产品详情
芬兰PICOSUN生产型原子层沉积机P-1000 Pro ALD
技术参数：
衬底尺寸和类型
。156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（双面/背对背）
。高达400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（双面/背对背）
。大批量的3D产品（例如：钟表部件，珠宝，硬币，医疗植入部件，机械部件等）
。多孔，通孔，高深宽比（HAR）样品
工艺温度： 50 - 500 °C
基片传送选件：
。气动升降（手动装载，带叉车forklift cart）
。全自动转载，用工业机器人实现
前驱体：
。液态、固态、气态、臭氧源
。前驱源余量传感器，并提供清洗和装源服务
。8根独立源管线，最多加载12个前驱体源
重量： 2000 kg
尺寸：(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm
选件： PICOFLOW™ 扩散增强器，N2发生器，尾气处理器，定制设计，与工厂软件连接服务。
验收标准： 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺
.png)
P-1000 Pro ALD芬兰PICOSUN 生产型原子层沉积机信息由深圳市蓝星宇电子科技有限公司为您提供，如您想了解更多关于P-1000 Pro ALD芬兰PICOSUN 生产型原子层沉积机报价、型号、参数等信息， 欢迎来电或留言咨询。除供应P-1000 Pro ALD芬兰PICOSUN 生产型原子层沉积机外，深圳市蓝星宇电子科技有限公司还可为您提供其他等产品， 公司有专业的客户服务团队，是您值得信赖的合作伙伴。
