型号: | COVAP |
产地: | 加拿大 |
品牌: | Angstrom |
评分: |
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1 产品概述:
物理气相沉积(PVD)平台是一种在真空环境中,通过物理方法将固体或液体材料源表面气化成气态原子、分子或离子,并沉积在基体表面形成具有特定功能的薄膜的设备。PVD平台通常包括真空系统、加热系统、气体控制系统、沉积室、基体支撑及驱动系统等部分。AE物理气相沉积平台可能集成了这些关键技术组件,以提供高效、精确的薄膜沉积解决方案。
2 设备用途:
AE物理气相沉积平台的主要用途包括:
表面改性:通过沉积耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、润滑等特性的薄膜,改善基体材料的表面性能。
功能薄膜制备:制备具有光导、压电、磁性、超导等功能的薄膜,应用于电子、光学、传感器等领域。
装饰和保护:在高档手表、珠宝、建筑材料等表面沉积金属或合金薄膜,提供美观和防腐蚀保护。
微纳加工:在微电子、半导体、纳米技术等领域,制备高精度、高质量的薄膜结构。
3 设备特点
高精度和均匀性:通过精确控制沉积参数,如温度、压力、气体流量等,实现薄膜的高精度和均匀性沉积。
多功能性:支持多种PVD技术,如真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜等,满足不同应用需求。
环保和节能:在真空环境中进行沉积,减少环境污染;采用高效能源利用技术,降低能耗。
自动化和智能化:集成计算机控制系统,实现自动化操作和智能化监控,提高生产效率和产品质量。
Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平台是一款物理气相沉积系统,以下是其一些技术特点和应用:
技术参数和特点:
尺寸:可生产100-1200mm基板。
镀膜源:溅射(射频、直流、脉冲直流、HIPIMS 和反应式)、热蒸发(使用各种舟形、丝状和坩埚加热器)、电子束蒸发(提供多种源功率和电源选项)。
等离子和离子束处理:使用一系列离子源进行清洗和薄膜增强,包括辉光放电等离子清洗。
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