气相分解金属沾污收集(VPD)设备

气相分解金属沾污收集(VPD)设备

参考价:面议
型号: Seehund® A 系列
产地: 江苏
品牌: 鲁汶
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产品详情

1. 产品概述:

Seehund® A型气相分解金属沾污收集设备(VPD)是一款专门为集成电路制造、大晶圆生产及再生、先导工艺研发等领域提供高效金属沾污控制解决方案的先进设备。随着晶圆制造产业的迅速发展,对金属沾污控制的要求日益严格,而传统的测量方法如TXRF(全反射X射线荧光)和ICP-MS(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)所能达到的测量限已经无法满足这一行业的需求。因此,VPD的出现,正是为了解决这一亟待突破的技术瓶颈。

该设备通过在晶圆表面金属沾污物质进行有效富集,显著提高了检测的灵敏度,使得用户能够在更低的浓度水平下对金属沾污进行精准测量,从而确保了晶圆产品的质量和可靠性,极大地满足了现代化晶圆生产线的各项需求。

VPD设备不仅采用了12英寸及8英寸产业线设备普遍使用的国际标准零部件,还严格遵循了SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)的设计标准。这些标准及其相关认证确保了设备的兼容性及可操作性。同时,VPD经历了严苛的稳定性和可靠性测试,确保在各种复杂的生产环境中持久高效地运作。通过这些设计与测试,该设备能够为客户提供强有力的技术支持,使他们在竞争日益激烈的市场中始终保持领先地位。

     

气相分解金属沾污收集(VPD)设备

 

2. 系统特性

12英寸/8英寸兼容,应用于IC制造,12英寸大晶圆生产和再生,先导工艺研发等域

采用托盘可实现6英寸兼容

可搭配电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS)或全反射荧光光谱分析仪(TXRF)

VPD 与 ICP-MS或TXRF组合,可将检测灵敏度提高2个数量,满足上述域的痕量金属沾污监控需求


深圳市矢量科学仪器有限公司为您提供鲁汶气相分解金属沾污收集(VPD)设备Seehund® A 系列,鲁汶Seehund® A 系列产地为江苏,属于其他,除了气相分解金属沾污收集(VPD)设备的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多其他,客服电话,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 60天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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