日本Elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机ELS-F125

日本Elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机ELS-F125

参考价:面议
型号: ELS-F125
产地: 日本
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日本Elionix 微细加式电子束曝光电子束直写机ELS-F125/F100/HS50

 

ELS-F125是Elionix推出的世界上首台加速电压达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125)

 

 

 

ELS-F125具有以下优点:

 

l  。超高书写精度

- 5 nm 线宽精度 @125 kV

- 1.7 nm 电子束直径&邻近效应小化 @125 kV

 

 

2.  大通量、均匀性好

- 宽视野书写:500um视场下10 nm线宽

- 高束流下电子束直径依然很小,大通量而不影响分辨率,2 nm电子束直径@1 nA

 

 

3. 界面用户友好

基于Windows系统的CAD和SEM界面:

-简单易用的图案设计功能

-易于控制的电子束条件

 

二、主要功能

 

2.1  主要应用

纳米器件的微结构

集成光学器件,如光栅,光子晶体等

NEMS结构,复杂精细结构

光刻掩模板,压印模板

 

2.2  技术能力

    

 

三、应用

 

    


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