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NANOVEA的表面测量系统适用于研发和生产过程控制中的定性和定量测量，测量分辨率达到纳米级，其强大且友好的软件控制使所需获得的数据不仅速度快，而且精度高，并提供了多种不同的表面分析方法，与系统匹配的软件包含参数设定(如扫描尺寸、线数、步进、转换台速度、数据采样速度)和数据后处理功能(如快速傅立叶变换、自相关功能、三维成像、二维切片成像等) ，可以定量地测量表面粗糙度及关键尺寸，诸如晶粒、膜厚、孔洞深度、长宽、线粗糙度、面粗糙度等，并计算关键部位的面积和体积等参数。
该仪器采用白光轴向色差原理（性能优于白光干涉轮廓仪与激光干涉轮廓仪）对样品表面进行快速、重复性高、高分辨率的三维测量，测量范围可从纳米级粗糙度到毫米级的表面形貌，台阶高度，给MEMS、半导体材料、太阳能电池、膜厚、光学元件、陶瓷和先进材料的研发和生产提供了一个精确的、价格合理的计量方案。
技术参数：
垂直测量范围 27mm
垂直分辨率 2nm
X-Y扫描速度 10mm/s
横向X-Y轴分辨率 0.1μm
扫描范围（XYZ） 50*50*30mm
主要特点：
特点：
?性价比高，科研单位与资金不足企业的最佳选择
?结构紧凑
?应用范围广
?用于替代探针式轮廓仪和激光轮廓仪
?采用白光轴向色像差技术，可获得纳米级的垂直分辨率
?测量具有非破坏性，测量速度快，精确度高
?测量范围广,可测透明、半透明、低反射率、抛光、粗糙材料(金属、玻璃、木头、合成材料、光学材料、塑料、涂层、涂料、漆、纸、皮肤、头发、牙齿…)
?不受环境光的影响
?不受样品反射率的影响
?适合测量高坡度(85o)的表面
?样品无需特殊处理
?Z方向最大测量范围为27mm
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