资料摘要
资料下载清剂化学品杂质来源主要由以下几种方式引入:一是原料带入 。即需要净化的原料本身的杂质;二是外界引入。由于高纯电子级酸多具 有强腐蚀性 ,在实验和存贮过程中接触的器皿如不锈钢设备 、管道 、泵阀 、螺丝等,塑料设备和包装存贮材料 (往往含有增塑剂增强剂 ) ,在长期使用过程中可能存在被腐蚀的问题,有如 Ca、M g、Fe、 Zn、C r、N i等微量离子溶出现象,因此要求必须采 用具备很强的抗腐蚀性和耐磨蚀性,杂质溶出率极低的设备材料。另外,净化过程中使用的各种 辅助试剂 、水、气体等也会引入微量杂质。( PVD F) 、特富龙 ( Teflon ) 、PFA 等材料 。选用何种材质,须针对研发产品化学特性、工艺过程特点进行相应的耐腐蚀、耐磨蚀试验,才能最终选定设备与存贮材料,特别强调低溶出率指标。
ASTM F658-87乳胶球校准方法(PSL乳胶球体)
简介:ASTM F658-87乳胶球校准方法(PSL乳胶球体)
研磨液液体颗粒计数器资料
简介:商用集成电路的制造关键取决于通过化学机械平坦化(CMP)将硅晶片表面抛光至接近原子平坦度的磨料浆料颗粒的物理和化学性质。磨料浆料(Slurry)中含有相对较少>1.0μm的颗粒(如二氧化硅、氧化铝),这些颗粒可能会在晶圆表面平坦化处理的时候造成微划伤。因此,磨料浆料(Slurry)颗粒的大颗粒计数(LPC) 是CMP艺中的关键因素。
GB/T 11133-2015石油产品、润滑油和添加剂中水含量的测定卡尔费休库仑滴定法
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ASTM D1744-卡尔费休法测定石油产品中的水分
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JJG066-2006马歇尔稳定度试验仪
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