仪器对比
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规格：
-样品尺寸：max.4"( 更大尺寸更选)
-wafer 厚度:<2.0mm
-Table travel 方式：手动（option:半自动，全自动）
特点：
- 光源强度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系统控制：手动、半自动和全自动控制；
- 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盘范围可调；
- 专利技术：双面对准！
- 双显微镜成像系统
-可提供 在线/非在线型光刻机/紫外曝光机，样品尺寸可根据客户需要定制。
主要应用：
－实验室及小系列生产
－Si-Wafer and GaAs or InP Processing
-MEMS and 光电子
-FPD(TFT-LCD,OLED)
-LED
-Micro waves
.......
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光刻机/紫外曝光机信息由南京伯奢咏怀电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于光刻机/紫外曝光机报价、型号、参数等信息，McScience中国代表处客服电话：400-860-5168转1730，欢迎来电或留言咨询。
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