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桌面式磁控溅射仪 英国Korvus(兼容手套箱)

报价 面议

品牌

Korvus Technology

型号

HEX-L50

产地

欧洲英国

应用领域

暂无

一、   产品简介

      KORVUS HEX系列PVD真空镀膜系统采用开放式架构,高度模块化,能够提供多种沉积选项。基于基础系统,通过配置不同的模块,可以在一台设备上同时实现真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。这种独特设计操作简单,易于安装,为科研人员提供了一个非常具有成本效益的解决方案。

二、   产品特性:

模块化设计,可根据用户应用需求更换,真空腔体也可以模块化组合

兼容磁控溅射,电子束蒸发,热蒸发多种沉积技术

适用于科研用户

可与手套箱集成

占地面积小

三、   主要指标

模块化设计,由快速可拆换的六块独立板面形成真空腔室 (盲板、可视窗口、溅射源窗口、QCM窗口)

四种溅射源:磁控溅射;电子束蒸发源 、热蒸发、有机物蒸发源

抽真空速度快 (20分钟内达到 5*10-6Torr)

适用于6英寸及以下尺寸样品

多种工作台可选,可选配 2-20 rpm旋转台、500℃加热台,旋转加热台、水冷台、直流偏压等

可集成膜厚测量功能,

兼容手套箱系统

可配备快速进样腔(选配)

可配备原位监测选件:热成像,原位等离子体谱,石英晶振

系统占地空间小,约1m2

四、主要应用

化学催化

电极薄膜制备

金属半导体薄膜制备

磁性薄膜制备

微纳米器件

光学器件

   五、 PVD热源简介

(1) FISSION磁控溅射源

热源1.jpg

    Fission磁控溅射源能够快速、无污染地沉积金属或介电薄膜。水冷和气体连接采用快速释放连接器,并消除了每次从腔室中移除源时排放冷却水的危险和不便。Fission 源可以在 DC 模式和 RF 模式下运行。可以引入气体,允许在靶材表面附近实现更高的分压,从而降低沉积过程中所需的整体腔室压力。磁控溅射可用于溅射所有(固体)金属、绝缘体和半导体。可以在一个系统中使用多个来源以生长多层或复合材料薄膜

- 靶材尺寸:50mm(2”)

- 最大靶材膜厚:6mm(1mm厚强磁体)

- 直流电源:780W(600V,1.3A)

- 射频电源:300W(13.56MHz)

- 气体补偿:通过内置气罩

- 冷却:水冷(最小0.5L/min)


2TAU电子束蒸发器

热源2.png

    TAU 蒸发源非常小巧,无需使用光束弯曲的电磁铁。TAU可以直接轰击靶材棒,也可以轰击位于坩埚里金属材料。TAU 仅被推荐用于厚度从亚原子厚度到 200 纳米的金属薄膜蒸镀。

工艺腔热源数:4

工艺腔单个热源最大功率:250W

蒸发材料:圆棒(最大直径4mm)或置于坩埚中

是否支持同时蒸镀:支持

冷却:水冷(最小0.5L/min


3ORCA有机材料沉积源

热源3.jpg

    材料在低温 (50-600℃) 下的蒸发需要设计为在此范围内运行的专用热源。传统的蒸发源可在 >1000℃ 的温度下最有效地运行,这要求将传导热损失保持在最低水平。在较低温度下,辐射损耗显着降低,传统电池中的控制回路会出现过冲和缓慢的温度变化。

        ORCA 低温蒸发源采用主动冷却坩埚,以确保加热过程与强烈的反向冷却过程相平衡,从而实现出色的温度稳定性和控制。

    坩埚由高导热材料制成,确保不会出现会影响蒸发速率的热点。可选地,可以使用氧化铝或石墨材料。移除/更换坩埚非常简单。

         K 型热电偶插入坩埚主体,与典型的接触式布置相比,可提供更准确的读数。

该沉积源可与电子束源、热蒸发源或溅射源结合使用。采用冷却的屏蔽帽将热串扰保持在最低限度。

坩埚容积:15cc

温度范围:50-600℃

热电偶:K

电源:直流

冷却:水冷(最小0.5L/min


4TES舟型热蒸发源

热源4.png

    热蒸发不需要工艺气体,因此该工艺可以在非常高的真空条件下进行,极少的杂质会被沉积到薄膜之中。热蒸发可以很方便补充要蒸发材料。材料可以是颗粒、粉末或涂层线圈/细丝的形式。蒸发皿和灯丝也可以轻松高效地进行更换。每个源都可以配备手动或自动快门。HEX 腔室最多可容纳三个源,HEX-L 最多可容纳六个。这些热源还可以与其他技术结合使用,例如溅射、电子束沉积和低温有机物沉积源。

舟型载体容积:1cc-5cc

温度范围:50℃-2200℃

电源:直流(1.2kW

  六、 样品台简介

Korvus-样品台.png  七、 操作软件简介

Korvus-软件.png  八、 快速降压及配件展示

Korvus-快速降压及配件.png

  九、 手套箱集成展示

Korvus-手套箱集成.png


          Korvus Technology 在高真空和超高真空领域拥有 超过 20 年的经验。Korvus Technology 在全球安装  100 多个 HEX 系列系统,始终处于 PVD 行业的 前沿。Korvus 现在是 Judges Scientific 集团的一部 分,同时仍然是一家独立运营公司。这使得 Korvus 能够灵活应对客户的研究挑战,并延续其以客户为 中心的文化。



售后服务

200天

1年

安装调试现场免费培训

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