软件优化带动直写技术突破工艺极限——访GENISYS公司亚太总监陈利奇

仪器信息网讯 8月29日，全国半导体设备和材料标准化技术委员会微光刻分技术委员会第四届微光刻分委会年会暨第十三届微光刻技术交流会在青岛成功召开。

会议期间，仪器信息网特别采访了GENISYS公司亚太总监陈利奇。据了解，GENISYS公司是一家位于德国慕尼黑的软件供应商，通过软件优化帮助硬件厂商（高端电子束、激光直写等）解决问题，优化微纳加工工艺，广泛应用于半导体器件、光学（波导、光子晶体、量子计算等）等领域。

陈利奇向我们透露，用户在做不同的应用和器件时，所需设备的功能也不同，GENISYS会针对每台不同的设备进行软件优化，帮助客户实现应用上的突破，比如能够突破直写尺寸限制，线粗糙度优化限制，通过软件内置的临近效应修正，数据处理等功能实现光通讯、半导体等器件的性能优化。

陈利奇认为未来国内软件会迎来高速发展。过去20年，国内企业大部分专注于硬件开发，随着硬件成熟会遇到和国外类似的情况。如何再把硬件的性能提高？此时在物理层面上硬件技术无法突破的地方，就能够通过软件来提供更优方案。

以下为现场采访视频：