型号: | Nexdep |
产地: | 加拿大 |
品牌: | Angstrom |
评分: |
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1 产品概述:
物理气相沉积(PVD)平台是一种在真空环境中,通过物理方法将固体或液体材料源表面气化成气态原子、分子或离子,并沉积在基体表面形成具有特定功能的薄膜的设备。PVD平台通常包括真空系统、加热系统、气体控制系统、沉积室、基体支撑及驱动系统等部分。AE物理气相沉积平台可能集成了这些关键技术组件,以提供高效、精确的薄膜沉积解决方案。
2 设备用途:
AE物理气相沉积平台的主要用途包括:
表面改性:通过沉积耐磨、耐腐蚀、导电、绝缘、润滑等特性的薄膜,改善基体材料的表面性能。
功能薄膜制备:制备具有光导、压电、磁性、超导等功能的薄膜,应用于电子、光学、传感器等领域。
装饰和保护:在高档手表、珠宝、建筑材料等表面沉积金属或合金薄膜,提供美观和防腐蚀保护。
微纳加工:在微电子、半导体、纳米技术等领域,制备高精度、高质量的薄膜结构。
3 设备特点
高精度和均匀性:通过精确控制沉积参数,如温度、压力、气体流量等,实现薄膜的高精度和均匀性沉积。
多功能性:支持多种PVD技术,如真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜等,满足不同应用需求。
环保和节能:在真空环境中进行沉积,减少环境污染;采用高效能源利用技术,降低能耗。
自动化和智能化:集成计算机控制系统,实现自动化操作和智能化监控,提高生产效率和产品质量。
Angstrom Engineering 的 Amod PVD 平台是一款物理气相沉积系统,以下是其一些技术特点和应用:
技术参数和特点:
不同型号的 Nexdep PVD 设备可能在具体技术指标上存在差异,如果你想了解更详细的信息,可以参考相关产品手册或直接联系 Angstrom Engineering 公司。此外,天津大学大型仪器管理平台和一些采购公告中也有 Nexdep PVD 设备的具体参数信息,例如:
1,腔室尺寸为 400mm(长)×400mm(宽)×500mm(高),带有可拆卸的不锈钢内衬;前门为移门,后门为铰链式结构,采用 O 型圈密封;腔室门集成观察窗并带有防沉积装置。
2,真空系统方面,前级泵采用油泵,抽速不低于 9cfm;主泵采用分子泵,抽速不低于 685L/s;配备 Inficon MPG400 真空规,测量范围从3.75e-9torr 到大气;在洁净、干燥环境下,极限抽真空优于 5e-7torr。
3,蒸镀系统配备 1 套热阻金属蒸发源和 1 个蒸发源电源控制器,热阻蒸发源电源功率可达 2.5kW,采用可控硅电源控制器。
4,膜厚检测系统配备 1 个膜厚检测探头,带有水冷功能以提高检测准确性,探头安装在刚性支架上防止碰撞影响精度。
5,样品台可装载直径为 150mm 的样品,兼容小尺寸样片,带旋转功能,转速 10-30rpm 可调;系统配备自动控制模式的蒸发源挡板和开合式样品台挡板。
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