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原子层沉积系统PICOSUN™P300S 介绍：
The PICOSUN™ P-300S型原子层沉积系统是一款批量生产型设备，用于加工IC部件，例如：微处理器、存储器、硬盘；并可加工打印读头、传感器和麦克风等各种MEMS器件。PICOSUN™ P-300系统已经成为高产能ALD制造业的新标准。拥有专利的热壁、完全独立的前驱体管路和特殊的载气设计，确保我们可以生产出具有优异的成品率、低颗粒水平和卓越的电学和光学性能的高质量ALD薄膜。高效紧凑的设计使得维护更加方便、快捷，最大限度的减少了系统的维护停工期和使用成本。拥有专利技术的Picoflow™使得在超高深宽比结构上沉积保形性薄膜更高效，并已在生产线上得到验证。PICOSUN™ P-300S系统代表了最尖端的工业化ALD工艺。这个系统是为全自动的批量生产而设计，并与工业标准化的真空集群平台相结合进行单片操作。P-300S系统通过SEMI S2/S8认证，可以通过SECS/GEM整合到自动化生产线上，并能满足半导体行业最严格的清洁要求。The PICOSUN™ P-300S是IC行业创新驱动企业的首选ALD系统！
原子层沉积系统PICOSUN™P300S 技术参数：
| 衬底尺寸和类型 | 最大300mm单片晶圆 高深宽比基底（最大深宽比1:2500） |
| 工艺温度 | 50 – 500°C |
标准工艺 | 批量生产的平均工艺时间小于10秒/循环* Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN,TiN以及各种金属 同一批次薄膜不均匀性<1% 1σ (Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)** |
基片装载 | 预真空室安装磁力操作机械手 全自动装载，Picoplatform™ 200或Picoplatform™ 300真空集群系统 通过集群系统进行盒对盒式FOUP装载氮气柜装载 |
前驱体 | 液态、固态、气态、臭氧源 源瓶余量传感器，提供清洗和装源服务 6根独立源管线，最多加载12个前驱体源 |
原子层沉积系统PICOPLASMA™技术的关键优势：
· 对衬底无等离子损伤
· 导电材料不会产生短路现象
· 无前驱源背扩散→等离子发生器无薄膜形成
· 等离子体点火期间无压力振荡→无颗粒形成
· 等离子体源与衬底之间无闸门阀→无颗粒形成
· 等离子体源材料无刻蚀→金属和氧化物薄膜低杂质
· 简单和快速服务并通过维护舱口改变腔室
· 无硬件修改使热ALD和等离子ALD工艺在同一沉积腔室中进行成为可能
| 用户单位 | 采购时间 |
|---|---|
| 清华大学 | 2015-01-01 |
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