等离子质仪

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等离子质仪相关的厂商

  • OPS Plasma专注于等离子表面处理,集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体,为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案,包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验,研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验,是国内最大的等离子应用技术方案解决专家,不仅能为客户提供优质的等离子处理设备,还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造,成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统,保证电场和气场的均匀分布,并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域,销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行,充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案,成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
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  • 中国博友纳米集团有限公司成立于2010年, 是一家集研发,设计,生产,销售及提供全面的售后服务为一体的高新技术环保纳米等离子喷涂设备、材料、技术公司。公司总部在湖南省,在北京顺义、江苏常州、浙江东阳、福建泉州、广东东莞建有分公司,印度和越南的分公司在2019年正式开张,公司已在中国贵州省黔东南州筹建10万平米以上研发生产和营销中心售后服务总基地及后续准备在贵州上市,海外其它国家的销售及技术服务分公司也在筹划中。我们的市场覆盖全球范围内的工艺品,塑料、塑胶、五金、玻璃、木材、陶瓷、家具,灯饰,汽车,装饰,电子电器等等各行各业领域任何需要喷涂效果的产品, 投入小,回报大,高新的技术和全面的技术支持和售后服务让我们的市场和业绩一直超高速的在增长。
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  • 400-860-5168转5015
    北京艾博智业离子技术有限公司是以离子技术优势为基础,通过整合优势资源成立的专业离子技术应用公司。公司聚焦于具有自主知识产权并具备国际竞争力的电子显微镜样品制备设备研发及制造,在以用户体验为中心的材料表征领域、材料表面改性等仪器设备研发制造领域沉浸多年,拥有专业的表面分析、结构分析、原位分析等应用经验,形成了一套严谨、完整的产品的研发、生产、销售体系。公司对标国内外先进同行企业,多次研制出填补国内空白的产品,在知名高校院所和产业单位得到青睐。
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等离子质仪相关的仪器

  • 等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处: 1、其除去了有机层(含碳污染物),其会受到例如, 氧气 和空气的化 腐蚀,通过超压吹扫,将其从表面去除。   通过等离子体中的高能量粒子,脏污会转化为 稳定的小型分子 ,并借此将其移除,处理过程中脏污的厚度只允许达到 几百纳米 ,因为等离子的清除速度仅能够达到每次几 nm。   脂肪含有诸如锂化合物之类的成分。仅能够除去其 有机成分 。这一点同样适用于指纹。故此,建议戴手套。 2、还原氧化物    金属氧化物会和工艺气体发生化学反应。作为工艺气体,使用了氢气和氩气或氮气的混合物。等离子体射流的热效应可能会导致进一步的氧化。故此建议在惰性气体环境下进行处理。常压等离子激活处理主要用于哪些方面?  这种技术非常适用于以下工艺过程: 1、在粘合之前对塑料进行局部的等离子活化处理 2、在粘合、植绒、印刷(例如,汽车行业中的橡胶型材)之前,对弹性体进行等离子活化处理 3、在粘合或者粘接之前,对金属和陶瓷表面进行局部的等离子活化处理 4、极为适合在直接于移印机中移印之前,对塑料零部件进行处理。 用常压等离子体进行活化处理能够为我们带来哪些主要优势? 技术适用于在线工艺,例如,在对连续型橡胶型材、软管进行印刷、胶粘,植绒或者涂层之前进行等离子活化。 等离子体清洗与其它清洗方式对比表:应用用途和特性低压等离子体的优点低压等离子体的缺点常压等离子体的优点常压等离子体的缺点普通的等离子体生成在等离子腔体室中均匀分布等离子体,腔室体积可变复杂的真空技术,在线等离子处理应用受到一定的限制可以直接在输送带上进行等离子处理,适用于在线处理,无需任何真空技术由于等离子体激发原理的原因,等离子处理痕迹有限,处理较大的对象的时候,必须使用多个喷嘴对金属进行处理 可对易氧化的对象进行等离子清洗进行微波激发的时候,对象上可能会相应产生能量,这会造成对象过热对铝进行等离子处理的时候,可以生成很薄的氧化层对易氧化的对象进行等离子清洗,受到一定的限制对聚合物弹性体进行处理无法对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用某些材料需要用到较大型的泵,以便达到必须的工艺压力无法对连续型对象进行预处理,工艺时间很短等离子射流的温度为约 200 - 300 °C。必须对表面的工艺温度进行很好的调节,以防止着火(很薄的材料)3D对象对等离子体腔室中的所有对象进行均匀处理。即使是中空腔室也可以从内部进行处理(例如,点火线圈、水箱等)未知可进行局部表面处理(例如,粘结槽口)需要使用复杂的多关节型机器人技术。常压等离子体的间隙渗透性受到一定的限制散装部件 通过转鼓法可以对散装部件进行均匀的等离子处理。零部件的件数和体积可以有所不同其仅能够使用转鼓的 1/3 体积(建议)可以直接在输送带上处理对象对象必须极为精确的定位在输送带上电子,半导体技术借助低压等离子体对电子元件、电路板和半导体部件进行等离子处理是先进的技术。未知 金属或者 ITO 触点可在粘接处理之前进行等离子预处理(例如,LCD、TFT 和芯片的生产)涂层工艺生成均匀的涂层。研发了很多 PECVD 和 PVD 工艺,并得到了应用可能会造成等离子体腔室的污染具有很多的工业用途尚不具有任何的工业用途
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  • 远程等离子清洗仪 400-860-5168转3827
    美国PIE公司出品的SEMI-KLEEN 等离子清洗仪, 可清洗各种类型电子或者离子显微镜,深紫外光刻机,电子光刻系统等真空仪器。一个仪器同时清洗真空腔体和样品。本仪器由一个LCD触摸屏控制器和一个远程射频(RF)等离子源组成,远程等离子源通过一个KF40真空法兰连接到待清洗真空室,有转接法兰提供。主要用于清洗各种扫描电镜(SEM),透射电镜(TEM),聚焦离子系统(FIB),离子显微镜(HIM)等真空系统中碳氢及其他污染。同时清洗真空腔体和样品。特有功能优越的等离子技术,可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。最低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度更快,更均匀,对电子枪和分子泵更安全;即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉;带气压计的自动气体流量控制;等离子探针实时测量等离子强度,用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方;自动射频匹配实时保证最优化射频耦合,即使用户调节清洗配方;专利保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel,台积电,三星等半导体用户的严格颗粒污染要求;带LCD触摸屏的直观操作界面;微电脑控制器带可修改的智能清洗计划,设好就自动清洗您的系统;支持清洗配方,一键开始,自动射频匹配,自动控制气体流量;微电脑控制器记录所有信息状态,便于系统维护。技术指标 等离子源真空接口: NW/KF40 法兰 提供转接法兰;标配等离子强度传感器;等离子源最低点火起辉气压:0.1毫托;等离子源最高工作气压: 1.0 托;漏气率: 0.005sccm;射频输出: 0~100瓦,连续可调节;具有射频自动匹配功能
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  • 电镜腔等离子清洁仪 400-860-5168转3827
    电镜腔等离子清洁仪(远程等离子清洁仪)美国PIE出品的EM-KLEEN型远程等离子清洁仪,广泛用于SEM扫描电镜,FIB聚焦离子束双束电镜,TEM透射电镜,XPS_X射线光电子能谱分析仪,ALD原子层沉积系统,CD-SEM, EBR, EBI, EUVL和其它高真空系统,可同时清洁真空腔室和样品!污染物对电子显微镜SEM/TEM和其它高真空系统产生的影响润滑剂、真空脂、泵油样品中的高分子聚合物,或未经处理的空气都会把碳氢污染物引到真空系统中。低蒸汽压下高分子重污染物会凝聚在样品表面和腔室壁上,而使用普通气体吹扫方法很难把碳氢污染物清除。电子和高能光子(EUV, X-ray)能够分解存在于真空系统中或样品上的碳氢污染物。碳氢化合物的分解产物沉积在被观测的样品表面或电子光学部件上。这种碳氢污染沉积会降低EUV的镜面反射率,降低SEM图像对比度和分辨率,造成错误的表面分析结果,沉积在光阑或其它电子组件的不导电碳氢污染物甚至会造成电子束位置或聚焦缓慢漂移。在ALD系统中,样品表面的碳氢污染物还会降低薄膜的界面匹配质量。远程等离子清洁的原理远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上,控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体,分解输入气体而产生氧或氢的活性基,活性基会扩散到下游的真空腔室,并与其中的污染物发生化学反应,反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洗机可同时清洁真空系统和样品。技术特点:快速清洁被污染的SEM样品。2-60秒氢等离子体清洁ALD样品。不需减速或关闭涡轮分子泵低等离子偏压设计减少离子溅射和颗粒生成。结合自有专利多级气体过滤技术,SEMI-KLEEN能够满足用户最苛刻的颗粒污染清除要求可选蓝宝石管腔体和耐腐蚀性气体的流量控制器,以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等应用特有的等离子强度传感器可实时监测等离子状态,用户对等离子状态一目了然基于压力传感回馈控制的自动电子流量控制器,无需手动调节针阀直观的触摸屏操作,可定义60条清洗程序方案拥有智能安全操作模式和专家控制模式;SmartScheduleTM定时装置,通过检测样品装载次数或时间间隔来定时清洁系统低电磁干扰设计,安静的待机模式一. 特有功能1. 优越的等离子技术,可以在小于0.1毫托的气压下点火并且保持稳定的等离子体。最低工作气压比其他同类产品低10到100倍。低气压清洗速度更快,更均匀,对电子枪和分子泵更安全;2. 即时等离子起辉技术。不用像在其他同类产品上那样担心等离子是不是成功起辉;3. 带气压计的自动气体流量控制;4. 实时测量等离子强度,用户可以根据这个实时反馈来优化清洗配方;5. 自动射频匹配实时保证最优化射频耦合,即使用户调节清洗配方;6. 专利保护的双层颗粒过滤器设计保证我们的产品满足Intel,台积电,三星等半导体用户的严格颗粒污染要求;7. 带LCD触摸屏的直观操作界面;8. 微电脑控制器带可修改的智能清洗计划,设好就自动清洗您的系统;9. 支持清洗配方,一键开始,自动射频匹配,自动控制气体流量;10. 微电脑控制器可记录所有信息状态,便于系统维护。二. 技术指标1. 等离子源真空接口:NW/KF40 法兰 提供转接法兰;2. 标配等离子强度传感器;3. 等离子源最低点火起辉气压:0.1毫托;4. 等离子源最高工作气压:1.0 托;5. 漏气率:0.005sccm;6. 射频输出:0~100瓦,连续可调节;7. 具有射频自动匹配功能8. 电源和功率:220V, 50Hz,
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等离子质仪相关的资讯

  • 新型表面等离子体共振光谱仪研制成功
    4月10日,中科院计划财务局组织专家对长春应用化学研究所承担的院科研装备研制项目“集成电化学方法的表面等离子体共振及其高通量分析仪器”进行了现场验收。验收专家分别听取了项目的结题、财务和用户使用报告,审阅了项目组提交的验收材料,并实地考察了研制样机的示范性实验操作,一致同意该项目通过验收。 专家现场考察样机   表面等离子体共振光谱(SPR)技术是一种全新的生物化学分析方法,具有实时、免标记等独特的检测优点,可广泛应用于生物分析、无机材料、化学分析和材料科学等领域,逐渐成为国际传感器领域的研究热点。实现具有时间分辨采集功能的SPR仪器方法,开发具有我国自主知识产权的新型电化学传感器、检测器和联用仪器是当前科技生产的迫切需求。   项目组以开发研制具有时间分辨测量能力、电化学检测系统、高通量成像分析模块的表面等离子体共振分析检测系统为目标,经过2年多的努力,研制开发出具有自主知识产权的具有时间分辨、电化学联用、成像测量等功能模块的表面等离子体共振光谱仪,可应用于界面小分子吸附反应动力学及涉及小分子相互作用的分析测量中,并可实现与多种电化学暂态、稳态技术方法的联用;该仪器设计新颖,利用二像素光学位置阵列传感器件,极大地提高了SPR光谱测量的时间响应;通过与多种电化学暂态及稳态技术方法的联用,拓宽了SPR光谱仪器的应用领域。   该项目研制开发的表面等离子体共振光谱及其联用仪器设备已经通过长春市产品质量监督检验院技术测试认证,现已小规模研制工程样机15台,并在清华大学、吉林大学、长春应化所、化学所、西北师范大学、东南大学、福州大学等科研和教学单位试用,效果良好。   该集成仪器系统将可广泛应用于电极界面纳米结构复合材料的电化学制备、修饰、电化学衍生及电极界面的自组装、生物芯片分析、医疗卫生、食品、毒品毒物分析等领域,是对目前SPR领域仪器方法的有益补充,具有广阔的市场前景。   该项目研制期间发表科研论文21篇;申请发明专利7项,4项已获授权;培养博士研究生7名,硕士研究生2名。
  • 德国在实验室制造出黑洞等离子体
    据美国物理学家组织网11月4日报道,德国马克斯普朗克核物理研究所和赫尔姆霍茨柏林中心的研究人员使用柏林同步加速器(BESSY Ⅱ)在实验室成功产生了黑洞周边的等离子体。通过该研究,之前只能在太空由人造卫星执行的天文物理实验,也可以在地面进行,诸多天文物理学难题有望得到解决。   黑洞的重力很大,会吸附一切物质。进入黑洞后,任何东西都不可能从黑洞的边界之内逃逸出来。随着被吸入的物体的温度不断升高,会产生核与电子分离的高温等离子体。   黑洞吸附物质会产生X射线,X射线反过来又会刺激其中的大量化学元素发射出具有独特线条(颜色)的X射线。分析这些线条可以帮助科学家了解更多有关黑洞附近等离子体的密度、速度和组成成分等信息。   在这个过程中,铁起了非常关键的作用。尽管铁在宇宙中的储量并不如更轻的氢和氦丰富,但是,它能够更好地吸收和重新发射出X射线,发射出的光子因此也比其他更轻的原子发射出的光子具有更高的能量、更短的波长(使得其具有不同的颜色)。   铁发射出的X射线在穿过黑洞周围的介质时也会被吸收。在这个所谓的光离化过程中,铁原子通常会经历几次电离,其包含的26个电子中有超过一半会被去除,最终产生带电离子,带电离子聚集成为等离子体。而现在,研究人员在实验室中重现了这个过程。   实验的核心是马克斯普朗克核物理研究所设计的电子束离子阱。在这个离子阱中,铁原子经由一束强烈的电子束加热,从而被离子化14次。实验过程如下:一团铁离子(仅仅几厘米长并且像头发丝一样薄)在磁场和电场的作用下被悬停在一个超高真空内,同步加速器发射出的X射线的光子能量被一台精确性超高的“单色仪”挑选出来,作为一束很薄但却集中的光束施加到铁离子上。   实验室测量到的光谱线与钱德拉X射线天文台和牛顿X射线多镜望远镜所观测的结果相匹配。也就是说,研究人员在地面实验室人为制造出了太空中的黑洞等离子体。   这种新奇的方法将带电离子的离子阱和同步加速器辐射源结合在一起,让人们可以更好地了解黑洞周围的等离子体或者活跃的星系核。研究人员希望,将EBIT分光检查镜和更清晰的第三代(2009年开始在德国汉堡运行的同步辐射源PETRAⅢ)、第四代(X射线自由电子激光XFEL)X射线源结合,将能够给该研究领域带来更多新鲜活力。
  • 中智科仪逐光IsCMOS像增强相机拍摄激光诱导等离子体羽流
    1、应用背景   等离子体是区别于固体、液体和气体的第四种物质聚集状态。在高能环境下,原子的外层电子摆脱原子核的束缚成为自由电子,失去电子的原子变成带正电的离子,这个过程叫电离,这种电离气体就是等离子体,通常由带电离子、自由电子、基态/激发态分子原子和自由基等粒子组成。等离子体在自然界中广泛存在,如太阳、恒星、星际物质、闪电等都是等离子体。   激光诱导等离子体(Laser-Induced Plasma, LIP)是通过激光与物质相互作用产生的一种高温、高密度的等离子体状态物质。当高能量的激光脉冲照射到物体表面时,会使得物质迅速加热并部分或完全电离,形成等离子体。伴随形成的等离子体羽流的演化过程具有超高速、持续时间短(一般几百纳秒)、强自发光背景和小空间尺度的特点,这使得其观测变得具有挑战性。   本次实验采用中智科仪的逐光IsCMOS像增强相机(TRC411),拍摄了激光诱导等离子体羽流的形貌演化过程。基于逐光IsCMOS像增强相机的纳秒级快门门控、高精度的时序同步技术和变延迟序列推扫功能,记录了等离子体羽流的完整演化过程。 2、实验方案   实验设备:   中智科仪逐光IsCMOS像增强相机,型号:TRC411-S-HQB-F F2UV100大通量紫外镜头。   实验室所用激光器为镭宝Dawa-200灯泵浦电光调Q纳秒Nd:YAG激光器,波长1064nm,重复频率1-20Hz。采用激光器Q-out输出触发TRC411相机的方式,对相机Gate通道进行变延迟序列推扫,寻找相机与激光器的同步时刻。   实验流程:   1.实验材料被激发的等离子体羽发光在200nm-500nm左右,因此在镜头前端安装一个430nm的带通滤光片,屏蔽掉1064nm的激发激光和其他杂散光。需要注意观察成像画面中是否有强反射材料,比如样品台的光滑金属反光面或螺丝帽等,为了防止这些强烈反射面的反射光对相机造成损害,需要使用黑色电工胶带将它们遮挡或覆盖。   2. 激光器的Q-out触发输出接到示波器,测得同步输出的TTL信号电平为5V@1MΩ,频率与激光输出频率匹配,均为5Hz。TRC411相机可接受的最大外触发信号电平为5V,保守起见,在触发线末端加入了6dB衰减器,将激光器Q-out输出电平减半。   3. 由于等离子体的发光强度较大,无法确定所使用的滤光片的衰减倍率是否足够,因此首先将镜头光圈调至最小,设置增益为1800,Gate时间13ns(对应光学门宽3ns)。   软件参数设置如下表:   4. 对Gate通道进行变延迟序列扫描,最终找到Gate延时起止时刻在700ns至1100ns之间时,可以捕获到等离子体的发光信号。   软件参数设置界面: 3、实验结果   序列采集SEQ曲线:   根据曲线可以看到实验材料被激发的等离子体发光持续时间约为400ns。   高功率纳秒脉冲激光激发产生的完整等离子体羽形貌演变过程: 4、结论   中智科仪逐光IsCMOS像增强相机具有短至纳秒级的快门,超短的门控可以屏蔽背景噪声,提高信噪比。相机内置的高精度时序控制器可以确保相机与脉冲激光器的同步工作,在确定的延迟捕获等离子体信号。相机的变延迟序列扫描功能可以使相机快速拍摄不同延迟时刻的等离子体信号,获得完整的等离子体演化过程。诸多优势展示了TRC411相机在等离子体诊断方面的重要应用价值。   免责说明:中智科仪(北京)科技有限公司公众号发布的所有内容,包括文字和图片,主要基于授权内容或网络公开资料整理,仅供参考。所有内容的版权归原作者所有。若有内容侵犯了您的权利,请联系我们,我们将及时处理。 5、解决方案   由中智科仪自主研发生产的逐光IsCMOS像增强相机采用高量子效率低噪声的2代Hi-QE以及第3代GaAs像增强器,光学门宽短至500皮秒 全分辨率帧速高达98幅/秒 内置皮秒精度的多通道同步时序控制器,由SmartCapture软件进行可视化时序设置,完全适合时间分辨快速等离子现象。   1. 500皮秒光学快门   以皮秒精度捕捉瞬态现象,并大幅降低背景噪声。   2.超高采样频率   逐光IsCMOS相机目前全分辨率下可达98帧,提供高速数据采集速率,同时可提供实验效率。此外设置使用其中16行的区域下,可以达到1300帧以上。   3.精准的时序控制   逐光IsCMOS像增强相机具有三路独立输入输出的时序同步控制器,最短延迟时间为10皮秒,内外触发设置可实现与激光器以及其他装置精准同步。   4. 创新“零噪声”技术   得益于单光子信号的准确识别,相机的暗噪声及读出噪声被完全去除。

等离子质仪相关的方案

  • 电感耦合等离子体发射光谱仪平板等离子体技术分析生物柴油中的无机污染物含量
    在美国,生物燃料的生产主要是用玉米生产乙醇和用大豆生产生物柴油。生物柴油可从任何含有油和动物脂肪的植物或植物材料中提炼出来。ASTM D6751用于用于中间馏分燃料的生物柴油燃料的混合原料标准规范详细描述了使用生物柴油作为中间馏分燃料的混合组成部分的一些要求。PerkinElmer有一些使用电感耦合等离子体发射光谱法分析生物柴油的早期的论文,本项工作主要目的在于新的Optima 8000平板等离子体技术的电感耦合等离子体发射光谱仪的应用。Optima 8x00电感耦合等离子体发射光谱仪系列采用新的平板等离子体技术。平板等离子体技术利用平板感应板产生等离子体,紧凑,致密和强大。平板系统产生一个平底的等离子体,减少样品和蒸气逃脱到等离子体周围以外的区域,使有机样品分析更容易。
  • 微波等离子体高温热处理工艺中真空压力的下游控制技术方案和装置
    本文介绍了合肥等离子体所研发的微波等离子高温热处理装置,并针对热处理装置中真空压力精确控制这一关键技术,介绍了解决这一关键技术所采用的真空压力下游控制技术方案和相应装置,介绍了引入真空压力控制装置后微波等离子高温热处理过程中的真空压力控制实测结果,实现了等离子体热处理工艺参数的稳定控制,验证了替代进口真空控制装置的有效性。
  • 使用微型光谱仪进行等离子体监测
    在其他气体和纳米颗粒被引入到等离子体腔室时,可以使用Ocean HDX光谱仪测量氩等离子体的发射变化。在封闭反应室中的等离子体的光谱数据,将通过光谱仪,光纤和余弦校正器从腔室外的小窗口收集的发射光谱而得到。Ocean HDX光谱仪为UV-Vis配置,采用400μ m抗老化的光纤耦合余弦校正器进行采样。选择抗老化光纤是为了避免由等离子体的强UV光引起的光纤内涂层降解。选择余弦校正器从等离子腔室获取数据可解决等离子体强度的差异和测量窗口的不均匀结垢。准直透镜也可作为等离子体监测测量中余弦校正器的常用备选方案。

等离子质仪相关的资料

等离子质仪相关的试剂

等离子质仪相关的论坛

  • 等离子体光谱仪

    等离子体光谱仪原理 当高频发生器接通电源后,高频电流I通过感应线圈产生交变磁场(绿色)。开始时,管内为Ar气,不导电,需要用高压电火花触发,使气体电离后,在高频交流电场的作用下,带电粒子高速运动,碰撞,形成“雪崩”式放电,产生等离子体气流。在垂直于磁场方向将产生感应电流(涡电流,粉色),其电阻很小,电流很大(数百安),产生高温。又将气体加热、电离,在管口形成稳定的等离子体焰炬。等离子体光谱仪特点(1) 测定每个元素可同时选用多条谱线;(2) 可在一分钟内完成70个元素的定量测定;(3) 可在一分钟内完成对未知样品中多达70多元素的定性;(4) 1mL的样品可检测所有可分析元素;(5) 扣除基体光谱干扰;(6) 全自动操作;(7) 分析精度:CV 0.5%。等离子体光谱仪应用 等离子体光谱仪的研究领域是生命科学。 等离子体光谱仪的主要用途:用于环保、地质、化工、生物、医药、食品、冶金、农业等方面样品的定性、定量分析。 等离子体光谱仪能够自动等离子激发和待机运行模式,可以节省能耗和氩气耗量。能够适应样品种类的连续变换,同时可确保对多种样品甚至快速更换样品时始终具有稳定、有效的等离子体能量。

  • 等离子体废气处理设备的放电等离子体处理

    目前,我国对废气处理的重视程度越来越高,越来越多的企业投资于等离子废气处理设备。   等离子废气处理设备工业尾气的放电等离子体处理因其自身的特点受到企业的青睐。   下面介绍了一种等离子体废气处理设备的放电等离子体处理方法。   等离子废气处理设备   等离子废气处理设备的放电等离子体处理方法是通过高压放电获得非热平衡等离子体;   产生大量的由电子产生的O、OH、N基活性粒子,破坏C-H、C-C等化学键,引起置换反应。   尾气分子中H、Cl、F等的作用,然后产生CO_2和H_2,即工业废气经排放处理以后不再对人的健康有害。   等离子废气处理设备是目前处理有害气体的有效方法之一。   世界对协同催化剂和反应器进行了大量的研究工作。   在等离子体中添加催化剂,可以提高污染物的去除效率,大大降低能耗和副产物。   世界上对这种协同催化剂的研究主要集中在金属氧化物和二氧化钛催化体系。   利用等离子体和催化反应的协同作用,提高有机废气的净化率,使能耗降低是成功的。

等离子质仪相关的耗材

  • 激光诱导等离子体光谱仪配件
    激光诱导等离子体光谱仪配件是一款欧洲进口的高度安全的激光诱导等离子体光谱仪,采用高度模块化设计,专业为样品分析而研发,是实验室科研和现场检测的理想工具。广泛用于材料分析,元素检测,工业检测,安全检测,反恐和国防等领域。孚光精仪还有更多激光仪可供选择,欢迎前来咨询。激光诱导击穿光谱仪配件特点安全型模块化设计具有世界上最为安全的配置,这套仪器对操作人员的危害几乎为零。特别对于样品室使用防激光辐射的高档光学窗口玻璃,不仅可以让您观看样品的测量,同时又保证您的安全。具有高度的使用灵活性,您可以手持着它进行测量,也可以放置到样品室上测量。中国最大的进口精密光学器件和科学仪器供应商!激光诱导等离子体光谱仪配件特色* 高度模块化和多功能设计,适合实验室和现场多种应用;* 高效率的等离子体采集光学,可配备6通道或8通道光谱采集系统;* 具有多种激光器选项,50mJ@1064nm, 355nm, 266nm, 100mJ@1064nm,355nm,266nm, 还有更多激光器供选择 * 可配备样品室(具有I级激光安全标准)或不配备样品室直接测量(IV级激光安全) * 激光头和样品方室可以多向安装工作;* 具有其他清洗功能(与外界气源连接,可供氩,氮,氦,空气等气体);* 可安装高达8个光谱仪模块覆盖185-1000nm * 激光器电源小型化,非常方便拆卸,搬运;* 软件两年免费升级。孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商,产品技术和性能保持全球领先,拥有包括光谱仪,激光诱导等离子体光谱仪在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类,世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系,确保每个一产品是用户满意的完美产品。我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库,可在下单后12小时内从国外直接空运发货,我们位于天津保税区的进口公司众邦企业(天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务。更多关于激光诱导等离子体光谱仪参数,光谱仪价格等诸多信息,孚光精仪会在第一时间更新并呈现出来,了解更多内容请关注孚光精仪官方网站方便获取!
  • 等离子气和辅助气体管线接头,用于将气体管线连接至炬管
    安捷伦提供一系列气路备件,能够为 ICP-MS 系统有效提供一致、稳定的气源。在校正 ICP-MS 仪器时必须保证基本操作的稳定性以获得所需水平的灵敏度,稳定的气路能有助于实现这一点。安捷伦提供优质的气路备件,包括用于一系列气路的管线、内套管和各种优质接头。为了保证您的系统的准确性和寿命,请按照推荐的维护日程表更换气路组件。 用于载气、辅助气和混合器以及等离子体气路的内套管。 氩气管线组件,包括带在线过滤器和连接器套件的 5 m PTFE 管线。 等离子体和辅助气气路管线,Tygon — 内径 3.17 mm,外径 6.35 mm,35 cm(用于等离子体气路),内径 2.38 mm,外径 3.96 mm,35 cm(用于辅助气气路)。 我们提供将等离子体气和辅助气连接到炬管的接头以及用于尾端盖和气路的接头。 用于载气/尾吹气气路的 PTFE 管线,内径 3 mm,外径 4 mm, 350 mm(2/包)。
  • 等离子体主动热探头
    等离子体主动热探头是耐高温的等离子探头,用于高温等离子体过程中流入到目标表面的能量,也可作为离子流探头使用。由于等离子体主动热探头的灵敏度非常高,特别适合用于工业生产过程或研究中的有效质量控制。有一个特殊的版本,该版本有一个更多可选的可调参数,可以用来解决等离子体工艺的研发。等离子体主动热探头特点在生产高品质涂层或研究材料属性过程中,对等离子体工艺的表征,控制和监测是至关重要的。最重要的一个参数是通到基底的实际能量流入和总能量流入—主动热探头是测量这个决定性的量数的唯一工具。增殖的粒子影响基底的表面工艺和反应。这种能量与其他如热辐射能或化学能合成总流入能量。主动热探头连续定向测量流入的能量,保持层和表面性质很好的相关性。等离子体主动热探头产品概述适用于真空 耐温高达450°C 能量流入可多达(2±0,001)W/cm2 可衡量 可变长度和几何图形 包括系统控制和评估的软件包 提供安装服务和流程优化咨询
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