RIE反应离子刻蚀机

RIE反应离子刻蚀机

参考价:面议
型号: RIE-8
产地: 韩国
品牌: ULTECH
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Reactive Etching System Specifications: NRE NDR Control: PC, Lab View PC, Lab View Chamber: 13” Aluminum, solid block 13” Aluminum, solid block/SS Cubic Chamber Substrate Holder: 13 °C, water cooled -60 °C, Cryogenic/electrostatic chuck Gas Distribution: Shower Head, MFC’s, SS lines Gas Ring, MFC’s, SS lines Plasma Source RF Platen, P-100 (Hollow Cathode) Planar ICP 200 (8”) DC Bias: up to -500V Self Bias up to -1000 V external bias Base Pressure: 5x10-7 Torr 5x10-7 Torr Process Pressure: 0.02-8 Torr 0.001 Torr and up RF Power: 600 W, 1000W Optional 600W, or 1KW Vacuum Pump: 200 L/sec Corrosive Turbo 260 L/sec Corrosive Turbo/500 L/sec optional Mechanical pump: RV 12 with Fomblin Oil RV 12 with Fomblin Oil/Dry Scroll Pump Power: 110/220V 3Phase, 40/20A 110/220V 3Phase, 40/20

南通宏腾微电子技术有限公司为您提供ULTECHRIE反应离子刻蚀机RIE-8,ULTECHRIE-8产地为韩国,属于进口等离子体刻蚀设备,除了RIE反应离子刻蚀机的参数、价格、型号、原理等信息外,还可为您提供更多等离子体刻蚀设备,宏腾微电子设备客服电话400-860-5168转6134,售前、售后均可联系。

售后服务
  • 产品货期: 200天
  • 培训服务: 安装调试现场免费培训

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