CMP后清洗机

CMP后清洗机

参考价:面议
型号: GNP CLEANER-412R
产地: 韩国
品牌: G&P
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核心参数
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产品详情

1. 基本参数

适用晶圆尺寸:100mm(4") ~ 300mm(12")

配置:输入喷淋清洗,两个双面刷清洗和旋转漂洗干燥(可选:分离QDR)

清洗机尺寸:1610w 1260d 1640hmm电刷尺寸:070(外径)031(内径)170()毫米

预清洗工位:DIW喷雾清洗,工位间DIW帷幕清洗

辊刷工位

化学:nh4ohDIW

刷头型式:PVA刷头,可同时清洗晶圆片的正反面

刷位调节:手动控制(可用刷隙范围:-10mm ~ 2mm)

转速:<满量程的±5%范围30 ~ 400rpm

化学品供应:4个喷嘴和通过毛刷

可用化学品:2个化学品[NH4OH]

化学和DI流量:<满量程的±5%

转站

选项:超高速扫描

旋转速度:最高2500/DI漂洗/ N2

控制工艺流程:手动加载,自动顺序,湿/干液晶触摸屏显示器,程序控制PLC式。


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供G&PCMP后清洗机GNP CLEANER-412R,G&PGNP CLEANER-412R产地为韩国,属于进口化学机械抛光机(CMP),除了CMP后清洗机的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多化学机械抛光机(CMP),客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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