反射紫外仪

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反射紫外仪相关的厂商

  • 400-668-7609
    哈希公司(HACH)成立于1947年,总部位于美国科罗拉多州的Loveland市,是水质分析解决方案的提供商。工厂分别位于美国、德国、瑞士、法国和英国,并也在中国建立了生产基地。 作为水质、水文监测仪器的水质仪器供应商,哈希公司产品被用户广泛应用于半导体超纯水、制药/电力及其他工业净水、饮用水、地下水、地表水、市政污水、工业污水等领域,其全线产品系列涵盖实验室定性/定量分析、现场分析、流动分析测试、在线分析测试。产品具有测量精确、运行可靠、操作简单、低维护量,结构紧凑等特点。哈希公司一直致力于使化学分析过程更方便、更迅捷、更可靠。尤其是各类包装的即开即用型化学试剂包,不仅为精确的化学分析提供了可靠的质量保障,也为用户节约了宝贵的时间和人力资源。 为了更贴近中国市场,更好的满足中国用户的需求,也为了帮助越来越多的国内用户解决他们在水质监测领域所遇到的问题,哈希公司已经开始了产品本地化的工作,在保证产品质量的同时减少了众多复杂的工作环节,从而使更多的客户可以使用到哈希公司的高质量产品。哈希公司非常注重中国用户的需求,目前专为中国市场量身定做的CODmax铬法COD分析仪、1900C便携式浊度仪和DR1010 COD测定仪等产品以其产品技术与高质量受到了广大用户的青睐。本地化的生产越来越方便客户,使得产品的交货期缩短并可以享受到便捷及时的售后服务支持。 我们的目标是继续为广大用户提供可靠的仪器、测试方法、简单的操作步骤和更好的客户服务,不断地提高产品的质量以满足客户需求不断变化的需要。目前公司已经在北京、上海、广州和重庆等地设立了办事处,以便为中国的广大客户提供方便、周到、及时的服务。
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  • 以色列Ofil紫外成像仪是光学和数字紫外线检测和成像技术的世JIE领XIAN制造商。成立于1993年,总部在以色利。Ofil紫外成像仪开发和销售创新解决方案,这些解决方案正在全球范围内用于监测电气装置和环境危害。我们的数字检测系统对于电气故障的诊断、预防和预测是不可或缺的。我们的紫外线偏振系统有助于绘制海上溢油扩散图并控制其清洁效果。Ofil紫外成像仪利用其紫外线光学专有技术,不断开发紫外线增强成像解决方案,以应对全球电网不断变化的需求。多年来,Ofil以其创新、高质量和快速响应的方法赢得了全球的认可。DayCor?系列产品提供以下解决方案:电力设施的维修操作电动列车的预测性维修操作以色列Ofil紫外成像仪介绍石油化工电网部件制造商高压实验室和研究所用于国土安全的紫外线信号检测环境组织的漏油监测
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  • 华日激光坚持以市场需求引领新产品的研发,为客户提供纳秒、皮秒、飞秒等多种脉冲宽度,红外、绿光、紫外、深紫外等多种波长的激光器产品,所有产品均具备自主产权,同时产品通过欧盟CE质量安全认证,完全满足严苛条件下的工业加工要求,是超精细加工领域的理想光源。同时通过与全球高端激光设备制造商在电子电路、硬脆材料、半导体、新能源、生命科学等领域开展紧密合作,为用户提供全面的激光技术解决方案。
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反射紫外仪相关的仪器

  • 仪器简介:ZF-3紫外透射反射分析仪简介: 使用说明: (一)、分析观察样品 将电泳好的凝胶样品或薄层、纸层样品放在仪器中央,开启&ldquo 反射紫外灯&rdquo 电源,调节反射紫外灯架高度与角度,使样品发出的萤光最清晰明亮。通常反射紫外离样品越近,则萤光越强。 (二)、拍摄样品照片 (1)打开&ldquo 照明&rdquo 白炽灯,利用白炽灯照明,调节照相高度及相机镜头使样品成像清晰。在相机前装上近摄接圈与PCR滤色镜。然后关闭&ldquo 照明&rdquo 白炽灯。 (2)开启透射紫外灯电源,进行拍摄,应根据不同的样品确定不同的曝光时间,以清晰满意的底片。 (三)注意:如使用时不用暗箱,必须在暗室内操作。 我公司生产的紫外分析仪系列产品: ZF1-I多功能紫外分析仪 ZF1-Ⅱ型紫外分析仪 ZF-1紫外透射反射分析仪 ZF-2紫外透射反射分析仪 ZF-3紫外透射反射分析仪 ZF-5 型手提式紫外分析仪(手提式紫外分析仪) ZF-6型三用紫外分析仪(台灯式ZF-1三用紫外分析仪) ZF-7型暗箱式三用紫外分析仪(暗箱式三用紫外分析仪) ZF-8型暗箱式四用紫外分析仪(暗箱式四用紫外分析仪) ZFD型紫外透射分析仪 UV-A型手提暗箱式紫外分析仪技术参数:ZF-3紫外透射反射分析仪的技术参数: 1、电源:AC220V± 10%50HZ 2、功率透射:48W 64W 反射24W 照明40W 3、紫外滤色片尺寸透射:ZF-3 200× 150mm 反射200× 80mm主要特点:ZF-3紫外透射反射分析仪的主要特点: ZF系列紫外射反射分析仪(配暗箱)是最新研制成功的新一代分析仪器。 本产品具有灵敏度高、使用方便、特别采用302NM波长对样品的破坏作用更小,是紫外分析仪的更新换代产品,它可适用于DNA、RNA电泳凝胶样品的观察,可检测蛋白质,核甘酸等,在制药工业中检查激素生物碱、维生素等能产生萤光的药品质量,对薄层分析,各种同功酶,纸层分析进行观察分析和摄影,并可作为PCR技术的专用仪器。 ZF-3型紫外透射反射分析仪装有一组透射紫外光源和二组反射紫外光源,分别供观察、分析和摄影用。 紫外透射分四组,供用户选择:一组254nm;二组302nm;三组365nm;四组白炽灯;紫外反射有二组;一组254nm;二组365nm。
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  • 仪器简介:ZF-2紫外透射反射分析仪简介: 使用说明: (一)、分析观察样品 将电泳好的凝胶样品或薄层、纸层样品放在仪器中央,开启&ldquo 反射紫外灯&rdquo 电源,调节反射紫外灯架高度与角度,使样品发出的萤光最清晰明亮。通常反射紫外离样品越近,则萤光越强。 (二)、拍摄样品照片 (1)打开&ldquo 照明&rdquo 白炽灯,利用白炽灯照明,调节照相高度及相机镜头使样品成像清晰。在相机前装上近摄接圈与PCR滤色镜。然后关闭&ldquo 照明&rdquo 白炽灯。 (2)开启透射紫外灯电源,进行拍摄,应根据不同的样品确定不同的曝光时间,以清晰满意的底片。 (三)注意:如使用时不用暗箱,必须在暗室内操作。 我公司生产的紫外分析仪系列产品: ZF1-I多功能紫外分析仪 ZF1-Ⅱ型紫外分析仪 ZF-1紫外透射反射分析仪 ZF-2紫外透射反射分析仪 ZF-3紫外透射反射分析仪 ZF-5 型手提式紫外分析仪(手提式紫外分析仪) ZF-6型三用紫外分析仪(台灯式ZF-1三用紫外分析仪) ZF-7型暗箱式三用紫外分析仪(暗箱式三用紫外分析仪) ZF-8型暗箱式四用紫外分析仪(暗箱式四用紫外分析仪) ZFD型紫外透射分析仪 UV-A型手提暗箱式紫外分析仪技术参数:ZF-2紫外透射反射分析仪的技术参数: 1、电源:AC220V± 10%50HZ 2、功率透射:64W 照明40W 3、紫外滤色片尺寸透射:200× 150mm 4、外型尺寸 350× 260× 360 5、波长:302nm不锈钢面板,(配暗箱,附数码相机机架装置端口)。 主要特点:ZF-2紫外透射反射分析仪的主要特点: ZF系列紫外射反射分析仪(配暗箱)是最新研制成功的新一代分析仪器。 本产品具有灵敏度高、使用方便、特别采用302NM波长对样品的破坏作用更小,是紫外分析仪的更新换代产品,它可适用于DNA、RNA电泳凝胶样品的观察,可检测蛋白质,核甘酸等,在制药工业中检查激素生物碱、维生素等能产生萤光的药品质量,对薄层分析,各种同功酶,纸层分析进行观察分析和摄影,并可作为PCR技术的专用仪器。 本仪器装有一组透射紫外光源供观察、分析和摄影用。并专门设计了一只暗箱,用户不需要暗室,即可对样品进行观察分析,暗箱上备有专门的相机安装装置,暗箱观察室上装有防紫外线玻璃,它滤去95%以上的紫外线。
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  • 测量各类薄膜、玻璃以及镜片等的可见光透射比、紫外线透射比、太阳光透射比、可见光反射比,及材料的光谱透射率/反射率曲线,并对材料的颜色特性进行分析,实现280nm-2500nm极宽的测量范围,满足GAT744-2013 标准要求。 核心光学设备为国家863(高技术研究发展计划)项目研究成果,获美国专利授权(专利号:US 7,978,324 B2),"国家首批自主创新产品","国家重点新产品"荣誉。经由院士领衔的权威专家组鉴定,获"国际领先"评价。主要特点采用远方高精度光谱测量技术,精度高、测量速度快、稳定性好采用背照式高精度阵列探测器和优质衍射光栅,并采用带通色轮校正(BWCT)等多项杂散光修正专利技术,具有极高的光谱测量分辨率、机低杂散光高性能准直光源,保证宽波段范围的测量条件自带校正及标定功能,方便用户自行校零和定标独特的紫外-可见波段的双光路设计,可对光源进行监控和自动补偿,减少光源变化带来的误差极宽的光谱测量范围:280nm-2500nm? 主要技术指标测量功能可见光透射比、紫外线透射比、太阳光透射比、可见光反射比,及材料的光谱透射率曲线、材料的光谱反射率曲线、材料的色空间、色差等颜色参数。波长范围280nm-2500nm;波长准确度280-800nm波段:±0.3nm;800-1600波段:±0.5nm;1600-2550波段:±3nm;半峰带宽280-800nm波段:3nm;800-1600波段:9nm;1600-2500波段:15nm;照明/接收条件反射 5°/5°,透射:0/0反射率范围0-200%,分辨率0.001%照明孔径Φ20mm? 典型应用:
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反射紫外仪相关的资讯

  • 基于177.3nm激光的真空紫外光调制反射光谱仪
    CPB仪器与测量栏目最新发文:基于177.3nm激光的真空紫外光调制反射光谱仪,此装置将有望成为高效无损地探测宽禁带半导体材料电子能带结构高阶临界点的有效光学表征手段,并广泛用于超宽禁带半导体材料及其异质结的电子能带结构研究。光调制反射光谱是通过斩波器周期性地改变泵浦光源对样品的照射来测量半导体材料反射率相对变化的一种光谱分析技术。由于所测差分反射率作为能量的函数在材料电子能带结构的联合态密度奇点附近表现出明显的特征,光调制反射光谱已成为研究具有显著电子能带结构的半导体、金属、半金属及其微纳结构和异质结等材料联合态密度临界点的重要实验技术之一。光调制反射光谱中所使用的泵浦激光的光子能量一般要高于被研究材料的带隙,随着第三代宽禁带与超宽禁带半导体材料相关研究和应用的不断深入,需要更高能量的紫外激光作为光调制反射光谱的泵浦光源。目前国际上已报道的光调制反射光谱系统中,配备的泵浦光最大光子能量约5 eV,尚未到达真空紫外波段。因此,迫切需要发展新一代配备高光子能量和高光通量的泵浦光源的光调制反射光谱仪,使其具备探测超宽带隙材料的带隙和一般材料的超高能量临界点的能力。中科院理化所研制的深紫外固态激光源使我国成为世界上唯一一个能够制造实用化深紫外全固态激光器的国家,已成功与多种尖端科研设备相结合并取得重要成果。此文详细介绍了由中科院半导体所谭平恒研究员课题组利用该深紫外固态激光源搭建的国际上首台真空紫外光调制反射光谱仪(图1)的系统设计和构造,将光谱仪器技术、真空技术、低温技术与中科院理化所研制的177.3 nm深紫外激光源相结合,同时采用双单色仪扫描技术和双调制探测技术,有效避免了光调制反射光谱采集中的荧光信号的干扰,提高了采集灵敏度。该系统将光调制反射技术的能量探测范围从常规的近红外至可见光波段扩展至深紫外波段,光谱分辨率优于0.06 nm,控温范围8 K~300 K,真空度低至10-6 hPa, 光调制反射信号强度可达10-4。通过对典型半导体材料GaAs和GaN在近红外波段至深紫外波段的光调制反射信号的测量对其探测能力进行了性能验证(图2)。此装置将有望成为高效无损地探测宽禁带半导体材料电子能带结构高阶临界点的有效光学表征手段,并广泛用于超宽禁带半导体材料及其异质结的电子能带结构研究。该系统基于中科院半导体所承担的国家重大科研装备研制项目“深紫外固态激光源前沿装备研制(二期)”子项目“深紫外激光调制反射光谱仪”,目前已经初步应用于多种半导体材料在深紫外能量范围内的能带结构和物性研究,并入选《中国科学院自主研制科学仪器》产品名录,将有望在推动超宽禁带半导体材料的电子能带结构研究、优化超宽禁带光电子器件的性能方面发挥重要作用。图1. 深紫外激光调制反射光谱仪图2. 177.3 nm(7.0 eV)激光泵浦下的GaAs在1.2 eV至6 eV内的双调制反射光谱及对应能级跃迁
  • ​紫外可见光谱法研究光伏电池
    近些年来,寻找环境问题解决方案日益成为全球亟待解决的主要难题。鉴于化石燃料资源正在迅速耗竭及其对环境造成严重破坏,发展替代性能源产品已经成为当务之急。太阳是清洁能源的一个丰富来源,可通过光伏系统,将太阳光转化为直流电能从而为我们所用。近年来各国都在积极推动可再生能源应用,因此,光伏产业发展十分迅速。今年是“十四五”开局之年,在国家政策的支持下,在“碳达峰”、“碳中和”的目标要求下,光伏行业将迎来更大的发展。光伏转换技术的发展和进步需要在化学、电子、机械和光学等方面对整个过程的各个阶段进行表征,大量的研究工作仍然在进行中。紫外/可见/近红外光谱仪在光学性质研究中有着重要的应用。配有150mm积分球的LAMBDA 1050+紫外/可见/近红外分光光度计使用LAMBDA 1050+紫外/可见/近红外分光光度和150mm积分球,可以测量样品在200~2500nm范围内的透过率、反射率和吸光度。积分球的内表面使用Spectralon高分子材料制成,其反射率接近100%。150mm积分球的窗口面积占内反射表面比值小于2.5%。窗口面积比例越低,测量结果的精密度越高。60mm积分球的窗口面积比大约为7%。透射率和反射率积分球测量:透射模式(上)和反射模式(下)积分球内部的检测器(可见光区域使用光电倍增管,近红外光区域使用PbS检测器)被Spectralon材料制成的挡板所保护,避免直接反射光线进入检测器,从而保证测试结果的准确度。在进行反射率测量时,可以打开镜面反射侧翼,将镜面反射光线排除,从而只测量漫反射光线。在进行透射率测量时,将正对入射光束的窗口上的标准盖板取走,可以排除直接透射光线,从而只测量漫透射光线。吸光度中心样品架附件;使用积分球测量吸收光谱使用中心样品架,将待测样品放置在积分球的中心位置,可以直接测量样品的吸光度。光伏电池的测量光伏电池是将光能转换为电能的半导体器件,第一阶段是吸收有效光谱范围内的光线。为了增加光电转换效率,需要对硅片表面进行处理,以增加光伏电池的吸光度。测量光伏电池的反射率、透过率和吸光度,可以评价其处理方式的效果。未处理的硅晶片、经过织构化处理的硅晶片、覆盖了抗反涂层的硅晶片以及光伏电池成品处理前和处理后硅晶片的透过率(左)和反射率(右)硅片的吸光度可通过如下公式获得:%吸光度=100%-%反射率-%透过率可见,经过处理的硅片吸光度更高,从而光能利用率更高。光伏电池的有效反射率是包含了AM1.5太阳辐射光谱权重的积分反射率,可以表示为:其中R(λ)是测量得到的百分比反射率,Sλ是太阳辐射光谱(以光子流表示)。有效反射率可以在光伏电池生产过程的任意环节进行测量,所得数值可以用于不同样品的相互比较。光伏电池对不同角度光线的透射率和反射率非常重要,后续文章会介绍相应分析方法,敬请期待。更多详情,请扫描二维码下载完整应用报告。
  • 岛津紫外特色技术| 宽延伸,多可能
    自1952年推出岛津第一台商品化的紫外可见分光光度计(UV)QB-50以来,UV早已成为岛津的明星产品。UV-2600i作为岛津现有UV产品线的重要一员,经历了多个前代机型的迭代更新,堪称“小体积,大能量”,可以带给用户更多可能性。PART 1高性能光路系统搭配岛津自有的高性能Lo-Ray-Light光栅,实现低杂散光PART 3新版 LabSolutions UV-Vis软件LabSolutions UV-Vis软件具有自动光谱评价、自动Excel数据传输、自动样品测试等功能,可升级为DB或者CS版实现更强大的数据管理,确保数据完整性和可信度。紫外可见分光光度计UV-2600i 特色之一是测试波长范围宽。搭配对应附件波长可延伸到近红外区,满足更多应用需求,如太阳能电池抗反射膜、多晶硅片、建筑玻璃、纺织品等反射率或透过率的测定。应用案例太阳能电池抗反射膜的评估图1为多晶硅晶圆上形成的抗反射膜,A、B、C三处的颜色明显不同,通过UV-2600i+ ISR-2600Plus积分球配置,实现了薄膜在近红外区的测试。图1 抗反射薄膜A、B、C三处区域的漫反射光谱测量结果如图2。图2 反射光谱结果表明,A、B、C三处区域的反射光谱有所差异,但共同特征是反射率在紫外区和近红外区较高,可见区较低;A、B、C三处区域的最低反射率都在550 nm附近。本文内容非商业广告,仅供专业人士参考。

反射紫外仪相关的方案

  • 紫外可见光谱法测量高反射材料的绝对反射率
    本申请说明演示了使用绝对反射率测量系统来获得电介质多层反射镜的高反射测量。关键词:V-750,紫外可见/NIR,绝对反射率,材料
  • 紫外可见近红分光光度计测试建筑反射隔热涂料反射比
    本文参考中华人民共和国建筑工业行业标准JG/T 235-2014 《建筑反射隔热涂层》,使用岛津紫外可见近红外分光光度计UV-3600i Plus和积分球附件对建筑反射隔热涂层样品进行反射率测试,通过计算得到建筑涂层样品的太阳光反射比和近红外反射比,为建筑反射隔离涂层表征提供依据。
  • 紫外/ 可见/ 近红外分光光度计测试伪装迷彩服布料反射率
    迷彩服是由绿、黄、茶、黑等颜色组成不规则保护色图案用于伪装的服装。迷彩服要求它的反射光波与周围景物反射的光波大致相同,达到迷彩服的色彩和周围环境协调一致,不仅能迷惑敌人的目力侦察,还能对付红外侦察,使敌人现代化侦视仪器难以捕捉目标(图1 所示)。根据周围不同环境,需要不同颜色不同类型的迷彩服来进行掩饰。目前军用迷彩服主要应用于五种环境中:林地型、荒漠型、海洋性、丛林型、城市型,每种环境下的迷彩服均由四种颜色构成。根据JXUB 3015-2012 的标准,需要扫描迷彩服布料在五种不同环境下的不同颜色的反射光谱值,每种颜色的反射光谱值必须满足一定要求。紫外/ 可见/ 近红外分光光度计是利用一定频率的紫外-可见- 近红外光照射被分析的物质,它将有选择地被吸收,引起分子中介电子的跃迁,产生一组吸收随波长而变化的光谱,反映了试样的特征。主要用于测试半导体、光学元件、新型材料、纺织印染材料等的光谱性能,是功能最强劲的分光光度系统。针对迷彩服布料反射率的测试,我们推出PerkinElmer 公司高端Lambda 系列紫外可见近红外分光光度计,配置150mm 专用积分球,并搭配UV WinLab 软件可应对迷彩服布料反射率的测试。

反射紫外仪相关的资料

反射紫外仪相关的试剂

反射紫外仪相关的论坛

  • 紫外漫反射

    您好,群友们,我想问下谁做过高温 紫外原位漫反射,有问题咨询?方便的话 加下 qq918343184

  • 紫外可见光谱仪测量反射率

    请问下 用紫外可见光谱仪测试的时候,为什么加个积分球就可以用来测反射率?测量固体或胶体样品的时候,样品池里面是不是自带的那个就是积分球?可以给我说一下测量反射率的原理吗? 非常感谢

反射紫外仪相关的耗材

  • 极紫外平面反射镜
    极紫外平面反射镜1.zui大可实现 13.5nm 反射2.专为极紫外线光束转向和谐波分离而设计5°和45°自动光学检验的可用版本极紫外平面反射镜是多层反射镜,在其设计波长和入射角下实现zui大反射率。这些反射镜的特点是反射涂层沉积在一个超抛光的单晶硅基板上,表面粗糙度小于3? RMS. 45°自动光学检验反射镜可用于转向s偏振光束,而 5° 自动光学检验反射镜可用于非偏振光束. 极紫外线反射镜的应用包括相干衍射成像 (CDI) 和材料科学研究。极紫外平面反射镜也可用作高次谐波 (HHG) 光束的谐波选择器. 注意:附带每个反射镜运行样本的测试数据.通用规格基底:Single Crystal Silicon涂层:Mo/Si MultilayerTop Layer: Silicon 表面粗糙度(埃):3 RMS厚度容差 (mm):0.508直径 (mm):25.40 ±0.25镀膜类型:Metal/Semiconductor厚度 (mm):6.35表面平整度 (P-V):λ/10 @ 632.8nm订购信息: 涂层规格AOI (°)产品号R 60% @ 13.5nm5#38-759R 65% @ 13.5nm45#38-760
  • UltraFast Innovations (UFI)极紫外(EUV)阿秒多层反射镜
    UltraFast Innovations (UFI)极紫外(EUV)阿秒多层反射镜&bull 设计用于65eV(19nm)下的 330 阿秒脉冲&bull 具有38%峰值反射率的多层镀膜&bull ≤1&angst 表面粗糙度超抛光基底&bull 另外提供专为 13.5nm 设计的极紫外(EUV)平面反射镜 和 极紫外(EUV)球面反射镜&bull 备有现货库存&bull 无最小起订量、无镀膜批次费用通用规格直径 (mm):25.40 ±0.13基底:Fused Silica (Corning 7980)后表面:Commercial Polish涂层规格:Rs 38% @ 65eV/19nm涂层:EUV Multilayer (19nm)入射角 (°):5有效孔径 (%):80设计波长 DWL (nm):19边缘:Fine Ground表面粗糙度(埃):1Center Energy (eV):65 ±2Bandwidth (eV):6Supported Pulse Duration:330 attoseconds边缘厚度 ET (mm):6.35 ±0.20产品介绍UltraFast Innovations (UFI)的极紫外光(EUV/XUV)阿秒多层反射镜设计用于阿秒脉冲的转向、聚焦和整形。他们的多层膜中心位于65eV(19nm),带宽为6eV(1.8nm),为 S 偏振光提供38%的峰值反射率。这些反射镜支持持续时间为330阿秒的极紫外(EUV)脉冲。 UFI极紫外(EUV/XUV)阿秒反射镜是基于高次谐波(HHG)、自由电子激光器(FEL)或其他量子光学应用产生和整形阿秒脉冲的理想选择。原子般精密的离子束沉积可以获得原子般光滑的镀膜。这些反射镜能够在不断增长的应用空间中高效精确地控制波长和光谱相位。亚秒科学突破了超快激光器的极限,提供了接触一些最基本的科学过程的机会,如:电子的运动。极紫外(EUV)反射镜也被称为XUV/软X射线反射镜。极紫外(EUV)阿秒多层反射镜背后的物理原理是来自多层膜堆叠的每个界面反射和散射 EUV 辐射的干涉。可提供直径为25.4mm的平面反射镜和凹面反射镜;如果您的应用需要定制中心能量、带宽或其他规格的极紫外(EUV)多层反射镜,请与我们联系。订购信息标题 产品编码25.4mm Dia., 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Flat Mirror16-76525.4mm Dia. x 250mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror16-76625.4mm Dia. x 500mm EFL, 19nm (65eV), 5° EUV/XUV Attosecond Multilayer Concave Mirror 16-767技术数据
  • 精密球面紫外反射镜
    精密球面紫外反射镜&bull 设计波长 120nm 和 190nm&bull 聚焦 VUV 或 DUV 光的理想选择&bull 通过可见光和红外波段的宽带反射率&bull 另有 精密平面镜 可供选择通用规格基底:Fused Silica (Corning 7980)表面质量:20-10直径 (mm):25.40 +0.00/-0.20镀膜类型:Metal后表面:Fine Grind有效孔径 (%):90边缘厚度 ET (mm):6.35 ±0.10Irregularity (P-V) @ 632.8nm:λ/10真空兼容性 :10-7 Torr产品介绍TECHSPEC® 精密球面紫外(UV)反射镜在高精度凹面激光反射镜基材上采用了增强型深紫外(DUV)或真空紫外(VUV)强化金属镀膜。真空紫外(VUV)镀膜设计的峰值反射率在 120nm处,而增强型深紫外(DUV)镀膜设计在 190nm处 ;这两种镀膜在紫外波长之外提供与标准增强型铝镀膜相似的反射率。这些镀膜的真空度可低至 10-7 Torr,并沉积在熔融石英基片上,提供了优异的抗温度波动能力。TECHSPEC® 精密球面紫外(UV)反射镜非常适合深紫外(DUV)分光光度计、电感耦合等离子体(ICP)分光光度计或其他基于VUV/UV的分析应用。 请注意: 这些增强型金属镀膜相对较软,很容易被指纹和气溶胶损坏。订购信息 Dia. (mm)EFL (mm)涂层产品编码25.40 +0.00/-0.2025.00 Enhanced Aluminum (120-600nm)24-05625.40 +0.00/-0.2050.00 Enhanced Aluminum (120-600nm)24-05725.40 +0.00/-0.2075.00 Enhanced Aluminum (120-600nm)24-05825.40 +0.00/-0.20100.00 Enhanced Aluminum (120-600nm)24-05925.40 +0.00/-0.2025.00 Enhanced Aluminum (190-900nm)24-06225.40 +0.00/-0.2050.00 Enhanced Aluminum (190-900nm)24-06325.40 +0.00/-0.2075.00 Enhanced Aluminum (190-900nm)24-06425.40 +0.00/-0.20100.00 Enhanced Aluminum (190-900nm)24-065
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