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滨松发布滨松辅助离子化基板DIUTHAME新品

导读:近日,滨松光子学商贸(中国)有限公司在仪器信息网发布滨松辅助离子化基板DIUTHAME新品

滨松发布滨松辅助离子化基板DIUTHAME新品

滨松多孔氧化铝制作的辅助离子化基板DIUTHAME(Desorption Ionization Using Through Hole Alumina MEmbrane),可大幅缩减质谱成像分析时待测样品进行离子化所需的前期处理的时间。只要将本产品放置在待测样品上,就能完成质量分析的前期处理,与目前主要的离子化方法之一基质辅助激光解析电离(Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization、下面简称MALDI)方法相比,它将前期处理时间缩短到十分之一。因此可以用在市场上已有的MALDI-TOF-MS设备,主要面向目前正在使用MALDI-TOF-MS设备的制药、工业领域的国内外企业以及大学研究人员。


滨松发布滨松辅助离子化基板DIUTHAME新品


特点

1、将质谱成像分析的前期处理时间缩短为十分之一
因只要将本产品放在待测样品上就可以完成质谱成像分析的前期处理工程,将原本MALDI需要30分钟处理时间缩短为3分钟左右。

2、实现高质量的质谱成像分析
只要将本产品放在待测样品上就可以完成质谱成像分析的前期处理,不需要像MALDI中需要熟练地将基质均匀涂抹。因此,不会出现前期处理中随机误差,以及获得比MALDI的质谱成像更高的重现性。

3、 高精度测量低分子
本产品不使用像MALDI与待测样品一起离子化的小分子基质,因此,它可对工业材料、兴奋剂禁药等的MALDI无法测定低分子进行高精度的测量。


主要规格


滨松发布滨松辅助离子化基板DIUTHAME新品

创新点:

滨松多孔氧化铝制作的辅助离子化基板DIUTHAME(Desorption Ionization Using Through Hole Alumina MEmbrane),可大幅缩减质谱成像分析时待测样品进行离子化所需的前期处理的时间。只要将本产品放置在待测样品上,就能完成质量分析的前期处理,与目前主要的离子化方法之一基质辅助激光解析电离方法相比,它将前期处理时间缩短到十分之一。因此可以用在市场上已有的MALDI-TOF-MS设备,主要面向目前正在使用MALDI-TOF-MS设备的制药、工业领域的国内外企业以及大学研究人员。

滨松辅助离子化基板DIUTHAME

来源于:仪器信息网

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滨松发布滨松辅助离子化基板DIUTHAME新品

滨松多孔氧化铝制作的辅助离子化基板DIUTHAME(Desorption Ionization Using Through Hole Alumina MEmbrane),可大幅缩减质谱成像分析时待测样品进行离子化所需的前期处理的时间。只要将本产品放置在待测样品上,就能完成质量分析的前期处理,与目前主要的离子化方法之一基质辅助激光解析电离(Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization、下面简称MALDI)方法相比,它将前期处理时间缩短到十分之一。因此可以用在市场上已有的MALDI-TOF-MS设备,主要面向目前正在使用MALDI-TOF-MS设备的制药、工业领域的国内外企业以及大学研究人员。


滨松发布滨松辅助离子化基板DIUTHAME新品


特点

1、将质谱成像分析的前期处理时间缩短为十分之一
因只要将本产品放在待测样品上就可以完成质谱成像分析的前期处理工程,将原本MALDI需要30分钟处理时间缩短为3分钟左右。

2、实现高质量的质谱成像分析
只要将本产品放在待测样品上就可以完成质谱成像分析的前期处理,不需要像MALDI中需要熟练地将基质均匀涂抹。因此,不会出现前期处理中随机误差,以及获得比MALDI的质谱成像更高的重现性。

3、 高精度测量低分子
本产品不使用像MALDI与待测样品一起离子化的小分子基质,因此,它可对工业材料、兴奋剂禁药等的MALDI无法测定低分子进行高精度的测量。


主要规格


滨松发布滨松辅助离子化基板DIUTHAME新品

创新点:

滨松多孔氧化铝制作的辅助离子化基板DIUTHAME(Desorption Ionization Using Through Hole Alumina MEmbrane),可大幅缩减质谱成像分析时待测样品进行离子化所需的前期处理的时间。只要将本产品放置在待测样品上,就能完成质量分析的前期处理,与目前主要的离子化方法之一基质辅助激光解析电离方法相比,它将前期处理时间缩短到十分之一。因此可以用在市场上已有的MALDI-TOF-MS设备,主要面向目前正在使用MALDI-TOF-MS设备的制药、工业领域的国内外企业以及大学研究人员。

滨松辅助离子化基板DIUTHAME