀技术。具有刻蚀快、选择比高、各项异性高、刻蚀损伤小、均匀性好、断面轮廓可控性高、刻蚀表面平整度高等优点。目被广泛应用于Si、SiO2、SiNx、金属、III-V族化合物等材料的刻蚀。可应用于大规模集成电路、MEMS、光波导、光电子器件等域中各种微结构的制作。

2. 系统特性

拥有多种材料刻蚀解决方案,包括硅基材料、金属、III-V和其他化合物半导体

可提供高低温(-10℃至+150℃)工艺模式

可提供ALE解决方案,实现对刻蚀速率和均匀性的高精度控制

具备Bosch工艺能力,可提供高深宽比硅深槽或深孔刻蚀解决方案

适用于8英寸晶圆,并可向下兼容,提供单腔式和多腔式等多种腔室搭配方式        


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供鲁汶8英寸电感耦合等离子体刻蚀(ICP)设备Pishow® A 系列,鲁汶Pishow® A 系列产地为江苏,属于等离子体刻蚀设备,除了8英寸电感耦合等离子体刻蚀(ICP)设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多等离子体刻蚀设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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