CMP后清洗机

CMP后清洗机

参考价:面议
型号: GNP CEANER-412S
产地: 韩国
品牌: G&P
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核心参数
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产品详情

1. 产品概述:

GNP CLEANER-412S型CMP后清洗机集成了两个双刷站,设计紧凑,占地面积小,可清洗(4“~12“)晶圆。

适用晶圆尺寸:100mm(4")300mm(12")

配置:喷淋清洗、单边刷清洗、旋转漂洗干燥(可选:分离QDR)

清洁器尺寸:1,100W 1,100D 1,650Hmm

电刷尺寸:070(外径)032(内径)170()毫米

刷隙调节:PLC自动控制(可选刷隙范围:-10mm ~ 2mm)

化学:NH4OH ~ 1%

可用刷型:双面PVA

电刷转速:最高400rpm

旋转速度:手动加载与自动顺序,湿入/干出,最大2,000rpmDIW冲洗/ N2

2. 工艺流程

手动加载,自动顺序,湿/干液晶触摸屏显示器,程序控制PLC


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供G&PCMP后清洗机GNP CEANER-412S,G&PGNP CEANER-412S产地为韩国,属于进口化学机械抛光机(CMP),除了CMP后清洗机的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多化学机械抛光机(CMP),客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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