卧式 LPCVD 系统

卧式 LPCVD 系统

参考价:面议
型号: HORIC L200 系列
产地: 北京
品牌: 北方华创
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核心参数
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产品详情

1. 产品概述

HORIC L200 系列 卧式 LPCVD  气相沉积系统,半导体客户端机台装机量大,可根据客户需求配置多工艺组合的机台可提供先进成熟的 MES 系统解决方案.优异的工艺技术支持。

2. 设备用途/原理

HORIC L200 系列 卧式 LPCVD 系统半导体客户端机台装机量大可根据客户需求配置多工艺组合的机台高可靠性、稳定性 Higher reliability and stability安全性能高:设备及所使用的元件符合国标和国际标准可提供先进成熟的 MES 系统解决方案优异的工艺技术支持

3. 设备特点

晶圆尺寸 4、6、8 英寸适用材料硅、碳化硅、硅基氮化镓适用工艺  氮化硅、氧化硅、多晶硅、掺杂多晶硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃适用域  科研、化合物半导体


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供北方华创 卧式 LPCVD 系统HORIC L200 系列,北方华创HORIC L200 系列产地为北京,属于国产化学气相沉积设备,除了 卧式 LPCVD 系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多化学气相沉积设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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