输入电源 | 220VAC 50/60Hz, 单相 800W (包括真空泵)
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等离子源 | 一个300W,13.5MHz的射频电源安装在移动柜内 (点击图片查看详细资料) |
磁控溅射头 | |
真空腔体 | 真空腔体:160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H,采用高纯石英制作 密封法兰:直径为165 mm . 采用金属铝制作,采用硅胶密封圈密封 一个不锈钢网罩住整个石英腔体,以屏蔽等离子体 真空度:10-3 Torr (采用双极旋片真空泵) 10-5 torr (采涡旋分子泵)
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载样台 | |
真空泵 | 我公司有多种真空泵可选,请点击图片,或是致电我公司销售
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薄膜测厚仪 | |
外形尺寸 | |
质保和质量认证 | |
使用注意事项 | 这款2英寸的射频溅射镀膜仪主要是用于在单晶基片上制备氧化物膜,所以并不需要太高的真空度 为了较好地排出真空腔体中的氧气,建议用5%H2+95 %N2对真空腔体清洗2-3次,可有效减少真空腔体中的氧含量 请用纯度大于5N的Ar来进行等离子溅射,甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水,所以建议将钢瓶中的惰性气体通过净化系统过后,再导入到真空腔体内
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