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Microworks的TALINT EDU系统是一款结构紧凑、物美价廉的TALbot干涉仪套件。它是X射线Talbot-Lau干涉仪的巧妙简化形式，包括了建立和微调干涉仪所有必要的硬件，通过相位步进步骤来获得三种成像模式应用：吸收成像、相衬成像和暗场成像。
使用者可以在不到半小时的时间内快速组装。对于这个简化的系统来说，图像采集是手动的，在相位步进过程中获得的图像非常适合于图像分析科学家。
- TALINT EDU包装一览 -
Talint-EDU 套件主要参数
套件规格
| 套件尺寸 | 60cm x15cm x20cm |
| 安装 | EDU套件底板为M6螺孔，孔间距25mm的面包板，可安装于用户的光学平台或任何适合 25mm 间距的装置 |
| G0-G1和G1-G2距离 | 29cm，通过精密定位销固定；对称安装 |
| 方案1：所有3个光栅角灵敏度的设计能量周期（光栅周期超过光栅间距） | 40 keV 6.0 μm 21 μrad |
| 方案2：所有3个光栅角灵敏度的设计能量周期 | 21 keV 4.8 μm 16 μrad |
| 典型值>15% |
光栅组选项 （含3块光栅）
| 标准规格参数 | 设计能量-40 keV | 设计能量-21 keV |
| 光栅周期（3块） | 6.00μm | 4.80μm |
| G0 G2 吸收材料及高度 | 金＞150μm | 金＞50μm |
| G0 G2 光栅占空比 | 0.55（容差范围0.5-0.6） | 0.55（容差范围0.5-0.6） |
| G0 G2 光栅衬底 | 石墨 400μm | 石墨 400μm |
| G1 相移材料及高度 | Gold 7.7 μm (40 keV) | Nickel 7.4 μm (21 keV) |
| G1 光栅占空比 | 0.5（容差范围0.45-0.55） | 0.5（容差范围0.45-0.55） |
| G1 光栅基底 | 硅 200μm | 硅 200μm |
| 视场范围（样品） | 35mm | 35mm |
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应用示例
1. CFRP拉伸试验试棒
吸收像
相位像
暗场像
- 相衬成像增强了空腔折射信号的成像衬度
- 暗场成像增强了由纤维束引起的散射信号的成像衬度
2. 裂纹损伤
吸收像 暗场像
- 暗场成像增强了发丝状裂纹散射信号的成像衬度
3. 3D打印钛波纹管
照片
吸收像
暗场像
- 暗场成像增强了残留粉末散射信号的成像衬度
1年
是
有
不限人次交货时现场培训
质保期内免费保养
质量保证期内提供保修（人为破坏因素、遇不可抗力或使用不当除外）
24小时内做出响应，提出解决方案，如有必要，48小时内上门
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