NEXUS IBD-LDD 离子束沉积设备

NEXUS IBD-LDD 离子束沉积设备

参考价:面议
型号: NEXUS IBD-LDD
产地: 美国
品牌: VEECO
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产品详情

1.产品概述:

NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研发的离子束沉积设备,VEECCO凭借25年来在离子束产品域建立导地位,实现当无缺陷的EUV掩模空白

2.产品工艺:

光掩模制造需要高水平的颗粒控制,同时沉积复杂的多层薄膜结构。Veeco的NexusIBD-LDD离子束沉积系统可以应对这一挑战。自1990年代以来,Veeco已成功服务于光掩模市场,多年的学习造就了当先进的系统。IBD-LDD系统是当EUV掩模坯料上的钼(Mo)和硅(Si)多层沉积和钌(Ru)封端层沉积的理想选择,以及其他需要低缺陷水平和先进薄膜的掩模应用。

3.产品优势:

经过生产验证的平台

低的缺陷密度

优异的均匀性和可重复性

高反射率

在同一腔室中沉积多种材料

可以集成到其他过程模块中,集成到集群工具中


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供VEECONEXUS IBD-LDD 离子束沉积设备,VEECONEXUS IBD-LDD产地为美国,属于物理气相沉积设备,除了NEXUS IBD-LDD 离子束沉积设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多物理气相沉积设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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