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. 1适用于铟等金属材料的蒸发镀膜2. 由真空镀膜室、蒸发源、工件架、分子泵真空获得和测量系统、膜厚控制仪、机架及电气控制系统等组成3. 配置多组蒸发源,均有电动挡板,多个水冷电极,蒸发源交替使用4. 工件架可放置不同尺寸样品,镀膜均匀性良好,蒸发距离较远,转速连续可调,样品盘水冷
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