SUPERALD Exploiter原子层沉积（ALD）系统
报价 ¥100万 - 200万
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Exploiter原子层沉积系统是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统，适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生产。
1、产品特色
（1）传输管路的优化设计，有效地避免管路堵塞及交叉污染问题
（2）工业化级别标准集成：PLC+工控机+触摸屏
（3）软件操作界面友好，可真正实现“一键沉积”
（4）完善全面的安全互锁方案
（5）实时监测镀膜工艺
2、可制备的材料种类
（1）氧化物：Al2O3、TiO2、SiO2、HfO2、Ta2O5、ZrO2、ZnO、SnO2、La2O3、Lu2O3等
（2）金属材料及合金：Fe、Co、Ni、Cu、Ag、Au、Ru、Pt、Ag、Au等
（3）二元/多元材料：AlN、HfON、LaAlO3、MnN、WN等
（4）纳米层压材料：(Al2O3/ZrO2)n等
3、技术指标
（1）本底真空：＜5.0×10-3torr，高性能机械泵（可定制其它款型）
（2）样品腔室：Φ200mm基片反应腔（可定制其它款型）
（3）9路进气口：6路前驱体源 + 3路反应气源
（4）沉积温度：室温-500℃（可定制其他温度）
（5）前驱体管道温度：室温-120℃（可定制其他温度）
（6）源瓶加热温度：室温-120℃（可定制其他温度）
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41776 Fremont Blvd, Fremont CA 94538, USA
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