吞吐量测试仪

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吞吐量测试仪相关的厂商

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    环球分析测试仪器有限公司(UATIL)成立于1982年,总部设在香港,是国外多家知名的高新科技仪器生产制造商在中国的独家总代理。主要产品电化学仪器:电化学工作站、光电化学测试设备 化学合成仪器:全自动反应系统、反应量热仪、超声波结晶系统、平行合成仪、高温高压釜、流动化学系统 萃取及纯化仪器:超临界萃取仪、快速制备色谱、固相萃取、溶剂蒸发仪、气体纯化系统 生命科学仪器:生物反应器、发酵罐、冷冻干燥机、移液工作站、离心浓缩仪 乳品分析仪器:乳品成分分析仪、体细胞计数器、奶牛生产性能测试仪 材料测试仪器:网格应变测试仪、杯凸试验机 惰性环境仪器:手套箱 微流控仪器:单细胞测序、细胞包裹、微流控芯片、微流泵、液滴微流控系统、3D芯片打印机
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  • FISCHER — 让测量变得简便! 现今,FISCHER 的测量和分析仪器广泛应用于世界各个领域,可满足客户对高精度、高可靠性测量和操作简便的需求。我们通过专业的咨询服务为客户提供最佳的解决方案,即从第一次接触开始,不断沟通,直至达到定制化服务的理念。这些紧密合作与我们的创新驱动力不断结合,为形成新的测量解决方案奠定了坚实的基础。 HELMUT FISCHER集团是一家受德国基金会控股、专业生产和销售涂镀层测厚仪、材料分析仪、微纳米压痕仪(微纳米硬度仪)和材料测试仪的全球性集团公司。集团总部位于德国和瑞士,在德国、美国和英国各建有一个工厂、并设立了一个研究院和多个全球用户应用实验室,在全世界设有近50个分公司。??位于德国总部的基地,用于生产、物流、研发及客户应用??南通菲希尔测试仪器有限公司是HELMUT FISCHER集团在中国大陆地区设立的唯一子公司,全权负责FISCHER产品在中国地区的销售、安装、维修、备品备件及技术咨询等业务。FISCHER生产的涂镀层测厚仪主要分为:X射线涂镀层测厚及材料分析仪、β射线测厚仪、电涡流法测厚仪、电磁感应测厚仪、库仑法(多层镍电位差)测厚仪,除此之外还有包括 微纳米压痕仪(微纳米硬度仪)、电导率测试仪、铁素体含量测试仪、孔隙率测试仪 和 针孔测试仪 等在内的多种测试仪器。 FISCHER 公司生产的各类仪器,广泛应用于航天工业、航空工业、造船工业、港口机械、电镀工业、显像管流水线、电子工业(包括印制电路行业、半导体工业)、汽车工业、石油化工、黄金珠宝、手表、大专院校、科研单位、第三方测试机构等众多行业。 南通菲希尔测试仪器有限公司成立于1997年,位于中国上海,至今已在东莞建立了分公司;在北京、西安、青岛、厦门设立了办事处;并在成都、昆山、苏州、南京、宁波等地建立了售后服务点。FISCHER中国的应用实验室更是在2011年获得了ISO/IEC17025:2005认证。 “让用户满意”是公司的一贯宗旨,FISCHER将以一流的服务来赢得用户的信赖。选择FISCHER仪器,为您产品的超高品质提供保障。 认证在 FISCHER,产品和服务的认证和持续改进至关重要。这也是Helmut Fischer GmbH,Institut für Elektronik und Messtechnik 能够通过 ISO 9001 认证的原因。自 1997 年起,我们的质量管理体系已符合 DIN EN ISO 9001:2008 标准。 获得认证的校准实验室 获得认证的校准实验室2003 年,Helmut Fischer 成为了第一个根据 DIN EN ISO/IEC 17025 标准而获得的“表面尺寸”量值认证的德国公司。因此,公司有资格代表德国认证机构 DAkkS 来检验校准标准片,并为其出具证书供用户使用。校准标准片如可用于:例如,对 X 射线荧光仪器进行校准;从而极大地提高了测量的可靠性。 Germany: DIN EN ISO/IEC 17025 USA: ISO/IEC 17025:2005 & ANSI/NCSL Z540-1-1994 Switzerland: ISO 17025 SCS & STS DIN 成员(德国标准化学会) 自 2016 年 3 月 1 日起 FISCHER 成为 DIN 成员。公司自愿遵守标准化自律守则,提升总体经济竞争力。 应用实验室凭借我们在业内多年的经验优势,助力您解决复杂的测量难题。在遍及欧洲、亚洲和美国的七个应用实验室中,我们的技术专家会为客户在正确选择仪器、开发测量方法及确定合适的测量程序方面提供支持。 凭借我们在业内多年的经验优势,助力您解决复杂的测量难题。 所有 Fischer 集团内部的应用实验室之间都已建立联系,同时也与各高校、机构及企业建立了合作关系。这样稳定的知识交流体系能够确保获取到全球最前沿的专业知识,同时也能够应对特殊咨询。除提供客户定制培训(可以在我们的实验室进行也可以在您的公司进行)外,我们的技术专家也非常愿意协助您对测量结果进行分析。 Helmut Fischer 博物馆企业家 Helmut Fischer博士的专业知识、工作热情、发明家精神以及卓越的执行力是公司成功发展的源动力。他的成功故事从 1953 年在斯图加特创建的技术车间开始。现今,Fischer 作为业务遍及全球的大公司,已成为工业测量技术领域的领导者之一。持续改革与永无止境的创新是其从始至终一直坚守的明确目标。Helmut Fischer 研发的首款测量仪器 位于总部的博物馆展示了公司创始人,同时也是公司长期所有人 Helmut Fischer博士的成功人生。参观者们受邀来感受公司从小工厂成长为国际性解决方案提供商的发展历程,以及了解 Fischer产品从最初创意到最终投入市场的整个过程。Helmut Fischer 博物馆的常客:当地的在校学生 ????????更多详情请访问公司官网:http://www.helmutfischer.com.cn
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  • 山东省潍坊瑞格测试仪器有限公司成立于2008年3月,是一家专业生产和销售分析检测仪器设备的高科技公司,总注册资金100万元,现有员工35人,其中工程技术人员14人,高级职称技术人员3人。公司积极引进国内外的先进技术,目前,我们开发的PRT系列农药残毒速测仪,采用国内先进技术,具有新颖的操作界面、精准的测量装置及池位自动识别功能等优点,已领先于国内同行业; FT系列土壤粉碎机是我公司具有多项技术专利的产品,其中FT-2000\FT-3000型粉碎机上运用的特殊除尘装置解决了普通粉碎机在粉碎土样时粉尘飞扬的情况,可有效地保护实验室环境和操作人员的身体健康,产品在全国23个省土肥站测土配方施肥项目仪器采购中中标,得到广大用户的好评,与国内同类产品相比优势明显;行星式球磨机系列产品主要应用于环境监测和土壤污染治理实验室以及土肥检测中的微量元素检测,具有效率高、无样品污染、噪音低等优点;针对测土配方施肥项目我们成功开发出土壤养分速测仪、土壤水分测试仪等一系列产品,解决了农民在农业生产中的实际问题;另外我公司成功开发出氮吹仪系列产品和实验室器皿消毒清洗机等产品,为实验室的玻璃器皿清洗问题提供更加优化的清洗方案。我公司有较强的开发与技术合作能力,主要致力于各类化验、检测设备的研究与开发,并且与国家重点科研院校建有长期合作关系,并聘请多位行业内著名学者、专家担任公司的技术顾问。公司与山东大学控制科学与工程学院签署产学研合作协议,依托高校的技术优势,结合我公司的社会资源共同开发相关产品,服务社会。
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吞吐量测试仪相关的仪器

  • 高吞吐量体内 Micro-CT 快速 Micro-CT 扫描仪,具备不足 1 分钟的扫描和重构周期SKYSCAN 1178 是一款快速 Micro-CT 扫描仪,不到 1 分钟即可完成整个容积的扫描和重构。实验室动物和工业应用中体内扫描的静态对象位置辅助。网络集群重建允许在扫描完成之前生成数据库,而整个扫描重建周期可以在不到一分钟内完成。由碳纤维制成的大小鼠动物床放置在一个可交换支架上,以便与 PET、SPECT 和生物荧光相结合。生理监测子系统可以实时测量呼吸和心跳,同时还为门控采集提供信号。我们提供全系列 SkyScan 软件,包括快速容积重建、适用于 2D / 3D 定量分析和逼真 3D 可视化的软件。 特点40-45 秒钟内完成小鼠全体扫描利用扫描进行快速集群重建模拟可交换床支架与 PET、SPECT 和生物荧光相结合集成生理监测(呼吸、移动检测、ECG)和门控适用于 2D/3D 成像分析、骨形态测量和逼真可视化的软件X光光源:密封金属陶瓷射线管20-65kV,40WX光探测器:数字X光相机1280x1024 像素,12位扫描体积:82mm 直径,82mm 单次扫描长度,200mm 全屏长度体素大小(各向同性):80μm (1024x1024x1024) 或160μm (512x512x512像素)最低扫描时间:小于45s (160μm), 全体扫描需要3min 20s (80μm) 重建时间:45s (160μm), 采集过程中全体扫描需要3min (80μm) 控制:呼吸、心跳(更多生理监控)辐射安全:扫描过程中仪器表面任一点 1μSv/h
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  • 上海伯东日本 Atonarp Aston&trade 在线质谱仪提高 low-k 电介质沉积的吞吐量沉积晶圆通量是晶圆厂 FAB 效率的关键指标之一, 也是晶圆厂 FAB 不断改进以降低每次移动成本和减少资本支出的关键指标. 上海伯东日本 Atonarp Aston&trade 质谱仪提供腔室清洁终点检测方案已成功应用于 low-k 电介质沉积应用 ( 特别是氮化硅 Si3N4 ), 在减少颗粒污染的同时, 缩短了生产时间.low-k 电介质沉积需要经常清洁工艺室以去除沉积冷凝物的堆积. 如果不清除冷凝物可能会导致颗粒薄片从腔室壁上分层, 从而导致产量损失.通常每 5 片晶圆进行一次清洁(在 25 片晶圆批次中进行 5 次).上海伯东日本 Atonarp Aston&trade 质谱仪提供腔室清洁终点检测解决方案为了提高整个工艺吞吐量, 需要使用端点检测来缩短腔室清洁周期时间. 使用残余气体分析仪 RGA 或光学发射光谱 OES 的传统计量解决方案是无效的. 用于腔室清洁的三氟化氮 NF3 气体对 RGA 电子碰撞电离源具有高度腐蚀性(使其无法用于生产), 并且 OES 需要在清洁周期中不存在等离子体. 从历史上看, 腔室清洁周期是一个固定时间的工艺步骤, 有足够的余量, 以确保考虑到腔室之间的统计变化. 借助上海伯东日本 Atonarp Aston&trade 质谱仪基于终点检测的腔室清洁既可以缩短处理时间, 又不会影响工艺裕度, 还可以避免过度清洁, 因为过度清洁会造成氟化铝污染, 造成大量腔室的陈化处理.使用 Aston&trade 质谱仪检测结果让处理时间减少 40%:在最近的一次晶圆厂 FAB 连续生产研究中, Aston 质谱仪将整个腔室清洁周期缩短了高达 80%. 在总共5片晶圆加工周期内, 晶圆沉积和晶圆室清洁的周期时间, 总共减少了 40% 以上.更高的吞吐量和产量: 除了缩短工艺时间之外, 研究还发现, 基于 Aston 端点的清洁周期在基于时间的遗留解决方案中, 由于过度清洁而导致的腔室侧壁超过蚀刻产生的颗粒很少. 基于较低的后处理颗粒污染, 预测总体产品产量提高.设备和工艺协同优化 EPCO: 380亿美元的长期制造优化机会许多先进的制造工艺都需要设备和工艺协同优化 EPCO. 麦肯锡公司 McKinsey & Co. 在2021年发表的一篇论文表明, 利用人工智能 AI 和机器学习 ML 进行半导体制造优化, 通过提高产量和提高吞吐量, 有望节省380亿美元的成本. 麦肯锡强调, 帮助企业实现这些好处的干预点之一是调整工具参数, 使用当前和以前步骤的实时工具传感器数据, 使 AI/ML 算法优化工艺操作之间的非线性关系. 成功部署 AI/ML 的关键是可操作的实时数据. 上海伯东日本 Atonarp Aston&trade 质谱仪原位实时分子诊断和云连接数据是实现这一能力的关键技术, 从而解锁半导体 EPCO 的潜力.Atonarp Aston&trade 质谱仪优点1. 耐腐蚀性气体2. 抗冷凝3. 实时, 可操作的数据4. 云连接就绪5. 无需等离子体6. 功能: 稳定性, 可重复性, 传感器寿命, 质量范围, 分辨率, 最小可检测分压, 最小检测极限 PP,灵敏度 ppb, 检测速率.Atonarp Aston&trade 质谱仪半导体行业应用1. 介电蚀刻: Dielectric Etch2. 金属蚀刻: Metal Etch EPD3. CVD 监测和 EPD: CVD Monitoring and EPD4. 腔室清洁 EPD: Chamber Clean EPD5. 腔室指纹: Chamber Fingerprinting6. 腔室匹配: Chamber Matching7. 高纵横比蚀刻: High Aspect Ratio Etch8. 小开口面积 0.3% 蚀刻: Small Open Area 0.3% Etch9. ALD10. ALE若您需要进一步的了解 Atonarp Aston&trade 在线质谱分析仪详细信息或讨论, 请参考以下联络方式:上海伯东: 罗先生
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  • HL9900 霍尔效应测试仪应用程序通过霍尔效应测量,可以确定以下特性:电阻率/电导率流动性散装/单张载体浓度掺杂类型霍尔系数磁阻垂直/水平阻力比特性Van der Pauw, Hall Bar和Bridge测量符合ASTM F-76标准简单的探针系统,方便,快速的样品吞吐量紧凑的工作台设计宽电流范围,包括自动电流装置,以尽量减少样品加热用户自定义电场限制,以避免低温下的冲击电离效应可选的高阻抗缓冲放大器/电流源扩展片电阻率测量到1011 Ω/平方HL9950 -可变温度单元Van der Pauw, Hall Bar和Bridge测量符合ASTM F-76标准简单的探针系统,方便,快速的样品吞吐量紧凑的工作台设计宽电流范围,包括自动电流装置,以尽量减少样品加热用户自定义电场限制,以避免低温下的冲击电离效应可选的高阻抗缓冲放大器/电流源扩展片电阻率测量到1011 Ω/平方
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吞吐量测试仪相关的资讯

  • 科学家通过扫描探针并行化,提高AFM成像的吞吐量
    近日,研究人员在Nature Communications发表相关论文,提出了一种方法来实现AFM大面积高分辨率的成像。在显微镜中,分辨率和视野通常是互相矛盾的。以原子力显微镜(AFM)为例,悬臂探针在扫描基板时,在局部力的影响下会发生偏转,因此高分辨率成像很大程度上会局限于小区域。尽管原子力显微镜在材料科学、生物学和表面科学等领域产生了巨大的影响,但成像领域的局限性仍然是研究复杂层次结构样品的关键障碍。针对于此,研究人员通过结合无悬臂梁探针结构和用于检测探针-样品接触的可伸缩光学方法,证明了具有1000个探针的大规模平行AFM是可能的。具体而言,发现相对柔顺薄膜上的光学反射锥形探针包含分布式光学杠杆,该杠杆将探针运动转换为提供低于10 nm垂直精度的光信号。这种方法的可扩展性使得它非常适合需要大面积高分辨率的成像应用。原子力显微镜(AFM)自1986年发明以来,已成为获取微纳米尺度表面形貌和功能特性信息的主要方法。为了检测尖端和基底之间的微小力,AFM通常使用在局部力的影响下偏转的微悬臂,产生可以使用光学杠杆检测到的运动。然而,由于基于探针的成像的串行性,只能以较小的视场为代价来获得更高的空间分辨率。目前正在努力解决这一挑战,包括设计具有更高带宽的探测器,以及采用诸如IBM千足虫之类的探测器阵列。然而,现代成像阵列只有30个探头,突出了有效并行悬臂梁传感的困难。虽然AFM界对探针阵列的采用受到限制,但是探针阵列被广泛用于扫描探针光刻(SPL),或者通过机械变形、阳极氧化和直接材料沉积等多种方式使用纳米级物理探针来定义图案的过程。为了解决串行图形固有的有限吞吐量,研究人员探索了一种无悬臂梁结构,其中探针阵列位于刚性表面上的顺应膜上。虽然这种结构赋予了探针所需的柔顺性探针-样品接触和可扩展性提供多达数百万探头,但悬臂梁提供的力感应能力丧失。如果这种无悬臂梁的探针阵列能够被修改以实现探针-样品接触的并行检测,那么它们就可以提供一种大规模并行化AFM的方法,并且可以革命性地增加这种有影响力的成像工具系列的吞吐量。a.实验装置侧视图,探针-样品接触导致弹性体薄膜变形。b.通过蓝宝石晶圆观察弹性薄膜变形时的光学对比度图示。反射光强度I随位置变化x而变化。探针运动的光学特征称为分布光学杠杆。c.用于实现用于成像的探针阵列的微加工工艺,涉及蓝宝石晶片、聚二甲基硅氧烷(PDMS)背衬层、刚性聚合物探针和铝反射涂层。探针阵列的扫描电子显微镜(SEM)图像和比例尺分别为60µm和3µm的阵列d和单个探针e的图像。科研人员在成果中展示了由无悬臂结构中的探针阵列实现的大规模并行原子力显微镜,这些探针通过被称之为分布式光学杠杆的可伸缩光学机制提供局部形貌信息。通过建立分布式光学杠杆的模型,利用配位力和光学显微镜对其进行系统的研究,研究人员发现光学对比度在力和变形方面呈线性关系,能够提供低于10 nm的垂直精度。基于这种结构和成像机制的探针阵列,研究人员同时在阵列中使用1088个探针成像,并以100纳米横向分辨率和9纳米垂直精度在0.5毫米范围内绘制样本高度。该系统的高通量特性使其在高分辨率大面积的领域具有重要的应用前景,如集成电路计量、光学亚表面表征和生物组织的多尺度研究。通过设计分布式光学杠杆来测量每个探针的变形,科研人员证明了扫描探针可以并行化,从而提高AFM成像的吞吐量。在最初的演示中,1088个探针被并行使用,以纳米级分辨率成像5毫米宽的表面。由于其结构简单且与现有的光刻系统兼容,这些探针阵列可以作为独立的成像工具或作为大规模并行光刻系统的补充,以实现纳米组合实验中的同时光刻和成像。并行化在增加成像带宽的同时,也加强了这种方法的主要局限性,即探头无法独立移动以调节探头-样本力或容纳非常高的特征。在这里讨论的探针阵列中,这将对样品平面度和垂直范围施加限制。然而,值得强调的是,显示无悬臂梁阵列不必是被动的,因为扫描探针光刻实验表明,这种阵列可以使用光、热或气动系统进行独立调制,这可能为克服并行化带来的挑战提供了一条途径。有趣的是,亚波长光阑阵列与无悬臂梁结构相结合,实现了无衍射光刻。如果目前的CF-AFM方法可以与这种孔径阵列结合使用,它就有可能实现大规模并行扫描近场光学显微镜(SNOM)。因此,这种成像方法为从组织工程到光学超表面和集成电路的检测等多种应用的表面形貌的快速和高分辨率查询打开了大门。原文链接:https://www.nature.com/articles/s41467-020-20612-3
  • 应用材料推出Enlight®2光学检测系统,吞吐量提高50%
    长期以来,良率一直被认为是半导体制造中最关键的指标之一。对于芯片制造商来说,减少将工艺提升到生产级良率所需的时间可能价值数十亿美元。因此,制造商在晶圆检测技术上投入巨资,以帮助快速发现和纠正影响良率的缺陷,最好是在它们影响晶圆厂产量之前。缺陷检测工具箱中有两个互补的工具:检测和复查。在最常见的策略中,芯片制造商使用基于光学的检测技术来检测晶圆上的潜在缺陷,然后进行电子束复查,电子束复查具有按类型查看和表征缺陷所需的更高分辨率,以帮助工程师发现和解决其根本原因。光学缺陷检测和电子束缺陷审查是相辅相成的——前者以牺牲分辨率为代价在更短的时间内扫描晶圆,而后者提供高分辨率,但扫描晶圆需要更长的时间。最佳策略是将这两种工具的优点结合起来。然而,随着半导体设计变得越来越复杂,光学检测正面临挑战。随着线宽的缩小,细小的有害颗粒成为杀手级缺陷。随着设备架构向 3D 过渡,颗粒变得越来越难以检测和观察。随着多图案化和 3D 架构增加了相邻工艺步骤的图案化相互依赖性,需要更多的检测点来追溯缺陷的根本原因。芯片制造商越来越面临成本困境:要么增加检测量而增加制造成本,要么节省成本并降低制造良率。2021 年,应用材料公司推出了一款创新的光学检测系统,旨在帮助芯片制造商驾驭这个复杂的新时代。Enlight® 明场光学晶圆检测系统将行业领先的速度与高分辨率光学器件相结合,可从每次晶圆扫描中捕获更多对良率至关重要的数据。它是唯一同时具有明场和暗场检测通道的系统,使其能够同时收集反射光和高角度散射光,以检测最小的缺陷。Enlight 系统架构改变了光学检测的经济性,将捕获关键缺陷的成本优势提高了 3 倍。成本优势使Enlight系统客户能够减少检测预算或插入更多检测点,以在相同的预算下检测更多的颗粒和图案错误。因此,Enlight 系统已成为应用材料公司历史上速度最快的检测系统,并被其所有领先的晶圆代工客户用于大批量生产。今年,应用材料推出了 Enlight® 2 系统,它将吞吐量和灵敏度提升到新的水平。区分妨害和缺陷Enlight 2 系统旨在检测数量最多的良率扼杀缺陷,同时保持较低的误报率。Enlight 2 具有两项升级,可提高对相关缺陷的敏感度:图像处理能力的阶跃函数和成像动态范围的增加,每次扫描都能检测到 100 倍以上的潜在缺陷。新的 SideView™ 模块可实现晶圆的倾斜照明,从而将检测 3D 缺陷的灵敏度提高近一倍。该系统还提供了新的干扰抑制功能:一种名为SELFI的新型深度学习引擎™检测和分类超过十亿个缺陷图像,使工程师能够捕获3倍以上的目标缺陷。一种名为GF Polaris™的新型光偏振模块扩展了360度可调偏振,以控制灰场检测通道,并减少50%的滋扰。提高限速Enlight 2 包括多项增强功能,可进一步提高系统的吞吐量:新的混合计算架构利用图形加速器和专用图像处理器将 CPU 性能提高 4 倍,数据存储速度提高 5 倍,网络吞吐量提高 2.5 倍。一台新的望远镜将系统的晶圆扫描吞吐量扩大了40%以上。降低拥有成本这些速度和灵敏度的改进使芯片制造商能够在整个制造流程中插入更多的检测点,同时为每个配方提供更多的扫描集,同时保持相同的总体拥有成本。同时,检测阶段可操作信息数量的增加增强了在良率偏移发生之前预测良率偏移的能力,立即检测偏移,以便可以停止晶圆加工以保护良率,并实现根本原因追溯,以加快纠正措施和恢复大批量生产。芯片制造商倾向于降低检测工具的灵敏度,以尽量减少干扰检测,这增加了遗漏关键缺陷的风险。为了缓解这一挑战,应用材料公司的 ExtractAI™ 技术使用大数据帮助客户在在线监测期间快速创建完全分类、无噪声的地图。Enlight 2 系统的预测功能与 ExtractAI 相结合,在明场光学晶圆检测和我们行业领先的电子束审查系统 SEMVision® 之间提供了实时、智能的链接。ExtractAI 技术使用人工智能 (AI) 来表征晶圆上的所有潜在缺陷,为 SEMVision eBeam 系统提供可操作的分类缺陷图。电子束系统反过来训练 ExtractAI 技术对杀良率缺陷进行分类,从而能够快速准确地将杀良率缺陷与高端光学扫描仪产生的数百万个干扰信号区分开来。通过结合应用材料一流的光学检测和电子束审查技术,创建了业界唯一的智能解决方案,不仅可以检测和分类良率关键缺陷,还可以实时学习和适应工艺变化。在发布该系统前,应用材料已经向客户交付了两位数数量的系统,用于大批量生产,结果显示可以在不牺牲灵敏度的情况下将吞吐量提高 50%。应用材料的目标是在未来几年内创造超过10亿美元的收入,并帮助客户在芯片制造的新时代增加晶圆厂的产量和产量,从而创造数十亿美元的收入。
  • 日立推出暗场晶圆缺陷检测系统DI4600,吞吐量提高20%
    日立暗场晶圆缺陷检测系统DI46002023年12月6日,日立高新宣布推出日立暗场晶圆缺陷检测系统DI4600,这是一种用于检测半导体生产线上图案化晶圆上颗粒和缺陷的新工具。DI4600 增加了一个专用服务器,该服务器提供了检测颗粒和缺陷所需的显著增强的数据处理能力,从而提高了检测能力。与之前的型号相比,通过缩短晶圆转移时间和改进晶圆检测期间的操作,系统的吞吐量也提高了约 20%。DI4600将实现半导体生产线中高精度的缺陷监测,这将有助于提高产量和更好的拥有成本,促进半导体产量持续扩大。发展背景在当前的社会环境中,DRAM和FLASH等存储器半导体设备,MPU和GPU等逻辑半导体不仅用于智能手机、笔记本电脑和PC,还用于生成人工智能(AI)计算和自动驾驶。随着半导体器件的萎缩和复杂性的发展,对制造过程清洁度和检测能力的要求也变得更加严格。半导体制造商不断努力提高竞争力,尤其是在性能和制造成本方面。图案化晶圆检查工具通过检查生产晶圆的表面是否有颗粒和缺陷,有助于产量管理,使工程师能够监测半导体处理工具的清洁度变化和趋势,因此对半导体器件的性能和制造成本有很大影响。关键技术1.高通量与现有型号相比,通过减少晶圆转移时间、改善晶圆检测期间的操作和优化数据处理顺序,吞吐量提高了约 20%。2.高精度检测由于增加了专用服务器,因此提高了检测精度,该服务器提供了检测颗粒和缺陷所需的显着增强的数据处理能力。

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  • 罗德与施瓦茨R&S ZVA24矢量网络分析仪

    罗德与施瓦茨R&S ZVA24矢量网络分析仪

    罗德与施瓦茨R&S ZVA24矢量网络分析仪刘S 181-2461-8938技术咨询:181-2461-8938(微信180-2544-6127)传真:0755-27538807客服QQ:2770811561[img=,690,517]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2021/11/202111260933579909_4386_5454851_3.jpg!w690x517.jpg[/img]罗德与施瓦茨R&S ZVA24 矢量网络分析仪?矢量网络分析仪2个端口,8 GHz的频率范围:300 kHz至8 GHz测试端口:N(F)优化测试和配置的时间,以提高吞吐量直观的用户界面和显示配置现代校准技术连通性R&S?ZVA设置里程碑的挑战性的应用:优化测试和配置的时间,以提高吞吐量

  • 继电保护测试仪的用途有哪些?

    继电保护测试仪的用途有哪些?

    众所周知,继电保护系统是电力系统中的组成部分。当电路出现故障时,它可以快速准确地切除故障部分,让电力系统的安全稳定运行。然后,为了提前发现和查出继电保护系统的故障和问题,通常需要使用继电保护测试仪。大多数人都知道这个设备,但很多人可能对它了解不多。今天我们就来盘点一下4点[url=http://www.whfulude.com/jbq/]继电保护测试仪[/url]的用途和6点功能!让我们来看看。[align=center][img=继电保护测试仪,484,300]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2023/12/202312272135327993_4717_6337156_3.jpg!w484x300.jpg[/img][/align]  [b]一、继电保护测试仪的用途如下:[/b]  1、故障模拟和测试:继电保护测试仪可以模拟短路、断路等各种类型的电力故障,为继电保护系统提供测试环境。通过模拟故障,可以检查继电保护装置在故障发生时是否能够准确快速地移动,从而让电力系统安全。  2、性能评估:继电保护测试仪可以通过测量动作时间、动作值等参数来判断继电保护装置的性能,从而评估继电保护装置的性能。这有助于及时发现和更换性能差的继电保护装置,提高电力系统的正常性。  3、调试和维护:继电保护测试仪可用于新继电保护装置的安装或维护过程中的调试和维护。通过测试,可以检查设备的所有功能是否正常,参数设置是否正确,让设备正常运行。  4、培训教学:继电保护测试仪也广泛应用于电力系统的培训教学中。它使学生能够实际操作,了解和掌握继电保护装置的工作原理和操作方法,提高实际操作技能。  [b]二、继电保护测试仪的功能如下6个:[/b]  1、测量:继电保护测试仪具有测量的电压、电流、电阻等测量功能,能准确评估继电保护装置的性能。  2、数据处理能力:继电保护测试仪可以快速、准确地处理和分析测量数据,并提供各种参数的报表和图形显示。  3、自动化测试:继电保护测试仪能实现自动化测试,降低了人工操作的难度和工作量。  4、远程控制功能:通过计算机或网络连接,可对继电保护测试仪进行远程控制,实现远程测试和数据分析。  5、自我诊断和报警:继电保护测试仪具有自我诊断功能,能在设备出现故障时显示故障,方便用户快速定位和解决问题。  6、录音报告:继电保护测试仪可以记录测试过程和结果,生成详细的报告,方便用户查看和分析。  更多关于继电保护测试仪的产品及相关信息,欢迎来武汉福禄德电力查看:http://www.whfulude.com/gongsi/1662.html

吞吐量测试仪相关的耗材

  • 溶出度测试仪配件
    溶出度测试仪配件是一款自动药物溶出度仪,用于测量药物或化学物质在设定温度下的溶解情况,溶出度测试仪配备了蠕动泵和分光光度计,是领先的进口自动溶出度测试仪。溶出度测试仪配件特点六杯六杆,桨杆等采用进口SUS316不锈钢。数字读取提供连续更新的精确轴速度。水浴温度可设定到所需温度。旋转度可无限变化,可设定到任意所需速度。水浴温度均匀。全自动智能化控制温度、转速及时间三个参数。可以随意预置参数;分时显示预置值和实时值。溶出度测试仪配件应用用于药片,胶囊,药丸,固体剂型以及各种药品的溶出度测试,药品质量控制,研发。适合科研院所和制药企业的实验室使用。溶出度测试仪配件参数转速:10-250rpm电力:220V/50Hz安全功能:低水位,过热,防漏电温度:数字温度控制系统加热器:900W重量:62kg孚光精仪是全球领先的进口科学仪器和实验室仪器领导品牌服务商,产品技术和性能保持全球领先,拥有包括溶出度测试仪在内的全球最为齐全的实验室和科学仪器品类,世界一流的生产工厂和极为苛刻严谨的质量控制体系,确保每个一产品是用户满意的完美产品.我们海外工厂拥有超过3000种仪器的大型现代化仓库,可在下单后12小时内从国外直接空运发货,我们位于天津保税区的进口公司众邦企业(天津)国际贸易公司为客户提供全球零延误的进口通关服务,确保中国用户以极低的成本享受进口优质产品的良好体验。关于溶出度测试仪参数,溶出度测试仪应用,溶出度测试仪特点的更多消息,孚光精仪将在第一时间更新并呈现,想了解更多内容,关注孚光精仪等你来体验!
  • 拉脱法附着力测试仪
    拉脱法附着力测试仪 测量金属、混凝土和其他基材上的涂层附着力-自我对中功能给附着力测量带来新的意义。 容易使用 便携、人手操作,仪器可在任何场合下使用,不需要外部电源,在实验室和现场测试皆宜。 又大、又易于阅读的刻度(Ø 94 mm) 价廉,一次性使用的底盘消除了重复使用所需的加热、清洁或刷洗工序。 每个工具箱均包括测试所需的所有东西。 可 靠 每一个PosiTest附着力测试仪的压力系统都经过较准,可达到所使 NIST具追朔性载荷单元± 1%的精度。 优质,精确的表盘指示器。 一年保修 符合ASTM D 4541,ISO 4624标准 通 用 自我对中底盘可测量光滑或不平表面且不会影响测试结果。 多种型号可选,用于测量不同基材上的涂层附着力。 20mm的底盘用于金属、塑料和木质基材,50mm底盘用于石质基材,如混凝土等。 客户若需适合特别测量需要的其它尺寸底盘可联系供应商索取进一步细节。 AT-C型包括独特的钻孔模板,将测量区域从周围涂层隔开,用于测试厚涂层。 刻度盘具有MPa和PSI读数。 器包括: 手动液压泵 调速控制器 铝制测试底盘 磨耗板 20mm底盘切割工具(仅AT-P、AT-M和AT-CM配) 钻孔模板和10个钻头,用于厚涂层(仅AT-C和AT-CM配) 粘着剂 粘着剂混合棒和盘 (5个) 粘着剂兼容性测试棉棒 (5个) 说明书 校准证书,具NIST追朔性 坚固、轻型的携带箱 订货指引 型号 PosiTest AT-C PosiTest AT-P PosiTest AT-M PosiTest AT-CM 典型应用 混凝土上涂层 塑料、木头、金属上清漆层 金属上涂层 混凝土和金属上涂层 附着力范围 0-500 PSI 0-3.5 MPa 0-1000 PSI 0-7 MPa 0-3100 PSI 0-21 MPa 结合了AT-C和AT-M型号 分辨率 3.2 PSI 0.03MPa 10 PSI 0.1MPa 20 PSI 0.2MPa 底盘尺寸(mm)* 50 20 20 * 还有其它尺寸的底盘可满足客户需要--联系供应商以获得详细资料。
  • Ashcroft 测试仪表
    Ashcroft 测试仪表1、Ashcroft 测试仪表 精确地测量真空压力从 -30" 到 60 psi。2、Ashcroft 测试仪表 提供模拟和数字两种格式。3、Ashcroft 测试仪表 精确至 +/- 0.25%.4、Ashcroft 测试仪表 仪表可以连接到罐阀。高精度测试的仪表,建议用于验证采样前后真空/压力罐的压力。模拟仪表6英寸的表面方便阅读。数字压力表运作时需要两节AAA电池供电,可提供一个明确的读数。两个压力表的精度为+ / - 0.25%,并是全金属接液部件。产品描述 包装量 货号# 模拟测试压力表, 直径6" ,NFT 1/4" 单个 24285 数字测试压力表,直径3" , NFT1/4" 单个 24268 Ashcroft 不锈钢压力表接头,链接到罐阀。1/4" 外螺纹接头链接到 1/4" 内螺纹接头 单个 22121
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