型号: | PlasmaSTAR 200 |
产地: | 美国 |
品牌: | 埃斯科 |
评分: |
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AXIC PlasmaSTAR®
桶状等离子体处理的独特模块化方法
Axic公司的PlasmaSTAR®系列等离子体处理系统定义了桶状等离子体处理的新概念。该系统基于模块化设计概念。从通用基础单元开始,多个电极模块可轻松插入基础单元。您会发现易用性,各种等离子工艺,可维护性和有吸引力的价格是任何其他等离子无法超越的。
可互换电极模块
多种电极配置:笼,托盘,RIE,下游
经过验证的工艺配方
经过现场验证的组件
端点检测(可选)
自动射频匹配
下游压力控制(可选)
计算机控制
触摸屏操作
多种泵送方案
PlasmaSTAR 100
系统描述
在等离子体加工的研究、工艺开发和生产中,对高度通用和可靠的工具的需求一直是相当大的。随着等离子体研究需求的不断变化,所选择的系统必须能够提供最广泛的工艺参数,最高程度的可重复性,以验证工艺,并易于修改以满足新的工艺要求。PlasmaSTAR®系列干法处理系统将满足执行这些任务所需的苛刻要求。PlasmaSTAR®是一种等离子体工具,用于光刻胶的研究、工艺开发和批量生产,可用于各向同性和各向同性蚀刻、有机灰化、混合电路清洗、印刷电路板去屑、失效分析、塑料的表面处理和改性、聚合物沉积以及广泛的其他等离子体应用。
PlasmaSTAR®产品线为桶状等离子体系统提供了一种独特的新型模块化方法。PlasmaSTAR®可加工200毫米或更小的基板。(用于300mm晶圆的单晶圆RIE加工)选择经过验证的高质量组件,模块化子组件,通用腔室电极设计,紧凑的尺寸,自动化和现场验证的工艺配方将使PlasmaSTAR®成为等离子工艺工程师的“首选系统”。
PlasmaSTAR 200
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