CMP后清洗机

CMP后清洗机

参考价:面议
型号: GNP CLEANER-428L
产地: 韩国
品牌: G&P
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核心参数
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产品详情

1. 产品概述:

适用晶圆尺寸:100mm(4) ~ 200mm(8")

配置:独立配置4个清洗工位用DIW喷雾预清洗两个双面滚刷清洗用氮气吹干旋转漂洗

清洁器尺寸:1800 w 970D 1500 hmm

电刷尺寸:038(OD) 018(ID) 310(L)mm

预清洗工位:DIW喷雾清洗,工位间DIW帷幕清洗辊刷工位

化学:2个化学泵(每个刷室1)NH4OH(< 0.1wt%)DIW

刷型:双面PVA刷刷位调节:手动控制(可用刷隙范围:-1.5mm ~ 2mm)

转速:<满量程的2%

范围30 ~ 400rpm

化学品流量:满量程< 1L/min

DI流量:满量程< 5L/min

旋转速度:2500/DIW冲洗/ N2吹扫/强扫

控制工艺:喷淋清洗/双面刷清洗/旋漂干洗/湿洗/干洗

程序控制:PC & PC触摸监控,程序可编程,计算机网络可比



深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供G&PCMP后清洗机GNP CLEANER-428L,G&PGNP CLEANER-428L产地为韩国,属于进口化学机械抛光机(CMP),除了CMP后清洗机的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多化学机械抛光机(CMP),客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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