沉积和金属化系统

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参考价:面议
型号: Mini SPECTROS
产地: 美国
品牌: 科特莱思科
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Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平台的下一代薄膜沉积系统。SPECTROS平台在全球拥有100多台设备,是一种成熟、坚固和多功能的设计。Mini SPECTROS建立在原始设计的成功基础上,改进了系统基础压力和抽空时间。技术的腔室设计、具有高级编程功能的行业最佳软件控制系统、实时配方线程操作以及用于优化薄膜性能的众多功能,这些都是这种创新的设计提供的一些关键优势。®

Mini SPECTROS™与以下技术兼容:

  • 1cc 或 10cc LTE 信号源(除热源外,最多 4 个信号源)

  • 4 英寸热源(除 LTE 源外,最多 4 个源)

  • TORUS 磁控溅射源(最多 6 个 2“ 或 3” 离子源)®

  • 电子束蒸发源(4口袋8cc,8口袋12cc,6口袋20cc)

  • 上述技术的组合也可用。

  • 可根据要求提供定制配置

TORUS离子源在典型的溅射压力(< 20 mTorr)下运行,并利用硅晶圆进行沉积。氧化硅®2目标运行射频功率,膜厚 >=500Å。铝目标使用直流电源运行,膜厚 >=1500Å。Ni Target 使用高强度 TORUS 和直流电源运行,膜厚 >=1500Å。®

KJLC 电子束沉积运行利用 Si 晶圆进行沉积。Ti蒸发材料,膜厚>=1500Å。

  • 所有薄膜均在正确校准的轮廓仪、反射仪或椭圆仪(如果适用)上进行测量。

  • 测量点从基板的中心开始,然后每 0.5 英寸(12.7 毫米)径向外径向外,标称值(右侧参考图)。

  • 均匀性计算公式为:((最大 - 最小)/(2 x 平均值)) x 100%,带 0.2 英寸 (5mm) 边缘排除


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供科特莱思科沉积和金属化系统Mini SPECTROS,科特莱思科Mini SPECTROS产地为美国,属于物理气相沉积设备,除了沉积和金属化系统的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多物理气相沉积设备,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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