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CMP研磨抛光系统
精密研磨抛光系统是生产商英国logitech公司发布的一款适用于科学研究水平的研磨和抛光机型，该机型是PM5型的升级版。能够完成4英寸及以下尺寸样品的小批量处理，整个过程全封闭控制，并内置自清洗功能，提升对操作人员的安全保护；全部采用电脑程序控制，可实现数据传输、工艺存储及数据实时监控与反馈等功能。
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