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G-30D4型高精密单面光刻机
产品介绍：
设备概述:
本设备为我公司专门针对各大、中、小型企业的使用特性而研发的一种高精密双面光刻机，它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、声表面波器件的研制和生产,它具有生产效率高、结构简单、操作维护方便等优势，本机不仅适合4英寸以下各型基片的曝光，也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光以及非圆形基片和小型基片的曝光。
主要构成
主要由防震工作台、LED专用曝光头、气动系统、电气控制系统、真空管路系统、直联式真空泵及附件箱等组成。
1. 适用范围
Φ100mm以下，厚度(包括非圆形基片2. 结构
3. 操作简便
4. 设备运行稳定、可靠
5. 特设功能
的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题
主要技术指标
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1、曝光类型：双面，一次同时曝光(配置4″LED专用曝光头)2、曝光面积：110×110mm；
3、曝光照度不均匀性：≤±3%；
4、曝光强度：0～30mw/cm2可调；
5、紫外光束角：≤3?；
6、紫外光中心波长：365nm；
7、紫外光源寿命：≥2万小时；
8、工作面温度：≤30℃
9、采用电子快门；
10、曝光分辨率：2μm(曝光深度为线宽的10倍左右)
11、曝光方式：接触式曝光；
12、掩模版尺寸：≤127×127mm；
13、基片尺寸：≤ Φ100mm;
14、基片厚度：≤5 mm；
15、曝光定时：0～999.9秒可调；
1年
是
有
免费安装培训
质保期内免费仪器保养
质保期内免费非人为损坏免费维修
24小时内到达现场并维修
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