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仪器简介：
光刻机/紫外曝光机 (Mask Aligner)
原产国: 韩国MIDAS公司
型号：MDA-400M, MDA-400LJ，MDA-600S
又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机，紫外曝光机等；
MIDAS为全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上最早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；以优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
感谢南开大学，中科院半导体所,中科院长春应化所，中科院物理所，浙江师范大学使用此设备做课题研究！！
此型号光刻机是所有进口设备中性能价格比最高的型号，达到欧美品牌的对准精度，CCD显示屏对准更为方便，液晶触摸屏操作，采用Ushio紫外灯或者LED光源，寿命长。整机效果皮实耐用，正常使用3年内不会出问题！！
技术参数：
项目 | 技术规格 | |
曝光系统 | 光源功率 | 350W 紫外光源及电源 品牌：Ushio，使用寿命保证1000小时
*也可以采用LED光源，使用寿命保证10000小时
*以上两种光源需选择一种 |
分辨率 | - 真空接触模式 : 1um ( Thin PR@Si Wafer ) - 硬接触模式 : 1um - 软接触模式 : 2um - 20um 渐进模式: 5um | |
最大光束尺寸 | *4.25×4.25 inch | |
光束均匀性 | *≤ 3% (4inch standard) | |
光束强度 | >max 30mW/cm2 (365nm Intensity) | |
曝光时间可调整 | 0.1 to 999.9 sec | |
对准系统 | 对准精度 | 0.5um |
对准间隙 | 手动调节 | |
光刻模式 | 真空,硬接触，软接触，渐进模式 | |
卡盘水平调节 | 楔形错误补偿 Wedge Error Compensation (专利技术) | |
真空卡盘移动范围 | *X, Y: 10 mm, Theta: ±5° | |
Z向移动范围 | *10mm | |
接近调整步幅 | 1um | |
整体对准移动 | *气动式，前后纵向移动 | |
显微镜及显示器 | 显微镜及显示器 CCD and Monitor | *双CCD显微镜，Dual CCD zoom microscope 17寸LCD显示器 ，放大倍数 : 80x ~ 480x; |
样品 | 尺寸大小 | 2, 3, 4 inch |
掩模板尺寸 | 4 and 5 inch | |
安装要求 | 真空 Vacuum | < -200 mbar (*包含进口无油真空泵) |
压缩空气 CDA | > 5Kg/cm2 | |
氮气 N2 | >3Kg/cm2 | |
电力 Electricity | 220V, 15A, 1Phase | |
1）高分辨光刻，至1um水平；
2）可使用各种掩模板，小尺寸~4英寸均可用；再大尺寸，可以定制化服务。
3）特殊的基底卡盘可定做；
4）高精度对准台及显微镜操纵器；
5）用于不同紫外曝光的高强度光学装置；
6）用于楔形补偿的空气方位系统；
7）所有部件均可接触；
8）符合人体工程学操作；
9）低成本，高品质；
10） *两年保修
主要特点：
- 光源强度可控；
- 紫外曝光，深紫外曝光(Option)；
- 系统控制：手动、半自动和全自动控制；
- 曝光模式：真空接触模式(接触力可调),Proximity接近模式, 投影模式；
- 真空吸盘范围可调；
- 专利技术：可双面对准，可双面光刻，具有IR和CCD模式
- 两个CCD显微镜系统，最大放大1000倍，显示屏直接调节，比传统目镜对准更方便快捷，易于操作。
- 特殊的基底卡盘可定做；
- 具有楔形补偿功能；
1年
是
有
1次免费培训
3月1次
免费维修免费更换部件
2小时响应
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