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光刻机/紫外曝光机

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品牌

暂无

型号

IMA

产地

其他未知

应用领域

暂无
该产品已下架
规格:
-样品尺寸:max.4"( 更大尺寸更选)
-wafer 厚度:<2.0mm

-Table travel 方式:手动(option:半自动,全自动)

 

 特点:

- 光源强度可控;
- 紫外曝光,深紫外曝光(Option);
- 系统控制:手动、半自动和全自动控制;
- 曝光模式:真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式;
- 真空吸盘范围可调;
- 专利技术:双面对准!
- 双显微镜成像系统

-可提供 在线/非在线型光刻机/紫外曝光机,样品尺寸可根据客户需要定制。

主要应用

-实验室及小系列生产

-Si-Wafer and GaAs or InP Processing

-MEMS and 光电子

-FPD(TFT-LCD,OLED)

-LED

-Micro waves

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