薄膜涂层应力仪

仪器信息网薄膜涂层应力仪专题为您提供2024年最新薄膜涂层应力仪价格报价、厂家品牌的相关信息, 包括薄膜涂层应力仪参数、型号等,不管是国产,还是进口品牌的薄膜涂层应力仪您都可以在这里找到。 除此之外,仪器信息网还免费为您整合薄膜涂层应力仪相关的耗材配件、试剂标物,还有薄膜涂层应力仪相关的最新资讯、资料,以及薄膜涂层应力仪相关的解决方案。
当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

薄膜涂层应力仪相关的厂商

  • 企业环境-无锡图勤机电科技有限公司主要从事振动时效设备、超声冲击设备、应力检测设备、摩擦磨损试验机、电子万能试验机、液压万能试验机、压力试验机、动态疲劳试验机等的科技研发和生产销售。是一家集技术研发、自主生产、销售安装、服务维护于一体的高新技术企业。产品涉及焊接、铸造、锻压、机加工、金属材料、尼龙、橡胶、朔料、陶瓷、润滑剂、涂层等多个领域。公司始终坚持"品质创造市场,服务赢得口碑"的经营理念,不断加强市场运作和品牌建设,树立良好的公司形象。长期坚持科技进步增强了公司的发展后劲。公司产品齐全,技术水平先进,可根据广大客户的不同需求,提供定制产品。产品广泛应用于科研、质检机构、大专院校及金属加工、塑料、包子、建材、石化、电子、纺织等各类行业。产品服务-优良的产品和完善的售后服务体系是公司发展的必备条件。公司具有设计、研发、生产、销售、售后等多个部门。严格的管理制度、高素质的研发团队、先进的生产工艺和全面的质量监测体系,为客户提供最优质的产品和最完善的服务。并且为国内外客户提关于应力消除和应力检测的解决方案。   经营理念- 公司严格贯彻"诚信行天下"的经营宗旨,以优质产品、专业技术、高效服务不断提升公司的市场竞争力。努力打造国内领先品牌!
    留言咨询
  • 400-860-5168转3947
    公司简介 济南三泉中石实验仪器有限公司(注册品牌:Sumspring三泉中石),是一家专注于包装材料检测仪器研发和销售的高科技创新企业,公司成立于2007年,专注于为质检药检系统、食品行业、药品行业、包装印刷行业、胶黏剂行业、家电行业等提供一流包装材料科学试验仪器和全面质量控制解决方案。 Sumspring三泉中石技术团队一直自主研发、创新、生产,仪器除满足国内使用之外,更是兼顾ISO、ASTM、TAPPI等多种国际标准规范要求。公司拥有独立的进出口权,产品出口全球25个国家和地区。多项新技术、新发明获得专利证书,拥有完全的自主知识产权。同时,顺利通过ISO 9001:2008质量体系认证,并获得软件著作权等多项权威认证。济南三泉中石实验仪器有限公司实验室 Sumspring实验室拥有专业技术服务人员,配有自主研发的40余台先进的仪器设备、测试附件工具等,不但能够客观、公正为客户提供准确、可靠的检测数据,还为各院校、科研单位、大中企业建立了学习交流、实习平台。 10年的发展,三泉中石一直秉承着与客户共赢的经营理念,不断提升产品质量和服务水平。我们为生产企业建立产品质量风险管控体系,帮助政府监管部门完善相关标准法规。我们还关注国际先进的包装检验方法,致力于将其引进到中国,帮助国内企业和政府部门更好的提升产品质量和管理水平。为中国的食品药品包装质量安全做出贡献。三泉中石Sumspring 主要产品介绍:1、 薄膜软包装检测仪器:济南三泉中石薄膜复合包装检测仪器包针对薄膜复合包包装行业研发生产,适用于各种包装袋的密封性、拉伸、剥离强度、热封强度、厚度、摩擦系数、抗冲击、穿刺、耐撕裂等指标检测,相关产品:薄膜拉伸强度试验仪、智能电子拉力试验机、智能密封仪 (正压)、密封性测试仪、多通道密封检漏仪、热封试验仪、摩擦系数仪、摩擦系数/剥离试验仪、撕裂度测试仪(埃莱门多夫法)、智能摆锤冲击仪(薄膜)、薄膜摆锤冲击试验机、自由落镖冲击试验仪、测厚仪、金属镀层测厚仪、包装耐压强度测试仪、热收缩性试验仪、提袋疲劳试验机、口红折断力测试仪、圆盘剥离试验机、迁移池。2、药包材玻璃瓶检测仪器:药包材检测仪器包含了针对药品包装、药用玻璃瓶、塑料瓶、铝箔、预灌封、注射器、注射针等产品进行穿刺力、破裂强度、开启力、连接力、滑动性、耐内压力、偏光应力等物理性能测试仪器,相关产品:微泄漏密封性测试仪(真空/压力衰减)、微泄漏密封性测试仪(压力衰减)、微泄漏密封性测试仪(真空衰减)、高压放电法密封性测试仪、密封性测试仪 (负压)、智能密封仪(色水法/微生物侵入)、安瓿瓶折断力测试仪、玻璃瓶垂直载荷测试仪、玻璃瓶耐内压测试仪(双工位)、玻璃瓶耐内压力试验机、玻璃瓶抗冲击试验仪、玻璃瓶耐热冲击试验仪、壁厚测厚仪、智能偏光应力仪、偏光应力仪、医药包装撕拉力测试仪、自动旋盖测力仪、自动扭力测试仪、瓶盖扭矩仪、电子轴偏差测量仪、热封试验仪、落球中击试验机(硬片)、全自动耐破强度测试仪(药用铝箔)、铝箔针孔度测试仪、涂层连续性测试仪、玻璃耐碱测试装置、输液袋渗透性试验仪、穿刺力测试仪、医用针管韧性测试仪、医用针管刚性测试仪、鲁尔圆锥接头综合测试仪。3、卫生用品纸张纸板检测仪器:纸张纸板检测仪器包含了针对纸张纸板厚度、耐破强度、边压强度、平压强度、粘合强度、空箱抗压等检测项目的仪器,通过以上测试,可以了解到纸箱的性能,为企业包装设计提供可靠数据依据。相关产品:纸尿裤吸收性能测试仪、吸收速度测试仪、背胶剥离强度测试仪、柔软度测试仪、纸张柔软度测试仪、自动吸水倍率测试仪、纸尿裤渗透性测试仪、掉粉率测定仪、球型耐破试验机、纸箱抗压试验机、自动型耐破强度试验机(纸板)、卧式抗张强度试验机、纸张撕裂度测定仪、纸张吸水率测定仪、微电脑弯曲挺度测试仪、剥离/抗张测试仪、电子压缩试验仪、白度测定仪、定量取样器、可勃吸收性测定仪、尘埃度测试仪、暗箱式紫外分析仪、摩擦试验机、纸杯杯身挺度测试仪(双探头)。4、胶粘制品检测仪器:贴膏剂胶粘制品检测仪器包含了针对压敏胶粘带,不干胶标签,医用胶带 ,药典贴膏剂等产品进行滚球法初粘性,高温持黏力,180度剥离强度,厚度,拉伸强度,黏着力等粘性测试项目的检测仪器。相关产品:PC型电子拉力试验机、贴膏剂黏着力测试仪、180°剥离强度试验机、持粘性测试仪、持粘力测试仪(胶带)、恒温持粘性测试仪、初粘性测试仪、环形初粘性测试仪、胶粘带压滚机(电子压辊试验机)、阻水性测试仪。
    留言咨询
  • 400-860-5168转1590
    上海韵鼎国际贸易有限公司位于上海市长风公园湖畔普陀高新技术开发区,是中国颜色、厚度、雾度、光泽、老化、粉末粒子杂质、色选、辐射率检测行业知名公司,参与起草多项国家标准,在中国表观技术研究发展、技术论证上有突出贡献。 公司所经营之产品旨在为中国地区中高端客户提供物理性能检测领域满足国际标准的顶级标准化仪器。 韵鼎公司是美国HunterLab(亨特力)颜色管理公司中国大陆区唯一战略合作伙伴和授权一级总代理商,借助HunterLab在世界颜色领域最新的检测技术、方法和设备,并结合中国客户特殊的应用需求,韵鼎公司为中国区客户研发或定制全新的颜色解决方案。HunterLab品牌是世界颜色分析和研究领域公认的引领者,作为全球唯一的专注于该领域技术创新和设备生产的集成供应商,HunterLab配合韵鼎公司在中国地区进行颜色方面的客户教育、销售、培训、维修、研发等诸多领域。 韵鼎公司是日本kurabo(仓敷)红外线测厚仪/膜厚仪的在线和离线式相关系列产品NR-2100,RX-250,RX-350,RX-400,RX-200,RX-410等产品在中国地区唯一的销售和服务总代理商,该系列产品在钢铁行业以及塑料薄膜行业有着极其广泛的应用,涉及冷轧板防锈油、镀锌板钝化膜、耐指纹膜、硅钢(电工钢)绝缘涂层厚度或膜重以及高功能薄膜、光学薄膜,锂离子电池隔离膜的厚度检测,其环保性和精确性已经得到越来越多企业的认可,成为环保涂层产品必选的测厚仪。 韵鼎公司是美国ISO Color超级变角测色仪及测配色软件中国地区总代理商,ISO Color在塑料、日用化工(化妆品)、涂料、油漆(珠光效果)、医药(牙科)等领域非常专业知名,其软件产品极其简洁、快速而精确。 韵鼎公司是英国Diffusion公司中国一级代理商,成功将Diffusion雾度仪和光泽仪介绍到中国化工行业市场。 韵鼎公司同时代理英国Verivide Digieye颜色电子眼,韩国Calpas粉末粒子杂质扫描仪,美国3Y鱼眼仪、嗅味分析系统、美国D& S AE1/RD1辐照度仪、太阳光谱反射率仪,韩国太成弹出式高温烘箱,美国Q-Lab老化试验箱、UV实验箱,日本三菱低阻抗仪,日本东京精密粗糙度仪等国际最优秀品牌的产品。 目前韵鼎公司产品应用行业涉及化工/石化/塑料,食品农业,生物制药,建筑/玻璃,钢铁/电工钢/彩涂/耐指纹/环保涂层/钝化/绝缘,纺织服装,涂料,汽车,纸张等诸多行业,客户类型多为世界500强企业、中国的高校、商检、质检、研究所、央企、大型民营企业等高端用户。 韵鼎公司在发展中正全力满足客户需求,提供应用和硬件保障的高端服务支持!韵鼎公司在表观物理性能检测领域取得了巨大成功,这些成功源于韵鼎优秀的客户群、辛勤的同仁和积极支持的供应商,韵鼎将会更加优秀,为客户提供越来越多的好方案和优质服务!Eutin - End until takes indeed need, 韵鼎,止于至需。
    留言咨询

薄膜涂层应力仪相关的仪器

  • 仪器简介:球磨型膜厚磨损测试仪 球磨型膜厚测试仪Calotest为您提供简单快速并且低成本的膜厚测量方法。一个半径精确已知的磨球由自身重力作用于镀膜试样表面并进行自转。在测试过程中,磨球与试样的相对位置以及施加于试样的压力保持恒定。磨球与试样间的相对运动以及金刚石颗粒研磨液的共同作用将试样表面磨损出一球冠形凹坑。随后的金相显微镜观测可以获得磨损坑内涂层和基体部分投影面积的几何参数。在得知了X和Y的长度后,涂层的厚度D可以通过简单的几何公式计算得出。 膜厚及磨损测试仪Calowear将这个原理更加深了一步。通过监测球体施加在试样上的载荷,我们可以更好的控制薄膜的磨损。研磨液以恒定速率自动滴加在球体与试样界面,构成一个稳定的三体磨损系统。 Calowear不是一次性的磨损试样表面,而是将磨损过程分成几个不同的阶段来完成。磨损坑的形状以及法向力的数值在每阶段的磨损后进行记录。由此,薄膜以及基体的磨损率可以精确的计算出来。 技术参数:主要技术参数 工作台尺寸: 50 x 50 mm 转动速率: 60 to 1200 rpm 标准磨球直径: 20, 25, 30mm 磨损时间范围: 10 - 90 sec or 1 - 9 min主要特点:特点 分为两款紧凑型和工业型薄膜与基体的磨损率测量 膜厚测量 适用于多种材料 可以导出数据进行更深入分析(例如: EXCEL 等)
    留言咨询
  • 薄膜/涂层残余应力仪 400-860-5168转1431
    kSA MOS US采用非接触MOS(多光束光学传感)激光技术;不但可以对薄膜的应力、表面曲率和翘曲进行准确的测量,而且还可二维应力 Mapping成像统计分析;同时准确测量应力、曲率随温度变化的关系。基于kSA MOS ,kSA MOS Ultra Scan使用二维激光阵列扫描绘制半导体晶圆、光学镜面、玻璃、透镜等各种抛光表面的二维曲率、翘曲度和薄膜应力分布图。kSA MOS Ultra Scan适用于室温条件下测量需求,实现晶元全自动2D扫描测量,同时获得3D图。部分参考用户:中国计量科学研究院电学与量子所、中国科学院上海微系统与信息技术研究所、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院长春光学精密机械与物理研究所、中国科学院上海技术物理研究所、北京航空材料研究院、苏州大学、中国科学院成都光电技术研究所中国科学院力学所、华南理工大学材料学院、中国空间技术研究院、阿里巴巴达摩院、清华大学、天津理工大学、上海大学、中国科学院兰州空间技术物理研究所、中国航空制造技术研究院、深圳瑞华泰薄膜科技股份有限公司;Harvard University ,Stanford University,Johns Hopkins University,Brown University , Karlsruhe Research Center,Max Planck Institute,IBM.,Seagate Research Center, Phillips Semiconductor, NEC,Nissan ARC, Nich ia Glass Corporation等。 相关产品: *实时原位薄膜应力仪(kSA MOS Film Stress Tester):同样采用先进的MOS技术,可装在各种真空沉积设备上(如:MBE, MOCVD, sputtering, PLD, PECVD, and annealing chambers ects),对于薄膜生长过程中的应力变化进行实时原位测量和二维成像分析; *薄膜热应力测量系统(kSA MOS Thermal-Scan Film Stress Tester) 技术参数:1.XY双向程序控制扫描平台扫描范围:300mm;2m(可选);二维应力分析2.扫描速度:可达20mm/s(x,y);3.XY双向扫描平台扫描小步进/分辨率:1 μm;4.平均曲率分辨率:20km,5×10-5 1/m (1-sigma);5.薄膜应力测量范围:3.2×106到7.8×1010dynes/cm2(或者3.2×105Pa to7.8×109Pa)(1-sigma);6.应力测量分辨率:优于0.32MPa或1% (1-sigma) 7.应力测量重复性:0.02MPa(1-sigma);8.平均曲率重复性:5×10-5 1/m (1 sigma) (1-sigma);9.程序化控制扫描模式:选定区域、多点线性扫描、全样品扫描;10.成像功能:样品表面2D曲率成像,定量薄膜应力成像分析;11.测量功能:曲率、曲率半径、应力强度、应力和翘曲等;12.二维激光阵列测量技术:不但可以对样品表面进行二维曲率成像分析;而且这种设计能保证所有阵列的激光光点一直在同一频率运动或扫描,从而有效的避免了外界振动对测试结果的影响;同时提高了测试的分辨率;主要特点: 1.MOS多光束技术(二维激光阵列); 2.自动光学追踪技术; 3.程序化控制扫描模式:选定区域、多点线性扫描、全面积扫描; 4.成像扫描功能:样品表面2D曲率成像,定量薄膜应力成像分析; 5.测量功能:曲率、曲率半径、薄膜应力、薄膜应力分布和翘曲等; 6.适用于各种薄膜应力测量,及半导体晶圆、光学镜面、玻璃、透镜等表面曲率、面型测量。实际应用:
    留言咨询
  • 厂家正式授权代理商:岱美有限公司联系电话:,(贾先生)联系地址:北京市房山区启航国际3期5号楼801公司网址:ThetaMetrisis是一家私有公司,成立于2008年12月,位于希腊雅典,是NCSR' Demokritos' 的微电子研究所的第一家衍生公司。ThetaMetrisis的核心技术是白光反射光谱(WLRS),它可以在几埃到几毫米的超宽范围内,准确而同时地测量堆叠的薄膜和厚膜的厚度和折射率。 FR-Mic: 微米级薄膜表征-厚度,反射率,折射率及消光系数测量仪一、产品简介: FR-Mic 是一款快速、准确测量薄膜表征应用的模块化解决方案,要求的光斑尺寸小到几个微米,如微图案表面,粗糙表面及许多其他表面。它可以配备一台专用计算机控制的 XY 工作台,使其快速、方便和准确地描绘样品的厚度和光学特性图。o 实时光谱测量o 薄膜厚度,光学特性,非均匀性测量,厚度映射o 使用集成的, USB 连接高品质彩色摄像机(CCD)进行成像 二、应用领域 o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数 FR-Scanner 自动化超高速精准薄膜厚度测量仪 一、产品简介: FR-Scanner 是一种紧凑的台式工具,适用于自动测绘晶圆片上的涂层厚度。FR-Scanner 可以快速和准确测量薄膜特性:厚度,折射率,均匀性,颜色等。真空吸盘可应用于任何直径或其他形状的样片。 独特的光学模块可容纳所有光学部件:分光计、复合光源(寿命10000小时)、高精度反射探头。因此,在准确性、重现性和长期稳定性方面保证了优异的性能。FR-Scanner 通过高速旋转平台和光学探头直线移动扫描晶圆片(极坐标扫描)。通过这种方法,可以在很短的时间内记录具有高重复性的精确反射率数据,这使得FR-Scanner 成为测绘晶圆涂层或其他基片涂层的理想工具。测量 8” 样片 625 点数据60 秒 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数FR-Scanner: 自动化超高速薄膜厚度测量仪 FR-pOrtable:一款USB驱动的薄膜表征工具 一、产品简介: FR-pOrtable 是 一 款独 特 的 便 携 式 测 量 仪器 , 可 对 透 明 和 半 透明 的 单 层 或 多 层 堆 叠薄 膜 进 行 精 确 的 无 损(非接触式)表征。使用 FR-pOrtable,用户可以在 380-1020nm 光谱范围内进行反射率和透射率测量及薄膜厚度测量。二、应用领域o 大学 & 科研院所o 半导体(氧化物、氮化物、硅、电阻等)o MEMS 元器件 (光刻胶、硅薄膜等)o LEDo 数据存储元件o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )o 其他更多 … (如有需求,请与我们取得联系) 三、应用领域 FR-pOrtable的紧凑尺寸以及定制设计的反射探头以及宽带长寿命光源确保了高精度和可重复的便携式测量。 FR-Portable既可以安装在提供的载物台上,也可以轻松转换为手持式厚度测量工具。放置在待表征的样品上方即可进行测量。 FR-Portable是用于工业环境(如R2R、带式输送机等)中涂层实时表征的可靠而精确的测厚仪。四、产品特点o 一键分析 (无需初始化操作)o 动态测量o 测量光学参数(n & k, 颜色),膜厚o 自动保存演示视频o 可测量 600 多种不同材料o 用于离线分析的多个设置o 免费软件更新服务 五、技术参数FR-pRo: 按需可灵活搭建的薄膜特性表征工具一、产品简介: FR-pRo 是一个模块化和可扩展平台的光学测量设备,用于表征厚度范围为1nm-1mm 的涂层.FR-pRo 是为客户量身定制的,并广泛应用于各种不同的应用 。 FR-pRo 可由用户按需选择装配模块,核心部件包括光源,光谱仪(适用于 200nm-2500nm 内的任何光谱系统)和控制单元,电子通讯模块此外,还有各种各种配件,比如:? 用于测量吸收率/透射率和化学浓度的薄膜/试管架,? 用于表征涂层特性的薄膜厚度工具,? 用于控制温度或液体环境下测量的加热装置或液体试剂盒,? 漫反射和全反射积分球通过不同模块组合,最终的配置可以满足任何终端用户的需求 二、应用领域o 弯曲基材(衬底)上的硬/软涂层o 聚合物涂层、粘合剂等o 生物医学( parylene—— 派瑞林,气泡壁厚,等等 )O 半导体生产制造:(光刻胶, 电介质,光子多层结构, poly-Si,Si, DLC )o 光伏产业o 液晶显示o 光学薄膜o 聚合物o 微机电系统和微光机电系统o 基底: 透明 (玻璃, 石英, 等等) 和半透明 三、产品特点o 单点分析(无需预设值)o 动态快速测量o 包括光学参数(n和k,颜色)o 为演示保存视频o 600 多种的预存材料o 离线分析o 免费软件更新 四、技术参数
    留言咨询

薄膜涂层应力仪相关的资讯

  • 专家约稿|辉光放电发射光谱仪的应用—涂层与超薄膜层的深度剖析
    摘要:本文首先简单回顾了辉光放电光谱仪(Glow Discharge Optical Emission Spectrometry,GDOES)的发展历程及特性,然后通过实例介绍了GDOES在微米涂层以及纳米超薄膜层深度剖析中的应用,并简介了深度谱定量分析的混合-粗糙度-信息深度(MRI)模型,最后对GDOES深度剖析的发展方向作了展望。1 GDOES发展历程及特性辉光放电发射光谱仪应用于表面分析及深度剖析已经有近100年的历史。辉光放电装置以及相关的光谱仪最早出现在20世纪30年代,但直到六十年代才成为化学分析的研究重点。1967年Grimm引入了“空心阳极-平面阴极”的辉光放电源[1],使得GDOES的商业化成为可能。随后射频(RF)电源的引入,GDOES的应用范围从导电材料拓展到了非导电材料,而毫秒或微秒级的脉冲辉光放电(Pulsed Glow Discharges,PGDs)模式的推出,不仅能有效地减弱轰击样品时的热效应,同时由于PGDs可以使用更高激发功率,使得激发或电离过程增强,大大提高了GDOES测量的灵敏程度,极大推动了GDOES技术的进步以及应用领域的拓展。GDOES被广泛应用于膜层结构的深度剖析,以获取元素成分随深度变化的关系。相较于其它传统的深度剖析技术,如俄歇电子能谱(AES)、X射线光电子能谱(XPS)和二次离子质谱(SIMS)或二次中性质谱(SNMS),GDOES具有如下的独特性[2]:(1)分析样品材料的种类广,可对导体/非导体/无机/有机…膜层材料进行深度剖析,并可探测所有的元素(包括氢);(2)分析样品的厚度范围宽,既可对微米量级的涂层/镀层,也可对纳米量级薄膜进行深度剖析;(3)溅射速率高,可达到每分钟几微米;(4)基体效应小,由于溅射过程发生在样品表面,而激发过程在腔室的等离子体中,样品基体对被测物质的信号几乎不产生影响;(5)低能级激发,产生的谱线属原子或离子的线状光谱,因此谱线间的干扰较小;(6)低功率溅射,属层层剥离,深度分辨率高,可达亚纳米级;(7)因为采用限制式光源,样品激发时的等离子体小,所以自吸收效应小,校准曲线的线性范围较宽;(8)无高真空需求,保养与维护都非常方便。基于上述优势,GDOES被广泛应用于表征微米量级的材料表面涂层/镀层、有机膜层的涂布层、锂电池电极多层结构和用于其封装的铝塑膜层、以及纳米量级的功能多层膜中元素的成分分布[3-6],下面举几个具体的应用实例。2 GDOES深度剖析应用实例2.1 涂层的深度剖析用于材料表面保护的涂层或镀层、食品与药品包装的柔性有机基材的涂布膜层、锂电池的多层膜电极,以及用于锂电池包装的铝塑膜等等的膜层厚度一般都是微米量级,有的膜层厚度甚至达到百微米。传统的深度剖析技术,如AES,XPS和SIMS显然无法对这些厚膜层进行深度剖析,而GDOES深度剖析技术非常适合这类微米量级厚膜的深度剖析。图1给出了利用Horiba-Profiler 2(一款脉冲—射频辉光放电发射光谱仪—Pulsed-RF GDOES,以下深度谱的实例均是用此设备测量),在Ar气压700Pa和功率55w条件下,测量的表面镀镍的铁箔GODES深度谱,其中的插图给出了从表面到Ni/Fe界面各元素的深度谱,测量时间与深度的转换是通过设备自带的激光干涉仪(DIP)对溅射坑进行原位测量获得。从全谱来看,GDOES测量信号强度稳定,未出现溅射诱导粗糙度或坑道效应(信号强度随溅射深度减小的现象,见下),这主要是因为铁箔具有较大的晶粒尺寸。同时还可以看到GDOES可连续测量到~120μm,溅射速率达到4.2μm/min(70nm/s)。从插图来看, Ni的镀层约为1μm,在表面有~100nm的氧化层,Ni/Fe界面分辨清晰。图1 表面镀镍铁箔的GODES深度谱,其中的插图给出了从表面到Ni/Fe界面的各元素的深度谱图2给出了在氩-氧(4 vol%)混合气气压750Pa、功率20w、脉冲频率3000Hz、占空比0.1875条件下,测量的用于锂电池包装铝塑膜(总厚度约为120μm)的GODES深度谱,其中的插图给出了铝塑膜的层结构示意图[7]。可以看出有机聚酰胺层主要包含碳、氮和氢等元素。在其之下碳、氮和氢元素信号的强度先降后升,表明在聚酰胺膜层下存在与其不同的有机涂层—粘胶剂,所含主要元素仍为碳、氮和氢。同时还可以看出在粘胶剂层下面的无机物(如Al,Cr和P)膜层,其中Cr和P源于为提高Al箔防腐性所做的钝化处理。很明显,图2测量的GDOES深度谱明确展现了锂电池包装铝塑膜的层结构。实验中在氩气中引入4 vol%氧气有助于快速溅射有机物的膜层结构,同时降低碳、氮信号的相对强度,提高了无机物如铬信号的相对强度,非常适合于无机-有机多层复合材料的结构分析,而在脉冲模式下,选用合适的频率和占空比,能够有效地散发溅射产生的热量,从而避免了低熔点有机物的碳化。图2一款锂电池包装铝塑膜的GDOES溅射深度谱,其中的插图给出了铝塑膜的层结构示意图[7]2.2 纳米膜层及表层的深度剖析纳米膜层,特别是纳米多层膜已被广泛应用于光电功能薄膜与半导体元器件等高科技领域。虽然传统的深度剖析技术AES,XPS和SIMS也常常应用于纳米膜层的表征,但对于纳米多层膜,传统的深度剖析技术很难对多层膜整体给予全面的深度剖析表征,而GDOES不仅可以给予纳米多层膜整体全面的深度剖析表征,而且选择合适的射频参数还可以获得如AES和SIMS深度剖析的表层元素深度谱。图3给出了在氩气气压750Pa、功率20w、脉冲频率1000Hz、占空比0.0625条件下,测量的一款柔性透明隔热膜(基材为PET)的GODES深度谱,如图3a所示,其中最具特色的就是清晰地表征了该款隔热膜最核心的三层Ag与AZO(Al+ZnO)共溅射的膜层结构,如图3b Ag膜层的GDOES深度谱所示。根据获得的溅射速率及Ag的深度谱拟合(见后),前两层Ag的厚度分别约为5.5nm与4.8nm[8]。很明显,第二层Ag信号较第一层有较大的展宽,相应的强度值也随之下降,这是源于GDOES对金属膜溅射过程中产生的溅射诱导粗糙度所致。图3(a)一款柔性透明隔热膜GDOES深度谱;(b)其中Ag膜层GDOES深度谱[8]图4给出了在氩气气压650Pa、功率20w、脉冲频率10000Hz、占空比0.5的同一条件下,测量的SiO2(300nm)/Si(111)标准样品和自然生长在Si(111)基片上SiO2样品的GODES深度谱[9]。如果取测量深度谱的半高宽为膜层的厚度,由此得到标准样品SiO2层的溅射速率为6.6nm/s(=300nm/45.5s),也就可以得到自然氧化的SiO2膜层厚度约为1nm(=6.6nm/s*0.15s)。所以,GDOES完全可以实现对一个纳米超薄层的深度剖析测量,这大大拓展了GDOES的应用领域,即从传统的钢铁镀层或块体材料的成分分析拓展到了对纳米薄膜深度剖析的表征。图4 (a)SiO2(300nm)/Si(111)标准样品与(b)自然生长在Si(111)基片上SiO2样品的GDOES深度谱[9]3 深度谱的定量分析3.1 深度分辨率对测量深度谱的优与劣进行评判时,深度分辨率Δz是一个非常重要的指标。传统Δz(16%-84%)的定义为[10]:对一个理想(原子尺度)的A/B界面进行溅射深度剖析时,当所测定的归一化强度从16%上升到84%或从84%下降到16%所对应的深度,如图5所示。Δz代表了测量得到的元素成分分布和原始的成分分布间的偏差程度,Δz越小表示测量结果越接近真实的元素成分分布,测量深度谱的质量就越高。但是随着科技的发展,应用的薄膜越来越薄,探测元素100%(或0%)的平台无法实现,就无法通过Δz(16%-84%)的定义确定深度分辨率,而只能通过对测量深度谱的定量分析获得(见下)。图5深度分辨率Δz的定义[10]3.2 深度谱定量分析—MRI模型溅射深度剖析的目的是获取薄膜样品元素的成分分布,但溅射会改变样品中元素的原始成分分布,产生溅射深度剖析中的失真。溅射深度剖析的定量分析就是要考虑溅射过程中,可能导致样品元素原始成分分布失真的各种因素,提出相应的深度分辨率函数,并通过它对测量的深度谱数据进行定量分析,最终获取被测样品元素在薄膜材料中的真实分布。对于任一溅射深度剖析实验,可能导致样品原始成分分布失真的三个主要因素源于:①粒子轰击产生的原子混合(atomic Mixing);②样品表面和界面的粗糙度(Roughness);③探测器所探测信号的信息深度(Information depth)。据此Hofmann提出了深度剖析定量分析著名的MRI深度分辨率函数[11]: 其中引入的三个MRI参数:原子混合长度w、粗糙度和信息深度λ具有明确的物理意义,其值可以通过实验测量得到,也可以通过理论计算得到。确定了分辨率函数,测量深度谱信号的归一化强度I/Io可表示为如下的卷积[12]: 其中z'是积分参量,X(z’)为原始的元素成分分布,g(z-z’)为深度分辨率函数,包含了深度剖析过程中所有引起原始成分分布失真的因素。MRI模型提出后,已被广泛应用于AES,XPS,SIMS和GDOES深度谱数据的定量分析。如果假设各失真因素对深度分辨率影响是相互独立的,相应的深度分辨率就可表示为[13]:其中r为择优溅射参数,是元素A与B溅射速率之比()。3.3 MRI模型应用实例图6给出了在氩气气压550Pa、功率17w、脉冲频率5000Hz、占空比0.25条件下,测量的60 Mo (3 nm)/B4C (0.3 nm)/Si (3.7 nm) GDOES深度谱[14],结果清晰地显示了Mo (3 nm)/B4C (0.3 nm)/Si (3.7 nm) 膜层结构,特别是分辨了仅0.3nm的B4C膜层, B和C元素的信号其峰谷和峰顶位置完全一致,可以认为B和C元素的溅射速率相同。为了更好地展现拟合测量的实验数据,选择溅射时间在15~35s范围内测量的深度剖析数据进行定量分析[15]。图6 60×Mo (3 nm)/B4C (0.3 nm)/Si (3.7 nm) GDOES深度谱[14]利用SRIM 软件[16]估算出原子混合长度w为0.6 nm,AFM测量了Mo/B4C/Si多层膜溅射至第30周期时溅射坑底部的粗糙度为0.7nm[14],对于GDOES深度剖析,由于被测量信号源于样品最外层表面,信息深度λ取为0.01nm。利用(1)与(2)式,调节各元素的溅射速率,并在各层名义厚度值附近微调膜层的厚度,Mo、Si、B(C)元素同时被拟合的最佳结果分别如图7(a)、(b)和(c)中实线所示,对应Mo、Si、B(C)元素的溅射速率分别为8.53、8.95和4.3nm/s,拟合的误差分别为5.5%、6.7%和12.5%。很明显,Mo与Si元素的溅射速率相差不大,但是B4C溅射速率的两倍,这一明显的择优溅射效应是能分辨0.3nm-B4C膜层的原因。根据拟合得到的MRI参数值,由(3)式计算出深度分辨率为1.75 nm,拟合可以获得Mo/B4C/Si多层薄膜中各个层的准确厚度,与HR-TEM测定的单层厚度基本一致[15]。图7 测量的GDOES深度谱数据(空心圆)与MRI最佳拟合结果(实线):(a) Mo层,(b) Si层,(c) B层;相应的MRI拟合参数列在图中[15]。4 总结与展望从以上深度谱测量实例可以清楚地看到,GDOES深度剖析的应用非常广泛,可测量从小于1nm的超薄薄膜到上百微米的厚膜;从元素H到Lv周期表中的所有元素;从表层到体层;从无机到有机;从导体到非导体等各种材料涂层与薄膜中元素成分随深度的分布,深度分辨率可以达到~1nm。通过对测量深度谱的定量分析,不仅可以获得膜层结构中原始的元素成分分布,而且还可以获得元素的溅射速率、膜层间的界面粗糙度等信息。虽然GDOES深度剖析技术日趋完善,但也存在着一些问题,比如在GDOES深度剖析中常见的溅射坑底部凸凹不平的“溅射坑道效应”(溅射诱导的粗糙度),特别是对多晶金属薄膜的深度剖析尤为明显,这一效应会大大降低GDOES深度谱的深度分辨率。消除溅射坑道效应影响一个有效的方法就是引入溅射过程样品旋转技术,使得各个方向的溅射均等。此外,缩小溅射(分析)面积也是提高溅射深度分辨率的一种方法,但需要考虑提高探测信号的强度,以免降低信号的灵敏度。另外,GDOES深度剖析的应用软件有进一步提升的空间,比如测量深度谱定量分析算法的植入,将信号强度转换为浓度以及溅射时间转换为溅射深度算法的进一步完善。作者简介汕头大学物理系教授 王江涌王江涌,博士,汕头大学物理系教授。现任广东省分析测试协会表面分析专业委员会副主任委员、中国机械工程学会高级会员、中国机械工程学会表面工程分会常务委员;《功能材料》、《材料科学研究与应用》与《表面技术》编委、评委。研究兴趣主要是薄膜材料中的扩散、偏析、相变及深度剖析定量分析。发表英文专著2部,专利十余件,论文150余篇,其中SCI论文110余篇。代表性成果在《Physical Review Letters》,《Nature Communications》,《Advanced Materials》,《Applied Physics Letters》等国际重要期刊上发表。主持国家自然基金、科技部政府间国际合作、广东省科技计划及横向合作项目十余项。获2021年广东省科技进步一等奖、2021年广东省高校科研成果转化路演赛“新材料”小组赛一等奖、2021年粤港澳高价值大湾区专利培育布局大赛优胜奖、2020年广东省高校科研成果转化路演赛“新材料”小组赛一等奖、总决赛一等奖。昆山书豪仪器科技有限公司总经理 徐荣网徐荣网,昆山书豪仪器科技有限公司总经理,昆山市第十六届政协委员;曾就职于美国艾默生电气任职Labview设计工程师、江苏天瑞仪器股份公司任职光谱产品经理。2012年3月,作为公司创始人于创立昆山书豪仪器科技有限公司,2019年购买工业用地,出资建造12300平方米集办公、研发、生产于一体的书豪产业化大楼,现已投入使用。曾获2020年朱良漪分析仪器创新奖青年创新入围奖;2019年昆山市实用产业化人才;2019年江苏省科技技术进步奖获提名;2017年《原子发射光谱仪》“中国苏州”大学生创新创业大赛二等奖;2014年度昆山市科学技术进步奖三等奖;2017年度昆山市科学技术进步奖三等奖;多次获得昆山市级人才津贴及各类奖励项目等。主持研发产品申请的已授权专利47项专利,其中发明专利 4 项,实用新型专利 25项,外观专利7项,计算机软件著作权 11项。论文2篇《空心阴极光谱光电法用于测定高温合金痕量杂质元素》,《Application of Adaptive Iteratively Reweighted Penalized Least Squares Baseline Correction in Oil Spectrometer 》第一编著人;主持编著的企业标准4篇;承担项目包括3项省级项目、1项苏州市级项目、4项昆山市级项目;其中:旋转盘电极油料光谱仪获江苏省工业与信息产业转型升级专项资金--重大攻关项目(现已成功验收,获政府补助660万元)、江苏省首台(套)重大装备认定、江苏省工业与信息产业转型升级专项资金项目、苏州市姑苏天使计划项目等;主持研发并总体设计的《HCD100空心阴极直读光谱仪》、《AES998火花直读光谱仪》、《FS500全谱直读光谱仪》《旋转盘电极油料光谱仪OIL8000、OIL8000H、PO100》均研发成功通过江苏省新产品新技术鉴定,实现了产业化。参考文献:[1] GRIMM, W. Eine neue glimmentladungslampe für die optische emissionsspektralanalyse[J]. Spectrochimica Acta, Atomic Spectroscopy, Part B, 1968, 23 (7): 443-454.[2] 杨浩,马泽钦,蒋洁,李镇舟,宋一兵,王江涌,徐从康,辉光放电发射光谱高分辨率深度谱的定量分析[J],材料研究与应用, 2021, 15: 474-485.[3] Hughes H. Application of optical emission source developments in metallurgical analysis[J]. Analyst, 1983, 108(1283): 286-292.[4] Lodhi Z F, Tichelaar F D, Kwakernaak C, et al., A combined composition and morphology study of electrodeposited Zn–Co and Zn–Co–Fe alloy coatings[J]. Surface and Coatings Technology, 2008, 202(12): 2755-2764.[5] Sánchez P, Fernández B, Menéndez A, et al., Pulsed radiofrequency glow discharge optical emission spectrometry for the direct characterisation of photovoltaic thin film silicon solar cells[J]. Journal of Analytical Atomic Spectrometry, 2010, 25(3): 370-377.[6] Zhang X, Huang X, Jiang L, et al. Surface microstructures and antimicrobial properties of copper plasma alloyed stainless steel[J]. Applied surface science, 2011, 258(4): 1399-1404.[7] 胡立泓,张锦桐,王丽云,周刚,王江涌,徐从康,高阻隔铝塑膜辉光放电发射光谱深度谱测量参数的优化[J],光谱学与光谱分析,2022,42:954-960.[8] 吕凯, 周刚, 余云鹏, 刘远鹏, 王江涌, 徐从康,利用ToF-SIMS 和 Rf-GDOES 深度剖析技术研究柔性衬底上的隔热多层膜[J], 材料科学,2019,9:45-53.[9] 周刚, 吕凯, 刘远鹏, 余云鹏, 徐从康, 王江涌,柔性功能薄膜辉光光谱深度分辨率分析[J], 真空, 2020,57:1-5.[10] ASTM E-42, Standard terminology relating to surface analysis [S]. Philadelphia: American Society for Testing and Materials, 1992.[11] Hofmann S. Atomic mixing, surface roughness and information depth in high‐resolution AES depth profiling of a GaAs/AlAs superlattice structure[J]. Surface and interface analysis, 1994, 21(9): 673-678.[12] Ho P S, Lewis J E. Deconvolution method for composition profiling by Auger sputtering technique[J]. Surface Science, 1976, 55(1): 335-348.[13] Wang J Y, Hofmann S, Zalar A, et al. Quantitative evaluation of sputtering induced surface roughness in depth profiling of polycrystalline multilayers using Auger electron spectroscopy[J]. Thin Solid Films, 2003, 444(1-2): 120-124.[14] Ber B, Bábor P, Brunkov P N, et al. Sputter depth profiling of Mo/B4C/Si and Mo/Si multilayer nanostructures: A round-robin characterization by different techniques[J]. Thin Solid Films, 2013, 540: 96-105.[15] Hao Yang, SongYou Lian, Patrick Chapon, Yibing Song, JiangYong Wang, Congkang Xu, Quantification of high resolution Pulsed RF GDOES depth profiles for Mo/B4C/Si nano-multilayers[J], Coatings, 2021, 11: 612.[16] Ziegler J F, Ziegler M D, Biersack J P. SRIM–The stopping and range of ions in matter[J]. Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms, 2010, 268(11-12): 1818-1823.
  • 微纳加工薄膜应力检测的国产化破局
    1.为什么要检测薄膜应力?薄膜应力作为半导体制程、MEMS微纳加工、光电薄膜镀膜过程中性能测试的必检项,直接影响着薄膜器件的稳定性和可靠性,薄膜应力过大会引起以下问题:1.膜裂;2.膜剥离;3.膜层皱褶;4.空隙。针对薄膜应力的定量化表征是半导体制程、MEMS微纳加工、光电薄膜制备工艺流程中品检、品控和改进工艺的有效手段。(见图一)图一、薄膜拉/压内应力示意图(PIC from STI 2020: Ultraviolet to Gamma Ray, 114444N)2.薄膜应力测试方法及工作原理目前针对薄膜应力测试方法主要有两种:X射线衍射法和基片轮廓法。前者仅适用于完全结晶薄膜,对于纳米晶或非晶薄膜无法进行准确定量表征;后者几乎可以适用于所有类型的薄膜材料。关于两种测试方法使用范围及特点,请参考表一。表一、薄膜应力测试方法及特点测试方法适用范围优点局限X射线衍射法适用于结晶薄膜1.半无损检测方法;2.测量纯弹性应变;3.可测小范围表面(φ1-2mm)。1.织构材料的测量问题;2.掠射法使射线偏转角度受限;3.X射线应力常数取决于材料的杨氏模量E;4.晶粒过大、过小影响精度。基片轮廓法几乎所有类型的薄膜材料激光曲率法:1.非接触式/ 无损;2.使用基体参数,无需薄膜特性参数;3.大面积测试范围、快速、简单。1.要求试样表面平整、反射;2.变形必须在弹性范围内;3.毫米级范围内平均应力。探针曲率法(如台阶仪):1.使用基体参数,无需薄膜特性参数;2.微米级微区到毫米级范围。1.接触式/有损;2.探针微米级定位困难导致测量数据重复性不够好。速普仪器自主研发生产的FST5000薄膜应力测量仪(见图二)的测试原理属于表一中的激光曲率法,该技术源自于中国科学院金属研究所和深圳职业技术学院相关研究成果转化(专利号:CN204854624U;CN203688116U;CN100465615C)。FST5000薄膜应力测量仪利用光杠杆测量系统测定样片的曲率半径,参见图三FST5000薄膜应力测量仪技术原理图。其中l和D分别表示试片(Sample)和光学传感器(Optical Detector)的移动距离, H1和H2分别表示试片与半透镜(Pellicle Mirror),以及半透镜与光学传感器之间的光程长。 图二、速普仪器FST5000薄膜应力测量仪示意图图三、FST5000薄膜应力测量仪技术原理图3.速普仪器FST5000薄膜应力测量仪技术特点及优势a.采用双波长激光干涉法,利用Stoney公式获得薄膜残余应力。该方法是目前市面上主流测试方法,包括美、日、德等友商均采用本方法,我们也是采用该测量方法的国内唯一供应商。并且相较于进口友商更进一步,速普仪器研发出独特的光路设计和相应的算法,进一步提高了测试精度和重复性。通过一系列的改进,使我们的仪器精度在国际上处于领先地位。(参考专利:ZL201520400999.9;ZL201520704602.5;CN111060029A)b.自动测量晶圆样品轮廓形貌、弓高、曲率半径和薄膜应力分布。我们通过改进数据算法,采用与进口友商不同的软件算法方案,最终能够获得薄膜应力面分布数据和样片整体薄膜应力平均值双输出。(参考中国软件著作权:FST5000测量软件V1.0,登记号:2022SR0436306)c.薄膜应力测试范围:1 MPa-10 GPa,曲率半径测试范围:2-20000m。基于我们多年硬质涂层应力测试经验,以及独特的样品台设计和持续改进的算法,FST5000薄膜应力测量仪可以实现同一台机器测试得到不同应用场景样品薄膜应力。具体而言,不但可以获得常规的小应力薄膜结果(应力值<1GPa,曲率半径>20m),同时我们还能够测量非常规小曲率半径/大应力数值薄膜(应力值>1GPa,曲率半径<20m)。目前即使国外友商也只能做到小应力测试结果输出。d.样品最大尺寸:≤12英寸,向下兼容8、6、4、2英寸。FST5000薄膜应力测量仪能够实现12英寸以下样品测试,主要得益于我们独特的样品台设计,光路设计及独特的算法,能够实现样品精准定位和数据结果高度重复性。(参考专利:ZL201520400999.9;ZL201520704602.5;CN111060029A)e.样品台:电动旋转样品台。通过独特的样品台设计,我们利用两个维度的样品运动(Y轴及360°旋转),实现12英寸以下样品表面全部位置覆盖及精准定位。(参考专利:ZL201520400999.9)f.样品基片校正:可数据处理校正原始表面不平影响(对减模式)。通过分别测量样品镀膜前后表面位形变化,利用原位对减方式获得薄膜残余应力面型分布情况。同样得益于我们独特的样品台设计和光路设计,保证镀膜前后数据点位置一一对应。4.深圳市速普仪器有限公司简介速普仪器(SuPro Instruments)成立于2012年,公司总部位于深圳市南山高新科技园片区,目前拥有北京和苏州两个办事处。速普仪器是国家高新技术企业和深圳市高新技术企业。公司拥有一群热爱产品设计与仪器开发的成员,核心团队来自中国科学院体系。致力于材料表面处理和真空薄膜领域提供敏捷+精益级制备、测量和控制仪器,帮助客户提高产品的研发和生产效率,以及更好的品质和使用体验。速普仪器宗旨:致力于材料表面处理和真空薄膜领域提供一流“敏捷+精益”级制备、测量和控制仪器。速普仪器核心价值观:有用有趣。
  • ​KLA科磊快速压痕技术对隔热涂层的测试
    KLA科磊快速压痕技术对隔热涂层的测试什么是隔热涂层?隔热涂层(TBC)是一种多层多组分材料,如下图所示,应用于各种结构性组件中提供隔热和抗氧化的保护功能1。TBC中不同的微观结构特征,如热喷涂涂层的薄膜边界、孔隙度、涂层间界面、裂纹等,通常会极大地增加测试的难度。图 1. (a)多层、多功能的隔热涂层的示意图《MRS Bulletin》(b)隔热涂层的横截面的扫描电镜图KLA Instruments的测试方法利用KLA发明的 NanoBlitz 3D 压痕技术对TBC 涂层进行测试,每个压痕点测试只需不到一秒,可在微米尺度上对涂层和热循环类的样品的粘结层、表层涂层和粘结层—表面涂层的界面区域等进行各种不同范围的Mapping成像,单张Mapping最多可达100000个压痕点。结果与分析粘结层—表面涂层的界面区域是 TBC研究的重点之一,其微观结构及相应力学性能的变化,会影响到TBC 的热循环寿命。该界面处最重要的考量就是热生长氧化 (TGO) 层的形成,TGO是在高温条件下,粘结层的β-NiAl的内部扩散铝与通过表层涂层渗透的氧发生反应而成,TGO 层可防止粘结层和下面的衬底进一步的氧化,但TGO超过一定的临界厚度,又会导致严重的应变不兼容和应力失配,从而使 TBC 逐渐损坏并最终产生剥离2、3。下图显示了典型的等离子喷涂涂层的变化过程,TGO 的厚度会随着热循环次数的增加而增大。对应的硬度和弹性模量Mapping结果也显示出类似的趋势,同时,从硬度mapping图中也可以观察到粘结层一侧的作为铝源的 β-NiAl 相随热循环次数的增加而逐渐耗尽。图 2. (a,第一列)涂层状态下的 TGO 生长状况的硬度和弹性模量 mapping 图;(b,第二列) 5 次热循环后的 TGO 生长状况的硬度和弹性模量 mapping 图;(c,第三列)10 次热循环后的 TGO 生长状况的硬度和弹性模量 mapping 图;以及(d,第四列)100 次热循环后的 TGO 生长状况的硬度和弹性模量 mapping 图。TGO 生长引起的弹性模量差异会导致失配应力的发展,该失配应力又导致界面之上的表层涂层产生微裂纹,如上图(d,第四列)所示的mapping结果捕捉到了裂纹区域的硬度和弹性模量的降低现象。KLA的“Cluster”算法可以对不同物相的mapping数据反卷积处理并保留它的空间信息,即对相应的力学mapping图进行重构,如下图所示。图(c) 的Cluster的硬度mapping图清晰的展示出三组硬度明显不同的物相:(1)β-NiAl、(2)γ/γ‘-Ni 和(3)内部氧化产生的氧化物。图 3 .五次热循环后粘结层的(a)微结构图,(b)硬度mapping图(c) Cluster 后的结果。总结与结论KLA 的 NanoBlitz 3D 快速mapping技术可适用于隔热涂层的研究:TBC 不同膜层的界面区以及多孔的表面涂层的研究,甚至可以借助mapping技术获得的大量数据来预测 TBC 样品的剩余寿命。如想了解更多产品参数相关内容,欢迎通过仪器信息网和我们取得联系! 400-801-5101

薄膜涂层应力仪相关的方案

  • K涂层薄膜对不同气体阻隔性能的测试
    对不同气体的阻隔性能是K涂层薄膜的重点测试性能指标之一。本文利用压差法原理设备VAC-V2压差法气体渗透仪分别测试了K涂层薄膜样品对氧气、氮气的阻隔性能,并介绍了试验原理、设备参数及适用范围、试验过程等内容,为K涂层薄膜对气体阻隔性能的测试研究提供参考。
  • 一种评价硬质薄膜涂层耐磨性能的新型微粒喷浆冲蚀(MSE)试验方法的开发
    MSE 试验可以不受基底材料的束缚,对硬质薄膜耐磨性进行单独评估。MSE 试验的高灵敏性也适合评估多层涂层及薄膜和基底间的界面层。同样适合评估其它类型的薄表面层如氧化物,硬漆,耐摩膜等。MSE微粒喷浆冲蚀法(定量测定)是用冲蚀磨损的方法评估涂层冲蚀磨损是指液体或固体以松散的小颗粒按一定的速度或角度对材料表面进行冲击所造成的一种材料损耗现象或过程。它广泛存在于机械、冶金、能源、建材、航空、航天等许多工业部门。MSE微粒喷浆冲蚀法(定量测定)是用冲蚀磨损的方法评估涂层,是世界最新的材料评估方法。MSE微粒喷浆冲蚀法是指恒定的压缩空气与浆料在喷嘴中混合后,最终高速喷射到涂层材料表面,持续对材料表面进行冲蚀,材料磨损量随表面强度而变化。再通过试验机将磨损量的变化转换成磨损率,以此来评估和对比各种材料表面强度。适用于所有涂层、镀层、镀膜,可很好地评估超硬、超软、透明、超薄、复合涂层等。固体微粒1.2μm,可产生10-50mm磨痕,样品尺寸为30mm*30mm*10mm,磨损面积为1mm2,喷射速度(100m/s),喷射角度为90度。
  • TiN 硬质薄膜涂层评估 MSE测量应用
    MSE微粒喷浆冲蚀法(定量测定)是用冲蚀磨损的方法评估涂层冲蚀磨损是指液体或固体以松散的小颗粒按一定的速度或角度对材料表面进行冲击所造成的一种材料损耗现象或过程。它广泛存在于机械、冶金、能源、建材、航空、航天等许多工业部门。MSE微粒喷浆冲蚀法(定量测定)是用冲蚀磨损的方法评估涂层,是世界最新的材料评估方法。MSE微粒喷浆冲蚀法是指恒定的压缩空气与浆料在喷嘴中混合后,最终高速喷射到涂层材料表面,持续对材料表面进行冲蚀,材料磨损量随表面强度而变化。再通过试验机将磨损量的变化转换成磨损率,以此来评估和对比各种材料表面强度。适用于所有涂层、镀层、镀膜,可很好地评估超硬、超软、透明、超薄、复合涂层等。固体微粒1.2μm,可产生10-50mm磨痕,样品尺寸为30mm*30mm*10mm,磨损面积为1mm2,喷射速度(100m/s),喷射角度为90度。

薄膜涂层应力仪相关的资料

薄膜涂层应力仪相关的论坛

  • XRD、XRF看过来!10月14日马尔文X射线技术培训(纳米、多晶、涂层镀层、半导体薄膜测量)

    XRD、XRF看过来!10月14日马尔文X射线技术培训(纳米、多晶、涂层镀层、半导体薄膜测量)

    [font=&][color=#000000]马尔文帕纳科联合仪器信息网将于10月14日举办微观丈量“膜”力无限——X 射线分析技术应用于薄膜测量主题活动,特邀高校资深应用专家及马尔文帕纳科技术专家分享薄膜表征技术与应用干货,全面展示马尔文帕纳科针对薄膜材料测量的解决方案。此外,活动直播间还特别设置了答疑及抽奖多轮福利环节。[/color][/font][b][color=#006600]点击报名 [url=https://www.instrument.com.cn/webinar/meetings/malvernpanalytical2022/]微观丈量 膜力无限——马尔文帕纳科 X 射线分析技术应用于薄膜测量_网络讲堂_仪器信息网 (instrument.com.cn)[/url][/color][/b][font=&][color=#000000][b]背景介绍:[/b][/color][/font][font=&][color=#000000]薄膜,通常是指形成于基底之上、厚度在一微米或几微米以下的固态材料。薄膜材料广泛应用于不同的工业领域,譬如半导体、光学器件、汽车、新能源等诸多行业。沉积工艺是决定薄膜成分和结构的关键,最终影响薄膜的物性;对薄膜成分、厚度、微结构、取向等关键参数进行测量可以为薄膜沉积工艺的调整和优化提供依据,改善薄膜材料性能。[/color][/font][font=&][color=#000000][/color][/font][font=&][color=#000000][b]活动日程:[/b][/color][/font][table][tr][td=1,1,99]时间[/td][td=1,1,280]环节[/td][td=1,1,256]报告人[/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:00-14:10[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]开场致词,公司介绍与薄膜应用概述[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]程伟,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 先进材料行业销售经理[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:10-14:50[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]X射线衍射仪在纳米多层薄膜表征中的应用[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]朱京涛,[/color][color=#000000]同济大学 教授[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]14:50-15:00[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第一轮抽奖[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]定制马尔文帕纳科公仔一对[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:00-15:30[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]多晶薄膜应力和织构分析[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]王林,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 中国区XRD产品经理[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:30-15:40[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第二轮抽奖[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]定制午睡枕[/color][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]15:40-16:25[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]X射线衍射及X射线荧光分析技术在半导体薄膜领域的应用[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]钟明光,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 亚太区半导体销售经理[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:25-16:35[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑、课程评价有礼[/color][/td][td=1,1,261]电脑包、公仔1对[/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:35-16:55[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000][b]X射线荧光光谱在涂层镀层分析中的应用[/b][/color][/td][td=1,1,261][b][color=#000000]熊佳星,[/color][color=#000000]马尔文帕纳科 中国区XRF产品经理[/color][/b][/td][/tr][tr][td=1,1,99][color=#000000]16:55-17:00[/color][/td][td=1,1,280][color=#000000]答疑 & 第三轮抽奖&结束语[/color][/td][td=1,1,261][color=#000000]倍思车载无线充电器[/color][/td][/tr][/table][img=,690,335]https://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2022/10/202210091517508512_6104_5138539_3.png!w690x335.jpg[/img][b][/b][font=&][color=#000000][b]重要内容抢先看:[/b][/color][/font][font=&][color=#000000]【同济大学,朱景涛教授】将分享[b]X衍射仪在纳米多层薄膜表征中的应用[/b],主要采用掠入射X射线反射、X射线衍射、X射线面内散射等测试方法,表征周期、非周期、梯度多层膜,以及膜层厚度、界面宽度、薄膜均匀性、结晶特性、粗糙度等信息;[/color][/font][color=#000000]【马尔文帕纳科中国区,XRD产品经理 王林】将分享X射线衍射法测量[b]多晶薄膜的残余应力和织构分析方法[/b];【马尔文帕纳科亚太区,半导体销售经理 钟明光】将展示马尔文帕纳科在[b]半导体薄膜领域[/b]的专业分析解决方案;【马尔文帕纳科中国区,XRF产品经理 熊佳星】将分享X射线荧光光谱在[b]涂层镀层无损分析[/b]中的应用。[b][color=#336666]专题页面:[url=https://www.instrument.com.cn/topic/malvernpanalytical.html][font=宋体]https://www.instrument.com.cn/topic/malvernpanalytical.html[/font][/url][/color][/b][/color]

  • 粉末涂层测厚仪在喷涂施工中的应用

    对于粉末喷涂施工,测量涂层固化前的粉末层厚度也有着重要的意义。粉末涂层测厚仪与湿膜测厚仪的形式有所不同,使用方法也有区别。其中,非接触式粉末厚度测厚仪是一种超声波测厚仪,使用很方便,可以根据粉末的厚度显示出最终涂层的厚度。  传统的粉末涂层测厚仪包括有:干膜测厚仪和湿膜测厚仪。  [b]湿膜测厚仪应用:[/b]  有研究表明,涂层固化过程中会出现应力是不争的事实。大部分涂层在固化过程中会收缩,由此在涂层内部就出现了拉应力 要是在涂层固化过程中涂料分子的结构发生变化,涂层就会膨胀,涂层内部就会存在压应力。  另外,涂层和基材热膨胀系数不同以及各道涂层间性能的差别等因素都会使涂层内部产生应力。如果涂层中的应力超过了涂层的抗拉强度,涂层就会开裂。内应力的存在还可能使涂层的附着力和抗疲劳性能下降,致使涂层的使用寿命缩短。一旦在涂层完全固化后发现涂层厚度不符合设计要求,就很有可能需要将原先的涂层清除干净后重新涂漆,由此造成的损失会很大。因此,我们需要在涂装过程中随时检查涂层的湿膜厚度。  [b]干膜测厚仪应用:[/b]  涂装施工正式结束之前,要按有关要求或标准对涂层的厚度进行全面的检查。检查涂层厚度的方法有很多,但在涂装施工现场,无损检测法是测量涂层厚度最为常用的方法,这种方法操作简便,工作效率高,经济性好,对涂层不会造成破坏性影响。  为了满足用户对粉末涂料固化前的厚度进行非接触、无破坏性测量,TQC新推出一款可用于湿膜和干膜分析的粉末涂层测厚仪,采用光热法,能够非接触,无破坏性对粉末涂料固化前后的厚度进行分析测量。这台轻巧稳健的仪器可快速精准地测量在金属和MDF底材上粉末涂层在固化前后的厚度。测量系统由传感器和显示器组成,通过一条电缆连接。 [b] TQC Powder TAG 粉末涂层测厚仪特点:[/b]  1、操作简便。只需将探头在合适的距离指向测量物品的表面,然后按下“测量”按钮。  2、可测量任意形状和尺寸的样品,包括边框和边缘的样品。  3、测量范围大,测量值极其精准。  4、可测量任意金属底材品如钢、铝及非金属底材如中密度纤维板。  5、适用于固化或未固化粉末涂料。[align=center][url=http://www.tqc-china.com][img=TQC Powder TAG 粉末涂层测厚仪,416,369]http://www.tqc-china.com/system/upload/day_170711/201707111119434805.png[/img][/url][/align][b]关于TQC Powder TAG 粉末涂层测厚仪更多信息,欢迎随时咨询翁开尔热线:400-680-8138,或者登陆:[/b]www.tqc-china.com.

  • 求XRD测量薄膜残余应力问题

    不知道有没有用XRD测量过薄膜残余应力朋友,求指点一下,我的薄膜是TiAlN/CrN多层膜,厚度只有1um,本人采用sin2(fai)法的方法测过,但是过程由于薄膜太薄,没有薄膜的峰信息,只有基底峰,不知有没有人遇到过类似情况,求指导!!或者能告诉我北京哪里可以做这方面的测试?谢谢!!

薄膜涂层应力仪相关的耗材

  • 悬浮在横向电磁场网格上的单层石墨烯薄膜
    由化学蒸气沉淀形成,转移到多碳孔支持膜横向电磁场的网格上,石墨烯悬浮没有底层,比碳孔高2微米。石墨烯薄膜生长方法:CVD合成、转移方法:干净转移,质量控制:光学显微镜、拉曼光谱、扫描电镜和透射电镜批签,大小:3毫米,外观(颜色):透明,透明度:97%,外观(形状):薄,覆盖率:95%,石墨烯层数:1,厚度(原理上):0.345毫微米,场效应管电子AI203迁移率:2,800cm2/Vs,场效应管SIO2/SI的电子迁移率:3,500cm2/Vs,表面电阻:170欧姆平方米,晶粒尺寸:约10μm,横向电磁场网格:类型:多孔碳支持膜 ?R2/4,孔大小:2微米,孔间距:4微米,孔直径:3毫米,涂层:镀金。
  • 超快薄膜偏振片
    超快薄膜偏振片1.适用于钛:蓝宝石和镱掺杂激光器2.高达0.3 J / cm2 @ 200 fs @ 800nm损伤阈值3.优化分散S和P的最小色散超快薄膜偏振片采用薄膜涂层技术,可在近红外波长范围内实现zui佳性能。这些偏振器具有高损伤阈值,非常适用于高功率激光器,包括Ti:蓝宝石和掺镱激光源。透射偏振器可在偏振器的两侧具有偏振涂层,而反射偏振器由输入面上的偏振涂层和输出面上的抗反射涂层组成。订购信息消声系数对比度 波长范围 (nm)透射率 (%) 20:1Tp:Ts20:1750 - 850Tp85 / Ts4#88-23560:1Rs:Rp60:1750 - 850-#88-23620:1Tp:Ts20:1980 - 1090Tp85 / Ts4#88-23760:1Rs:Rp60:1980 - 1090- #88-238技术数据
  • 铁基涂层测厚仪,非铁基涂层测厚仪CM-8822
    铁基/非铁基涂层测厚仪CM-8822 一、应用概述 用磁性传感器测量钢、铁等铁磁质金属基体上的非铁磁性涂层、镀层,例如:漆、粉末、塑料、橡胶、合成材料、磷化层、铬、锌、铅、铝、锡、镉、瓷、珐琅、氧化层等。用涡流传感器测量铜、铝、锌、锡等基体上的珐琅、橡胶、油漆、塑料层等。广泛用于制造业、金属加工业、化工业、商检等检测领域。 二、功能参数 1、功能:测量导磁物体上的非导磁涂层和非磁性金属基体上的非导电覆盖层的厚度 2、测量范围:0-1000um/0-40mil (标准量程) 3、曲面不小于:F: 凸1.5mm/ 凹 25mm N: 凸 3mm/ 凹 50mm 4、分辨率:0.1/1 5、测量面积不小于:6mm 6、基底不小于:0.3mm 7、自动关机 8、使用环境:温度:0-40℃ 湿度:10-90%RH 9、准确度:±(1~3%n)或±2um 10、电源:4节5号电池 11、电池电压指示:低电压提示 12、外形尺寸:161×69×32mm 13、重量:210g(不含电池) 14、可选附件:可定制量程(大量程传感器)可选:0-200um to 18000um 铁基/非铁基涂层测厚仪CM-8822
Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ,All Rights Reserved版权所有,未经书面授权,页面内容不得以任何形式进行复制