1/1

SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统

报价 ¥100万 - 200万

品牌

暂无

型号

E200P 双反应腔+6路进气口

产地

中国大陆广东

应用领域

暂无

国产

Exploiter  E200P原子层沉积系统(粉末颗粒包裹反应腔)是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统,可在平面衬底、粉末颗粒表面、高深宽比结构及其他复杂三维结构上沉积薄膜。原子层沉积系统 E200P广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域,其特点在于:

双反应腔:Φ200mm + 粉末颗粒包裹腔

6路进气口:3路前驱体源 + 3路反应气源


邮箱:

电话:

           

           

地址:深圳市宝安区新安街道兴东社区优创空间1号楼511-513

           41776 Fremont Blvd, Fremont CA 94538, USA


查看全部
发布心得活动

暂无评论,点击发布评论

SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统信息由深圳市原速科技有限公司为您提供,如您想了解更多关于SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统报价、型号、参数等信息,原速科技客服电话:400-860-5168转5051,欢迎来电或留言咨询。

相关产品