高真空热阻蒸发薄膜沉积系统

高真空热阻蒸发薄膜沉积系统

参考价:面议
型号: DZ450
产地: 辽宁
品牌: 沈阳科仪
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产品详情

1.产品概述:

该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统;真空测量系统;蒸发源;样品加热控温;电控系统;配气系统等部分组成。该系统可与手套箱对接。

2.设备用途:

热蒸发是指把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积于基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等域。蒸镀薄膜种类:Au, Cr, Ag, Al, Cu, In,有机物等。

3.真空室:

真空室结构:方形开门

真空室尺寸:400×400×450mm

限真空度:≤6.0E-5Pa

沉积源:3个钨舟、2个有机源

样品尺寸,温度:4寸,1片,高800℃

占地面积(长x宽x高):约2.5米×1.2米×1.8米

电控描述:全自动

工艺:片内膜厚均匀性:≤±5% 



深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供沈阳科仪高真空热阻蒸发薄膜沉积系统DZ450,沈阳科仪DZ450产地为辽宁,属于国产物理气相沉积设备,除了高真空热阻蒸发薄膜沉积系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多物理气相沉积设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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