使用65度入射角ATR的硅晶片表面的FTIR分析

2023/07/06   下载量: 0

方案摘要

方案下载
应用领域 材料
检测样本 光学材料
检测项目
参考标准 /

使用65度入射角ATR评价硅晶片表面

方案下载
配置单
方案详情

对于最常见的配置45度入射ATR,具有高折射率的Si晶片的样品的测量是困难的,因为这种配置不满足ATR测量所需的全反射条件。随着最近开发的单反射65度入射ATR(图1),具有高折射率(n=4.0)的Ge晶体被用于棱镜,并且光到样品的入射角被设置为65度,从而获得最上面的信息,并提供对具有高折射系数的样品的测量,例如Si(折射率=约3.4)和折射率可以为2.8或更高的炭黑填充橡胶。(见表1:JASCO FT/IR应用数据280-AT-0003)

应用中的这些结果表明,使用65度入射ATR能够获取无法通过使用透射方法确定的样本表面上的信息。


上一篇 HPLC 中的采样频率、响应时间和柱外效应
下一篇 通过偏振ATR附件测量取向膜和液晶分子

文献贡献者

推荐方案
更多

相关产品

当前位置: 仪器信息网 JASCO 方案 使用65度入射角ATR的硅晶片表面的FTIR分析

关注

拨打电话

留言咨询