德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备
报价 面议
仪器对比
关注
该PECVD系统可以沉积高质量SiO2薄膜、Si3N4薄膜、类金刚石薄膜、硬质薄膜、光学薄膜等。
主要技术参数：
PC控制软件
RF发生器 0~3000W 脉冲模式
腔体防腐处理，400*400*1500mm,240L
腔体加热80℃
带观察窗
多路工艺气体通道，MFC控制 防腐处理
HMDSO单体通道
易燃易爆气体安全阀
Gas Shower气浴电极
设备外尺寸2000*600*1700mm
进口真空泵组
电压 3项400V
-
等离子清洗机用于玻璃行业材料 2022-01-12
-
等离子体在钟表和珠宝行业中的应用地矿 2021-08-27
- 相关仪器
- 相关资料
德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备信息由上海尔迪仪器科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于德国Diener PECVD等离子体化学气相沉积设备报价、型号、参数等信息，尔迪仪器客服电话：400-816-7838，欢迎来电或留言咨询。
相关产品
