CCS系统

CCS系统

参考价:面议
型号: 化合物半导体沉积系统
产地: 德国
品牌: 爱思强
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IXTRON 的化合物半导体沉积 CCS 系统是一种用于化合物半导体材料沉积的设备。

其主要特点和优势包括:


  • 多功能研发平台:配备集成手套箱,具有高度灵活性,可适应多种金属有机源和氢化物源。

  • 可扩展性强:能够实现从研发到大规模生产的无缝过渡,满足不同规模的生产需求。

  • 生长均匀且可重复:采用经过验证的紧密耦合喷头(Close Coupled Showerhead®)反应器,搭配三区加热器,确保了对所有材料系统的固有均匀和可重复生长,能实现较高的材料质量和均匀性。

  • 工艺窗口灵活性高:有利于获得卓越的材料质量和均匀性。

  • 运行成本低:具有低气体流量和高前驱体效率的特点,且维护简便且成本较低。

  • 原位监测功能:配备 Laytec Epitt、Epicurvett 等原位监测技术(可选),并可选配 Aixtron Argus 全晶圆温度映射和 Aixtron Epison®气体浓度传感器。

  • 紧凑的占地面积:节省空间。


在技术参数方面,CCS 系统有多种配置可供选择,例如:


  • 晶圆尺寸配置包括 3x2 英寸、6x2 英寸、19x2 英寸等多种规格。

  • 具有动态工艺间隙调整功能,最高工作温度可达 1400°C(部分型号)。


该系统广泛应用于化合物半导体的研发和生产领域,例如在光电子器件(如发光二极管 LED、激光二极管等)、功率电子器件、高频电子器件等的制造中发挥重要作用。它可以用于沉积各种化合物半导体材料,如氮化镓(GaN)、砷化镓(GaAs)、磷化铟(InP)等。


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供爱思强CCS系统化合物半导体沉积系统,爱思强化合物半导体沉积系统产地为德国,属于进口化学气相沉积设备,除了CCS系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多化学气相沉积设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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