型号: | Mini SPECTROS |
产地: | 美国 |
品牌: | 科特莱思科 |
评分: |
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Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平台的下一代薄膜沉积系统。SPECTROS平台在全球拥有100多台设备,是一种成熟、坚固和多功能的设计。Mini SPECTROS建立在原始设计的成功基础上,改进了系统基础压力和抽空时间。技术的腔室设计、具有高级编程功能的行业最佳软件控制系统、实时配方线程操作以及用于优化薄膜性能的众多功能,这些都是这种创新的设计提供的一些关键优势。®
Mini SPECTROS™与以下技术兼容:
1cc 或 10cc LTE 信号源(除热源外,最多 4 个信号源)
4 英寸热源(除 LTE 源外,最多 4 个源)
TORUS 磁控溅射源(最多 6 个 2“ 或 3” 离子源)®
电子束蒸发源(4口袋8cc,8口袋12cc,6口袋20cc)
上述技术的组合也可用。
可根据要求提供定制配置
TORUS离子源在典型的溅射压力(< 20 mTorr)下运行,并利用硅晶圆进行沉积。氧化硅®2目标运行射频功率,膜厚 >=500Å。铝目标使用直流电源运行,膜厚 >=1500Å。Ni Target 使用高强度 TORUS 和直流电源运行,膜厚 >=1500Å。®
KJLC 电子束沉积运行利用 Si 晶圆进行沉积。Ti蒸发材料,膜厚>=1500Å。
所有薄膜均在正确校准的轮廓仪、反射仪或椭圆仪(如果适用)上进行测量。
测量点从基板的中心开始,然后每 0.5 英寸(12.7 毫米)径向外径向外,标称值(右侧参考图)。
均匀性计算公式为:((最大 - 最小)/(2 x 平均值)) x 100%,带 0.2 英寸 (5mm) 边缘排除
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