型号: | JGP560 |
产地: | 辽宁 |
品牌: | 沈阳科仪 |
评分: |
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1.产品概述:
本沉积系统可用于制备光学薄膜、电学薄膜、磁性薄膜、硬质保护薄膜和装饰薄膜等,工艺性能稳定、模块化结构,采用行业的软件控制系统。
2.产品优势:
用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料的科研项目。
该系统可用于纳米单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。广泛应用于大院校、科研院所的薄膜材料科研工作。
3.产品工艺:
真空室结构:梨形上升盖
真空室尺寸:φ550×350mm
限真空度:≤6.6E-6Pa(经烘烤除气后)
沉积源:永磁靶5套,φ2英寸配有多个靶位,例如 5 个 2 英寸磁控溅射靶接
样品尺寸,温度:φ2英寸,6片; φ4英寸,1片; 高800℃
占地面积(长x宽x高):约3米×1.1米×2米
电控描述:全自动
工艺:片内膜厚均匀性:≤±3%
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