化学气相沉积（CVD）

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化学气相沉积设备（Chemical Vapor Deposition，简称CVD）是一种常用的薄膜制备方法，主要用于制备高质量、高稳定性、均匀性好的薄膜。在CVD过程中，将气态前体物质引入反应室，通过热源或光源将气态前体物质分解成反应物，在衬底表面形成薄膜。 CVD 设备通常由反应室、供气系统、加热系统、真空泵、气体流量计等组件构成。反应室通常采用高温陶瓷、石英等材料制造，具有耐高温、耐腐蚀、不易产生二次污染等特点。供气系统可提供多种气体，如源气、载气、惰性气体等，可以调节各种气体的流量和比例，以精确控制反应条件。加热系统通常使用电阻加热片或石墨坩埚等材料，可以提供高温环境，帮助分解气态前体物质。真空泵则用于将反应室内的气体排除，保证反应环境的纯净度。同时，为了保证反应室内的温度、气体流量和压力等参数的准确测量和控制，CVD设备通常还装配有计算机控制系统。 化学气相沉积设备具有简单易操作、生产效率高、薄膜均匀性好等优点，在材料学、电子学、光学等领域得到广泛应用。

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