| 型号： | nRad |
| 产地： | 美国 |
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进口纳米狭缝涂布机 高性能槽模涂层研发系统
型号：nRad
该仪器为小型研究纳米材料的狭缝涂布提供了高效高精度的试验机台，机台尺寸小。
“狭缝涂布精密成膜装备系统”是一个高端先进制造业项目，其成膜技术可在玻璃、塑料、不锈钢等基体上精确涂布制备功能纳米、微米薄膜，在许多光电领域，如平板显示、触摸屏、薄膜太阳能电池、半导体元器件及封装、柔性及印制电子、智能玻璃等，有着非常广泛的应用。
特点：
高效的材料利用率和最少的浪费
基于槽模的沉积技术
涂布厚度范围：从20nm到100μm
均匀度为 ±3％，
效率高/材料利用率高:材料利用率可达95%
从研发到小批量试制、大量生产满足不同需求
支持各种基材（刚性或柔韧性、玻璃、塑料、金属箔、硅片）
适用于各种应用（平板显示器、触摸屏、光伏（薄膜和硅）、柔性电子产品、光学薄膜）
研发体系中无与伦比的性能和价值
专有设计在小型封装中提供可靠的性能
简单而灵活的设计和操作，能够为各种应用沉积各种材料
紧凑型系统与大多数标准手套箱和实验室台面兼容
全自动涂层工艺通过配方可编程参数控制
线性伺服电机驱动的空气轴承级确保平稳运行和准确的涂层
用户友好的控制与板载触摸屏和基于PC的软件
极低的填充量非常适合测试小样本材料
可编程涂层间隙（微米分辨率）测量并调整每个处理的基板
可编程的引发步骤，以在沉积在基板上之前立即建立涂层珠
流程优势
槽模涂布技术使涂布液的利用率最大化，而不会产生与替代方法相关的浪费
有效利用材料可最大限度地减少对环境的影响和处置
该过程适用于开发应用程序，可扩展到更大的生产规模
精确，可编程控制涂层间隙和模具运动轮廓，提供高度均匀的涂层和出色的涂层边缘轮廓控制
有效可调涂布速度0-2m / min
技术参数：
基板尺寸：标准150mm 最大值210-300mm 150或200mm晶圆选项
基板类型：玻璃、塑料、金属箔、硅片 刚性或柔韧性
涂层厚度范围：20nm to 100um
涂层均匀性：对于超过150nm的薄膜，±3％或更好，对于50和150nm的薄膜，±5％或更好
涂料粘度范围：标准1至70 cp
设备尺寸: L: 911mm W: 578mm H:645mm
设备重量：170千克/ 380ibs
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