型号: | CMS系列 |
产地: | 美国 |
品牌: | 科特莱思科 |
评分: |
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极其强大的先进研究工具
设计用于适应特定的薄膜应用,如 GMR、CMS、半导体、纳米级器件、光子学和光伏
系统设计可以配置为真正的超高真空性能
经过现场测试和验证的设计
适应性强的腔室、底板和基板选项
18“ D x 15” H 不锈钢工艺室
旋转基板,适用于最大 150 毫米(6 英寸)基板
使用石英灯加热器将基板加热至800°C
单晶圆或多晶圆负载锁定,带手动或计算机控制的样品转移
高精度PID温度控制回路(配备基板加热时)
1500 l/s 低温泵
宽量程真空计,atm 至 1x10-10托
高精度闭环压力控制(溅射应用的上游和下游)
气动源和基板百叶窗
可配置六个或更多磁控沉积源
交叉污染屏蔽(如适用)
计算机控制,手动或全自动操作
提供 CE 标志、UL 列表、CSA、NRTL 和其他行业认可的测试认证
挤压铝框架,带外壳板
单业务分接配电模块
旋转基板,适用于最大 200 毫米(8 英寸)基板
用于样品清洁的基质偏置(通常是射频等离子体,用于去除天然氧化层)
沉积过程中的衬底偏置会影响薄膜微观结构的特征(如晶体取向),提高薄膜致密化,促进薄膜粘附力,并促进提高共溅射合金薄膜的薄膜均匀性
使用元件式加热器将基板加热至1100°C
基板冷却(液体和/或 LN2)
用于涂覆基材两侧的样品翻转夹具
薄膜成型工具(刀片安装在高精度计算机控制臂上)
基板上的可转位磁场
原位薄膜分析(光学过程监测仪、RHEED 或光谱椭偏仪)
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