型号: | NEXUS IBD-LDD |
产地: | 美国 |
品牌: | VEECO |
评分: |
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1.产品概述:
NEXUSIBD-LDD是由VEECCO研发的离子束沉积设备,VEECCO凭借25年来在离子束产品域建立导地位,实现当下无缺陷的EUV掩模空白。
2.产品工艺:
光掩模制造需要高水平的颗粒控制,同时沉积复杂的多层薄膜结构。Veeco的NexusIBD-LDD离子束沉积系统可以应对这一挑战。自1990年代以来,Veeco已成功服务于光掩模市场,多年的学习造就了当先进的系统。IBD-LDD系统是当EUV掩模坯料上的钼(Mo)和硅(Si)多层沉积和钌(Ru)封端层沉积的理想选择,以及其他需要低缺陷水平和先进薄膜的掩模应用。
3.产品优势:
经过生产验证的平台
低的缺陷密度
优异的均匀性和可重复性
高反射率
在同一腔室中沉积多种材料
可以集成到其他过程模块中,集成到集群工具中
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