干涉法薄膜量仪

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干涉法薄膜量仪相关的厂商

  • 上海纳嘉仪器有限公司专业代理表面与薄膜测量仪器与设备,提供各种表面与薄膜测量的技术方案。主要代理多款高端微纳米级别表面测量仪器:原子力显微镜&扫描探针显微镜,探针式轮廓仪(台阶仪),三维光学轮廓仪,色散共焦轮廓仪,光谱式椭偏仪,反射干涉仪以及各种仪器耗材等。 上海纳嘉仪器有限公司专业致力于销售各种高端科研测试类仪器与技术服务,主要代理世界一流公司的微纳米级表面测量产品,着力为各高校,研究所以及高科技公司等单位提供集产品、应用和服务于一体的整体解决方案!
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  • 岱美有限公司(下面简称岱美)成立于1989年,是一间拥有多年经验的国际性高科技设备分销商,主要为半导体、MEMs、光通讯、数据存储、高校及研发中心提供各类测量设备、工序设备以及相应的技术支持,并与一些重要的客户建立了长期合作的关系。自1989年创立至今,岱美的产品以及各类服务、解决方案广泛地运用于中国大陆、香港、台湾、新加坡、泰国、马来西亚、菲律宾等地区。主要产品包括有:晶圆键合设备、纳米压印设备、紫外光刻机、涂胶显影机、硅片清洗机、超薄晶圆处理设备、压力计、流量计、等离子电源、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、电容式位移传感器、振动样品磁强计 (VSM)、粗糙度检测仪、电镜 (SEM)、透镜 (TEM)、原子力显微镜 (AFM)、防振台系统、三维原子探针材料分析仪 (Atom Probe)、激光干涉仪、平面/球面大口径动态激光干涉仪、氦质谱检漏仪、紫外线固化仪、碳纳米管生长设备等。
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  • 岱美有限公司(下面简称岱美)成立于1989年,是一间拥有多年经验的国际性高科技设备分销商,主要为半导体、MEMs、光通讯、数据存储、高校及研发中心提供各类测量设备、工序设备以及相应的技术支持,并与一些重要的客户建立了长期合作的关系。 自1989年创立至今,岱美的产品以及各类服务、解决方案广泛地运用于中国大陆、香港、台湾、新加坡、泰国、马来西亚、菲律宾等地区。 主要产品包括有:EVG晶圆键合设备、EVG纳米压印设备、EVG紫外光刻机、EVG涂胶显影机、EVG硅片清洗机、EVG超薄晶圆处理设备、压力计、流量计、等离子电源、非接触式光学三坐标测量仪、薄膜厚度检测仪、电容式位移传感器、振动样品磁强计 (VSM)、粗糙度检测仪、电镜 (SEM)、透镜 (TEM)、原子力显微镜 (AFM)、防振台系统、三维原子探针材料分析仪 (Atom Probe)、激光干涉仪、平面/球面大口径动态激光干涉仪、氦质谱检漏仪、紫外线固化仪、碳纳米管生长设备等。岱美中国拥有八十多名训练有素的工程师,能够为各地区用户作出快捷、可靠的技术支持和维修服务;为确保他们的专业知识得以更新及并适应新的要求,岱美定期委派工程师前往海外接受专项技术训练,务求为顾客提供更高质素的售后服务及技术支持。 总部位于中国香港的岱美分别在新加坡、泰国、台湾、马来西亚、菲律宾及中国大陆(上海、东莞及北京)设立了分公司及办事处,以带给客户更快捷更**的销售及维修服务。 我们真诚希望和业界的用户互相合作,共同发展!!
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干涉法薄膜量仪相关的仪器

  • 日立高新技术科学公司于2019年3月起,在中国开始销售利用光干涉原理进行非接触式无损伤三维表面形态测量的纳米尺度3D光学干涉测量系统“VS1800”,该产品搭配有支持多目的表面测量国际标准“ISO 25178*1参数对比工具”,通过简单而准确的样品测量支持客户的分析业务,与此同时,凭借不断创新积累的三维测量性能,实现高精度、高分辨率的表面性状的测量。 在半导体、汽车、食品、医药品等产业领域的材料研究和开发方面,为了提高产品的性能与功能,对产品表面的粗糙度、凸凹不平、翘曲等表面形状的评估变得尤其重要。以往,表面形态的测量方法,一般是采用触针式粗糙度测量仪等进行二维测量(线+高差),但近年来,伴随着材料的薄膜化和微细构造化的加速,需要获取更多的信息,因此,采用扫描型白光干涉显微镜*2和激光显微镜*3等进行三维测量(面+高差)便得到了灵活应用。 此外,2010年制定了有关三维表面形态评估的国际标准ISO 25178,确立了评估方法,在这种背景下,实施三维测量的企业和研究机构等日益增多。因此,需要我们急切实现有关表面形态测量上的测量与分析的简单化以及应对多种样品的测量问题。 此次发售的“VS1800”产品, 搭配了符合ISO 25178标准的分析工具 “ISO 25178参数对比工具”。在ISO 25178标准中规定了评估表面性状的32个项目的参数,但在对比样品时,选择最适合评估的参数很难,成为分析业务的难题。“ISO 25178参数对比工具”,通过按差异程度大小顺序自动对测量的参数值进行依次排序,可轻松选出最适合对比样品的参数,从而支持客户的分析业务。 此外,“VS1800” 产品,通过光干涉方法*4除了可实现大视野测量、0.01nm的垂直方向分辨率*5、高重现性外,亦通过日立高新技术科学自主研发的技术,继承了多层膜的无损伤测量等传统产品的高测量性能。此外,该产品还可搭配“大倾斜角测量选配 ”*6功能,通过捕捉大倾斜角斜面的微弱的干涉条纹变化,实现传统的光干涉方式无法实现的大倾斜角斜面测量,从而应对多种多样的样品表面性状的三维测量。 日立高新技术集团拥有可实现极微细样品的高分辨率测量的原子力显微镜、扫描电子显微镜直至大视野、高精度测量可能的“VS1800”等产品阵容,提供表面分析解决方案,从而满足客户的广泛需求。*1 ISO 25178:规定表面形态评估方法的国际标准。*2扫描型白色干涉显微镜:利用光干涉原理进行非接触式、无损伤的表面形态测量的测量设备。*3激光显微镜:将激光作为光源进行表面形态测量的测量设备。 *4光干涉方法:是利用两列或两列以上的光波相互叠加而出现光明暗(干涉条纹)现象(干涉)的检查方法。*5 0.01 nm的垂直方向分辨率为Phase模式时的性能。*6“大倾斜角测量选配”为选择项目。 【主要特点】(1)高测量性能?垂直方向分辨率:利用光干涉方法,通过独自的算法,实现0.01 nm*的垂直方向分辨率?重现性:利用干涉条纹测量凸凹的高度,通过将来自Z驱动机构的影响最小化,实现0.1 %以下的重现性?测量速度:由于不需要样品的前处理,只要将样品放置在样品台上即可完成测量准备。通过光干涉方法最 快5秒钟即可完成测量?测量视野:以从干涉条纹获取的信息为基础进行凸凹高度的测量,由此可实现广范围(One-shot最 大6.4 mm×6.4 mm)测量与高垂直方向分辨率的两者兼顾。此外,通过连接多个数据的图像,可进一步实现广范围的分析?无损伤测量:通过日立高新技术科学自主研发的技术,对玻璃和薄膜等透明多层结构样品进行测量时,无需对样品进行加工切割成截面,即可在无损伤的情况下,完成多层结构样品的各层厚度或异物混入状况的确认以及缺陷分析等  * Phase模式时 (2) 易于使用的操作界面采用直观易懂的操作界面,能够轻而易举地进行图像分析处理前后的图像对比,从而支持分析时的最合适图像处理选择。此外,可简单地列出处理与分析的内容、创建独自的分析参数、重复使用分析参数等,并且还可批量处理数据,由此实现统一管理多个样品和分析结果,减轻繁琐复杂的后处理。 (3) ISO 25178参数对比工具 在对比多个样品时,通过将ISO 25178标准中规定的32项参数值按差异的大小顺序重新排列,从而在样品对比时能够轻松选取最适参数,支持客户的分析业务。 (4) 硬件升级按每一台XY样品台的驱动方式,设计了3个类型的产品,即基础模式的手动型Type 1、电动型Type 2、Type 3。从Type 1到Type 2、Type 3,均可根据不同的用途进行升级。
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  • 光反射薄膜测厚仪原产国:美国薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器,近几年,每年的全球销售量都超过200台。根据型号不同,测量范围可以从10nm到250um,它最高可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度(其中一层为基底材料)。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。 应用领域理论上讲,我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们最熟悉的应用领域(半导体薄膜,光学薄膜涂层,在线原位测量,粗糙或弧度表面测量):□ 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...);□ 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...);□ DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层;SOI硅片;□ MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm);□ DVD/CD涂层;□ 光学镜头涂层;□ SOI硅片;□ 金属箔;□ 晶片与Mask间气层;□ 减薄的晶片( 120μm);□ 瓶子或注射器等带弧度的涂层;□ 薄膜工业的在线过程控制;等等… 软件功能丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。软件操作简单、测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s。软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计。软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。
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  • 白光干涉仪是一种精密测量仪器,能对物体表面的粗糙度/光洁度/洁净度、轮廓、微观三维形貌、PV值、台阶、高度、平面度、盲孔等进行高精度测量。白光干涉仪的测量精度很高,精度可以达到亚纳米级别。以大量程、高精度的高速压电陶瓷单元驱动的白光干涉仪精度高达0.03nm,扫描速度高达400μm/s。它应用的行业很广泛,可应用于新能源、半导体、精密加工、精密光学、航空航天、3C产品、材料、液晶等领域。
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干涉法薄膜量仪相关的资讯

  • 700万!宁波海洋研究院采购红外折射率测量仪及中波红外干涉仪项目
    一、采购项目名称:宁波海洋研究院采购红外折射率测量仪及中波红外干涉仪项目二、项目编号:CBNB-20221203三、公告期限:2022年5月31日至2022年6月8日止四、采购组织类型:分散采购委托代理五、采购方式:公开招标六、招标项目概况(货物名称、数量、简要技术要求、采购预算/最高限价):品目号货物名称数量简要规格描述采购预算/最高限价一红外折射率测量仪1台用于测量光学材料的折射率特性,具体详见招标文件450万元二中波红外干涉仪1台用于红外玻璃均匀性检测,球面、非球面以及自由曲面等面型透镜加工精度检测,具体详见招标文件250万元
  • 操作薄膜厚度测量仪时,有哪些步骤是容易被忽视的
    在精密制造与材料科学的广阔领域中,薄膜厚度测量仪作为一种关键的检测工具,其准确性与操作规范性直接影响到产品质量与科研结果的可靠性。然而,在实际操作过程中,一些看似微不足道的步骤往往容易被忽视,这些被忽视的细节正是影响测量精度与效率的关键因素。本文将从几个关键方面出发,探讨操作薄膜厚度测量仪时容易被忽视的步骤。一、前期准备:环境检查与设备校准的疏忽1.1 环境条件未充分评估在进行薄膜厚度测量之前,对测量环境的温湿度、振动源及电磁干扰等因素的评估往往被轻视。这些环境因素的变化可能直接导致测量结果的偏差。因此,应确保测量环境符合仪器说明书的要求,如温度控制在一定范围内,避免强磁场干扰等。1.2 设备校准的忽视校准是确保测量准确性的基础。但很多时候,操作者可能因为时间紧迫或认为仪器“看起来很准”而跳过校准步骤。实际上,即使是最精密的仪器,在使用一段时间后也会因磨损、老化等原因产生偏差。因此,定期按照厂家提供的校准程序进行校准,是保障测量精度的必要环节。二、操作过程中的细节遗漏2.1 样品处理不当薄膜样品的表面状态(如清洁度、平整度)对测量结果有直接影响。若样品表面存在油污、灰尘或凹凸不平,会导致测量探头与样品接触不良,从而影响测量精度。因此,在测量前应对样品进行彻底清洁和平整处理。2.2 测量位置的随机性为确保测量结果的代表性,应在薄膜的不同位置进行多次测量并取平均值。然而,实际操作中,操作者可能仅选择一两个看似“典型”的位置进行测量,这样的做法无疑增加了结果的偶然误差。正确的做法是在薄膜上均匀分布多个测量点,并进行统计分析。2.3 参数设置不合理薄膜厚度测量仪通常具有多种测量模式和参数设置选项,如测量速度、测量范围、灵敏度等。这些参数的设置应根据薄膜的材质、厚度及测量要求进行调整。若参数设置不当,不仅会影响测量精度,还可能损坏仪器或样品。因此,在测量前,应仔细阅读仪器说明书,合理设置各项参数。三、后期处理与数据分析的疏忽3.1 数据记录的不完整在测量过程中,详细记录每一次测量的数据、环境条件及仪器状态是至关重要的。但实际操作中,操作者可能因疏忽而遗漏某些关键信息,导致后续数据分析时无法追溯或验证。因此,应建立规范的数据记录制度,确保信息的完整性和可追溯性。3.2 数据分析的片面性数据分析不仅仅是计算平均值或标准差那么简单。它还需要结合测量目的、样品特性及实验条件等多方面因素进行综合考量。然而,在实际操作中,操作者可能仅关注测量结果是否达标,而忽视了数据背后的深层含义和潜在规律。因此,在数据分析阶段,应采用多种方法(如统计分析、图形表示等)对数据进行全面剖析,以揭示其内在规律和趋势。结语操作薄膜厚度测量仪时,每一个步骤都至关重要,任何细节的忽视都可能对测量结果产生不可忽视的影响。因此,操作者应时刻保持严谨的态度和细致的观察力,严格按照操作规程进行操作,确保测量结果的准确性和可靠性。同时,随着科技的进步和测量技术的不断发展,我们也应不断学习新知识、掌握新技能,以更好地应对日益复杂的测量任务和挑战。
  • 微纳加工薄膜应力检测的国产化破局
    1.为什么要检测薄膜应力?薄膜应力作为半导体制程、MEMS微纳加工、光电薄膜镀膜过程中性能测试的必检项,直接影响着薄膜器件的稳定性和可靠性,薄膜应力过大会引起以下问题:1.膜裂;2.膜剥离;3.膜层皱褶;4.空隙。针对薄膜应力的定量化表征是半导体制程、MEMS微纳加工、光电薄膜制备工艺流程中品检、品控和改进工艺的有效手段。(见图一)图一、薄膜拉/压内应力示意图(PIC from STI 2020: Ultraviolet to Gamma Ray, 114444N)2.薄膜应力测试方法及工作原理目前针对薄膜应力测试方法主要有两种:X射线衍射法和基片轮廓法。前者仅适用于完全结晶薄膜,对于纳米晶或非晶薄膜无法进行准确定量表征;后者几乎可以适用于所有类型的薄膜材料。关于两种测试方法使用范围及特点,请参考表一。表一、薄膜应力测试方法及特点测试方法适用范围优点局限X射线衍射法适用于结晶薄膜1.半无损检测方法;2.测量纯弹性应变;3.可测小范围表面(φ1-2mm)。1.织构材料的测量问题;2.掠射法使射线偏转角度受限;3.X射线应力常数取决于材料的杨氏模量E;4.晶粒过大、过小影响精度。基片轮廓法几乎所有类型的薄膜材料激光曲率法:1.非接触式/ 无损;2.使用基体参数,无需薄膜特性参数;3.大面积测试范围、快速、简单。1.要求试样表面平整、反射;2.变形必须在弹性范围内;3.毫米级范围内平均应力。探针曲率法(如台阶仪):1.使用基体参数,无需薄膜特性参数;2.微米级微区到毫米级范围。1.接触式/有损;2.探针微米级定位困难导致测量数据重复性不够好。速普仪器自主研发生产的FST5000薄膜应力测量仪(见图二)的测试原理属于表一中的激光曲率法,该技术源自于中国科学院金属研究所和深圳职业技术学院相关研究成果转化(专利号:CN204854624U;CN203688116U;CN100465615C)。FST5000薄膜应力测量仪利用光杠杆测量系统测定样片的曲率半径,参见图三FST5000薄膜应力测量仪技术原理图。其中l和D分别表示试片(Sample)和光学传感器(Optical Detector)的移动距离, H1和H2分别表示试片与半透镜(Pellicle Mirror),以及半透镜与光学传感器之间的光程长。 图二、速普仪器FST5000薄膜应力测量仪示意图图三、FST5000薄膜应力测量仪技术原理图3.速普仪器FST5000薄膜应力测量仪技术特点及优势a.采用双波长激光干涉法,利用Stoney公式获得薄膜残余应力。该方法是目前市面上主流测试方法,包括美、日、德等友商均采用本方法,我们也是采用该测量方法的国内唯一供应商。并且相较于进口友商更进一步,速普仪器研发出独特的光路设计和相应的算法,进一步提高了测试精度和重复性。通过一系列的改进,使我们的仪器精度在国际上处于领先地位。(参考专利:ZL201520400999.9;ZL201520704602.5;CN111060029A)b.自动测量晶圆样品轮廓形貌、弓高、曲率半径和薄膜应力分布。我们通过改进数据算法,采用与进口友商不同的软件算法方案,最终能够获得薄膜应力面分布数据和样片整体薄膜应力平均值双输出。(参考中国软件著作权:FST5000测量软件V1.0,登记号:2022SR0436306)c.薄膜应力测试范围:1 MPa-10 GPa,曲率半径测试范围:2-20000m。基于我们多年硬质涂层应力测试经验,以及独特的样品台设计和持续改进的算法,FST5000薄膜应力测量仪可以实现同一台机器测试得到不同应用场景样品薄膜应力。具体而言,不但可以获得常规的小应力薄膜结果(应力值<1GPa,曲率半径>20m),同时我们还能够测量非常规小曲率半径/大应力数值薄膜(应力值>1GPa,曲率半径<20m)。目前即使国外友商也只能做到小应力测试结果输出。d.样品最大尺寸:≤12英寸,向下兼容8、6、4、2英寸。FST5000薄膜应力测量仪能够实现12英寸以下样品测试,主要得益于我们独特的样品台设计,光路设计及独特的算法,能够实现样品精准定位和数据结果高度重复性。(参考专利:ZL201520400999.9;ZL201520704602.5;CN111060029A)e.样品台:电动旋转样品台。通过独特的样品台设计,我们利用两个维度的样品运动(Y轴及360°旋转),实现12英寸以下样品表面全部位置覆盖及精准定位。(参考专利:ZL201520400999.9)f.样品基片校正:可数据处理校正原始表面不平影响(对减模式)。通过分别测量样品镀膜前后表面位形变化,利用原位对减方式获得薄膜残余应力面型分布情况。同样得益于我们独特的样品台设计和光路设计,保证镀膜前后数据点位置一一对应。4.深圳市速普仪器有限公司简介速普仪器(SuPro Instruments)成立于2012年,公司总部位于深圳市南山高新科技园片区,目前拥有北京和苏州两个办事处。速普仪器是国家高新技术企业和深圳市高新技术企业。公司拥有一群热爱产品设计与仪器开发的成员,核心团队来自中国科学院体系。致力于材料表面处理和真空薄膜领域提供敏捷+精益级制备、测量和控制仪器,帮助客户提高产品的研发和生产效率,以及更好的品质和使用体验。速普仪器宗旨:致力于材料表面处理和真空薄膜领域提供一流“敏捷+精益”级制备、测量和控制仪器。速普仪器核心价值观:有用有趣。

干涉法薄膜量仪相关的方案

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干涉法薄膜量仪相关的论坛

  • 红外测薄膜出现干涉波,怎么办?

    红外测薄膜出现干涉波,怎么办?

    求助各位大侠,红外测薄膜出现干涉波,怎么办呢?有什么解决办法不?如图中样地干涉波。http://ng1.17img.cn/bbsfiles/images/2012/01/201201111648_345239_1610157_3.jpg

  • 【资料】干涉滤光片

    干涉滤光片interference film利用干涉原理只使特定光谱范围的光通过的光学薄膜。通常由多层薄膜构成。干涉滤光片种类繁多,用途不一,常见干涉滤光片分截止滤光片和带通滤光片两类。截止滤光片能把光谱范围分成两个区,一个区中的光不能通过(截止区),而另一区中的光能充分通过(通带区)。典型的截止滤光片有低通滤光片(只允许长波光通过)和高通滤光片(只允许短波光通过),它们均为多层介质膜,具有由高折射率层和低折射率层交替构成的周期性结构。例如,最简单的高通滤光片的结构为g(L/2)(HL)mH(L/2)a,其中g代表玻璃(光学元件材料),a代表膜外空气,L和H分别代表厚度为1/4波长的低折射率层和高折射率层,L/2则代表厚度为1/8波长的低折射率层 ,m 为周期数 。类似地,低通滤光片的结为g(H/2)L(HL)(H/2)a。一种具有对称型周期膜系的高通和低通滤光片的结构分别为g(0.5LH0.5L)ma和g(0.5HL0.5H))ma 。带通滤光片只允许较窄波长范围的光通过,常见的是法布里-珀罗型滤光片,它实质上是一个法布里-珀罗标准具(见法布里-珀罗干涉仪)。具体结构为:玻璃衬底上涂一层半透明金属层,接着涂一层氟化镁隔层,再涂一层半透明金属层,两金属层构成了法布里-珀罗标准具的两块平行板。当两极的间隔与波长同数量级时,透射光中不同波长的干涉高峰分得很开,利用别的吸收型滤光片可把不允许透过的光滤掉,从而得到窄通带的带通滤光片,其通频带宽度远比普通吸收型滤光片要窄。另外还有全电介质的法布里-珀罗型滤光片,两种典型结构为gHLHLLHLH a,g HLHL HH LHLH a1。根据需要,带通滤光片的通频带可从红外到紫外。在可见光区,彩色电视摄像机中可利用这种滤光片把像分离成不同颜色;在红外区,常用于二氧化碳激光器、导弹制导系统及卫星传感器等。

干涉法薄膜量仪相关的耗材

  • 光学薄膜测厚仪配件
    教学型光学薄膜测厚仪配件是一款低价台式光学薄膜厚度测量仪,可测量薄膜厚度,薄膜的吸收率/透过率,薄膜反射率,荧光等,也可测量膜层的厚度,光学常量(折射率n和k)。光学薄膜测厚仪配件基于白光反射光谱技术,膜层的表面和底面反射的光VIS/NIR光谱,也是干涉型号被嵌入的光谱仪收集分析,结合多次反射原理,给出膜层的厚度和光学常数(n,k),到货即可使用,仅仅需要用户准备一台计算机提供USB接口即可,操作非常方便。光学薄膜测厚仪配件参数 可测膜厚: 100nm-30微米;波长范围: 300-1000nm 探测器:650像素Si CCD阵列,12bit A/D精度:1%斑点大小:0.5mm 光源:钨灯-汞灯(360-2000nm)所测样品大小:10-150mm, 计算机要求:Windows XP, vista, Win7均可,USB接口;尺寸:320x360x180mm 重量:9.2kg光学薄膜测厚仪配件应用用于薄膜吸收率,透过率和荧光测量,用于化学和生物薄膜测量,传感测量用于光电子薄膜结构测量 用于半导体制造用于聚合物薄膜测量 在线薄膜测量用于光学镀膜测量
  • 2.5倍 尼康 显微镜 白光干涉镜头
    2.5X Nikon CF IC Epi Plan TI Interferometry Objective2.5倍 尼康白光干涉镜头类型 Michelson放大率 2.5X数字孔径 NA 0.075工作距离 (mm) 10.3焦距 FL (mm) 80.0分辨能力 (μm) 3.7焦深(μm) 48.6视场,25直径视场目镜 (mm) 10视场,20直径视场目镜 (mm) 8视场, 2/3" 传感器 3.52 x 2.64mm视场, 1/2" 传感器 2.56 x 1.92mm支架 C-Mount安装螺纹 M27 x 0.75重量 (g) 440生产商 NikonRoHS 豁免 用于三维表面形貌仪,表面轮廓仪,白光干涉显微镜等测量设备的镜头。适用型号:MicroXAM系列,Newview7000系列,Newview8000系列,Wyko各型号,Contour Elite系列,ContourGT系列,Talysurf系列,SMARTWLI系列等几乎所有的白光干涉原理非接触式表面三维形貌测量仪。如果您购买设备后,发现市场不够大,或者发现放大倍数不够用,都可以联系我们,以远低于厂商售价的优惠价格拿到此类镜头产品。根据不完全统计,市场上在售的白光干涉型非接触形貌/轮廓测量设备,90%使用的是nikon原装干涉物镜。全球市场的几大重要厂家K公司,B公司,Z公司都是采用Nikon镜头。价格随时有波动,欢迎来电咨询。
  • 50倍 尼康 显微镜 干涉镜头
    50X Nikon CF IC Epi Plan DI Interferometry Objective50倍 尼康干涉物镜镜头类型 Mirau放大率 50X数字孔径 NA 0.55工作距离 (mm) 3.4焦距 FL (mm) 4.0分辨能力 (μm) 0.5焦深(μm) 0.9视场,25直径视场目镜 (mm) 0.5视场,20直径视场目镜 (mm) 0.22视场, 2/3" 传感器 0.18 x 0.13mm视场, 1/2" 传感器 0.13 x 0.10mm支架 C-Mount安装螺纹 RMS重量 (g) 150生产商 NikonRoHS 豁免用于三维表面形貌仪,表面轮廓仪,白光干涉显微镜等测量设备的镜头。适用型号:MicroXAM系列,Newview7000系列,Newview8000系列,Wyko各型号,Contour Elite系列,ContourGT系列,Talysurf系列,SMARTWLI系列等几乎所有的白光干涉原理非接触式表面三维形貌测量仪。如果您购买设备后,发现市场不够大,或者发现放大倍数不够用,都可以联系我们,以远低于厂商售价的优惠价格拿到此类镜头产品。根据不完全统计,市场上在售的白光干涉型非接触形貌/轮廓测量设备,90%使用的是nikon原装干涉物镜。全球市场的几大重要厂家K公司,B公司,Z公司都是采用Nikon镜头。价格会有所波动,欢迎来电咨询。
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