高真空磁控溅射薄膜沉积系统

高真空磁控溅射薄膜沉积系统

参考价:面议
型号: PVD500
产地: 辽宁
品牌: 沈阳科仪
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产品详情

1.产品概述:

本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业的软件控制系统。

2.设备特点:

本设备是一个镀膜平台,可把磁控靶拆下换电子枪成为电子束镀膜系统、或换蒸发源作为热蒸发系统、或换上离子枪作为离子束镀膜系统等。

设备用途:用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。

3.真空室:

真空室结构:方形开门

真空室尺寸:φ500x500x500mm

限真空度:≤3.0E-5Pa

沉积源:永磁靶4套,φ2英寸

样品尺寸,温度:φ4英寸,1片,高800℃

占地面积(长x宽x高):约2米×1.7米×2米

电控描述:全自动

工艺:具备计算机化的工艺自动化功能。

片内膜厚均匀性:≤±3%


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供沈阳科仪高真空磁控溅射薄膜沉积系统PVD500,沈阳科仪PVD500产地为辽宁,属于国产物理气相沉积设备,除了高真空磁控溅射薄膜沉积系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多物理气相沉积设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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