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裕隆时代向用户提供性能优越的ArFab100氩离子抛光仪，为电镜、电子探针、原子力显微镜样品进行无损截面制备。
适用范围：新能源材料、非常规能源、半导体、芯片、制药等行业。
大尺寸切抛合一的纳米加工系统
性能优势
一套系统兼具离子平面抛光和离子切割功能，操作简捷
动态离子切割技术，实现样品的往复平移和旋转，最大切割长度达10mm，有效减少投影/遮挡效应
超大平面抛光装载尺寸25x25mm（直径X高度），为原位试验等大尺寸样品试验提供可能
能量0.5-10KV连续可调，既可满足低能区减少非晶层，又可兼顾高能区，大幅提高制样效率
10英寸彩色触屏，全中文图像用户界面，方便快捷的参数设置，可远程控制
样品适用性
无论软硬，多孔或致密，脆性或韧性，热敏感，或非均质多相复合型材料，都可获得高质量无损切割界面
切割模式采用独创的微型多轴动态离子切割台，样品切割长度可达10mm
应用案例
离子平面抛光后的页岩截面，揭示样品表面纳米级孔隙，左图为无机孔，右图为有机孔。SEM图像，石油地质。
离子切割后的手机柔性屏幕内部结构和材料特征。半导体领域
离子切割后的电池材料截面，揭示其内部结构。左图为电池阳极几篇，右图为电池隔膜。SEM图像，能源材料领域
左图：离子切割后芯片内部结构，右图：离子平面抛光后芯片内部结构。SEM图像，半导体芯片领域。
平面抛光后LED焊盘结构。SEM图像，半导体光电领域
低电压平面抛光后的合成材料EBSD结构。EBSD图像，新材料领域。
技术参数
离子枪 | |
离子枪 | 配备两支独立离子枪，可选单枪或双枪模式 |
加速电压 | 0.5-10KV连续可调 |
工作束流 | 0.5-7mA连续可调 |
抛光速率 | 200um/h（10KV，硅样品） |
样品台 | |
抛光样品尺寸 | 25X25mm（直径x高）样品台 |
切割样品尺寸 | 50x10x35mm（长x宽x高） |
旋转速度 | 10-3600/S |
抛光角度 | 0-200连续可调 |
真空系统 | |
真空系统 | 两级真空，无油涡旋干泵，支持80L/S涡轮分子泵 |
工作真空 | 9X10-5 mbar |
极限真空 | 5X10-7 mbar |
真空规 | 全量程（常压到高真空）冷阴极真空规 |
用户界面 | 10英寸触屏，中文操作界面，简洁方便，可远程控制 |
电源要求 | 90-264VAC，600W |
1年
是
有
有
1年
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