导读:在2013全国表面分析科学与技术应用学术会议中,与会专家介绍了这些分析技术这些技术在电子器件、半导体、高分子材料、纳米材料、催化剂、薄膜材料等领域的应用情况。其中以XPS方法为主。
仪器信息网讯 2013年8月20-21日,“2013 全国表面分析科学与技术应用学术会议暨表面分析国家标准宣贯及X 射线光电子能谱(XPS)高端研修班”在北京举行。
X射线光电子能谱仪(XPS)与俄歇电子能谱(AES)是重要的表面分析技术手段。XPS在分析材料的表面及界面微观电子结构上早已体现出了强大的作用,它可用于材料表面的元素定性分析、半定量分析、化学状态分析,微区分析以及深度剖析(1-2nm)等。俄歇电子能谱(AES)主要检测由表面激发出来的俄歇电子来获取表面信息,它不仅能定性和定量地分析物质表界面的元素组成,而且可以分析某一元素沿着深度方向的含量变化。
此外,还有二次离子质谱,辉光放电光谱、扫描探针显微镜以及全反射X射线荧光光谱等表面分析技术。
会议现场
与会专家介绍了这些分析技术在电子器件、半导体、高分子材料、纳米材料、催化剂、薄膜材料等领域的应用情况。其中以XPS方法为主。
王金淑 谢芳艳
在电子器件、半导体领域的应用,北京工业大学王金淑采用X射线光电子能谱法对添加不同含量的氧化镧掺杂钼粉的性能以及可用于电真空器件的镧钼阴极的表面元素状态进行了研究。中山大学谢芳艳利用XPS为主要研究手段,研究了半导体器件能级结构、电极功函数调制、界面电荷转移和扩散、修饰层作用与器件寿命等问题。
郝建薇 田云飞
在橡塑材料、塑料分析中的应用,北京理工大学郝建薇利用XPS以45°掠角表征了硅橡胶/乙烯-乙烯乙酸(MVPQ/EVA28,VA含量28%)共混材料耐油耐热测试前后样品表面C、O、Si元素浓度的变化;采用变角XPS分别以10°、45°及80°掠角表征了以上共混材料耐热老化前后样品表面元素浓度随深度的变化。四川大学田云飞采用X射线光电子能谱对微等离子体处理后的工程塑料聚苯硫醚材料表面进行分析,并与Ar离子刻蚀后的材料表面进行了对比。
殷志强 吴正龙
X射线光电子能谱(XPS)在分析薄膜化学组分及其分布中有着重要的作用。清华大学殷志强介绍了表面分析技术在玻璃真空管太阳集热器和能效薄膜研究中的应用。北京师范大学吴正龙介绍了超薄氧化硅薄膜包覆纳米铜的SERS 基体的初步研究。
刘义为 陆雷
广东东莞新科技术研究开发有限公司刘义为利用AES表征了微区超薄类金刚石薄膜的性质和厚度测量、SP2含量、界面分析等。中国工程物理研究院陆雷利用SEM、AFM、AES和XPS对铍薄膜的表面形貌、O含量、Be薄膜同Cu基片间的扩散现象进行了研究。
严楷 王江涌
清华大学严楷运用俄歇电子能谱、原子力显微镜等分析方法,研究经过低地球轨道环境模拟装置对Au/Cu/Si薄膜样品进行紫外辐照处理的Au/Cu复膜表面和界面结构变化,追踪表面形态和界面层产物的分布,分析原子扩散过程。汕头大学王江涌介绍了溅射深度剖析的定量分析及其应用的最新研究进展。
高飞 叶迎春
原位分析也是XPS技术的一个研究热点。南京大学高飞认为准原位XPS(Ex-situ)分析在一定程度上可以解决常规XPS分析中的“Pressure Gap”的问题,结合相关表征手段,可以成为探究催化剂在反应条件下反应过程的有利工具。
中国石化上海石油化工研究院叶迎春利用近常压原位XPS研究了介孔氧化铈和棒状氧化铈负载贵金属在水煤气转化反应中氧化铈产生氧空位的能力。并通过原位XPS研究结合WGS催化反应数据,认识了Cu-Fe3O4-Al2O3催化剂在不同预处理条件下发生的不同化学过程。
钟发春 程斌
还有中国工程物理研究院钟发春利用XPS研究了PBX炸药、固体推进剂及锆粉点火剂的表面元素组成和结构特性;利用XPS的线扫描功能研究了不同老化时间的固体推进剂特征元素从推进剂-衬层的表面元素变化趋势;并利用XPS-MS联机技术可用于研究固体炸药材料在激光作用下的降解行为。北京化工大学程斌介绍了XPS在高分子材料鉴别、高分子共聚/共混物组成测定、高分子材料表面改性研究方面的应用。
邱丽美 徐鹏
中国石化石油化工科学研究院邱丽美利用XPS研究了稀土在分子筛笼内外的存在比例对催化性能的影响。国家纳米中心徐鹏介绍了分别将纤维状样品压片在金属In和导电胶带上进行测试,对XPS谱图的影响分析。
王海
XPS、AES、SIMS等表面分析技术因具有较强的基体效应而通常被认为是半定量的分析方法,很难对材料表面化学组成进行准确定量。因此,表面分析的量值溯源问题再国际上日益受到关注。中国计量科学研究院王海介绍说:“我国的表面分析计量研究始于‘十一五’期间,目前已参加了2项关键比对和3项研究性比对,都取得了不多不错的成绩。”
张增明 张毅
此外,中国科学技术大学张增明利用紫外可见分光光度计及光谱椭偏仪测量了薄膜样品在300-1000nm波长范围内的正入射时的透射谱,及68°、78°入射时的椭偏参数谱,并经过综合分析精确测定了不同薄膜的厚度及光学常数。薄膜厚度经过原子力显微镜测试及X射线反射等不同方法验证准确有效。
辉光放电光谱技术是基于惰性气体在低气压下放电的原理而发展起来的光谱分析技术。与其他表面分析技术如俄歇电子能谱(AES)、二次离子质谱(SIMS)相比,具有分析速度快,分析成本低等优势。宝钢集团张毅利用辉光放电光谱,通过光源条件实验,确定了最佳分析参数;选用多种基体标准样品,通过溅射率校正建立了标准工作曲线,定量分析钢铁材料表面纳米级薄膜或镀层中元素的含量及其元素分布状况。(撰稿:秦丽娟)
来源于:仪器信息网
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