离子刻蚀机

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离子刻蚀机相关的厂商

  • OPS Plasma专注于等离子表面处理,集设备开发与设备制造、工艺开发与方案解决为一体,为各行业提供高效、节能、环保的等离子表面处理方案,包括等离子清洗、等离子活化、等离子改性、等离子接枝与聚合、等离子刻蚀、等离子沉积等。 OPS Plasma的创始人在德Fraunhofer Institute期间积累了丰富的设计开发经验,研发团队拥有10年以上的等离子系统设计经验、5年以上的等离子设备制造经验,是国内最大的等离子应用技术方案解决专家,不仅能为客户提供优质的等离子处理设备,还能为客户提供整套的解决方案和工艺指导。 OPS Plasma的制造团队多年从事等离子设备制造,成功开发出多款设备。设备采用具有独立知识产权的电极系统和进气系统,保证电场和气场的均匀分布,并完美地解决了真空动密封、真空冷却等一系列问题。 OPS Plasma的等离子设备广泛地应用在光学电子、太阳能、半导体、生物医疗、纳米材料、及通用工业领域,销往各大知名院校、科研机构和企业。在全国范围内超过100台实验设备和工业设备的良好运行,充分证明了OPS Plasma等离子系统的优越品质。 OPS Plasma致力于用国际的品质、国内的价格和优质的服务为全球各行业客户提供等离子处理设备和解决方案,成为全球行业领先的等离子应用技术方案解决专家。
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  • 介可视公司是一家加拿大投资公司,位于加拿大著名的电子工业中心多伦多市(Toronto), 介可视公司于2008年成功并购在中国从事测量领域20多年的一家业内知名企业,并在中国北京投资设立专业化的工业园区与产品销售中心。  介可视的国际化运作模式为全面进军国际市场奠定了坚实的基础。加中技术相融合并形成了集研发、制造、销售一体化的高新技术企业。介可视品牌激发国际仪器仪表行业的核心竞争力,形成独具特色的可视文化,并逐步促进现代工业测量领域的蓬勃发展。  介可视为科研单位、冶金、电力、水泥、造纸、印刷、橡塑、化工、食品、制药、纺织、烟草等广泛的行业领域提供卓越的仪器仪表品牌产品和全方位的工业测量解决方案。 介可视为能得到您的满意而不断努力创新。介可视的每一次进步,始终贯穿着一个目标,那就是:传承可视文化,铸造品牌之路!
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  • 我们长期专注于半导体材料研究与分析设备以及生命科学类仪器的经销和代理,为高校、企业科研工作者提供专业的半导体材料分析、生命科学类的解决方案。以专业技能为导向,精细工艺流程,用科学手段解决用户在科研中遇到的难题。专业的技术工程师和科研工作者进行现场演示和技术交流,打消顾虑,彼此协作,为我国的科研领域谱写新篇章。北京瑞科中仪科技有限公司长期代理销售供应多种分子材料的研究分析设备,其中包括:共聚焦显微镜、激光捕获显微切割、扫描电子显微镜、感应耦合等离子体化学气相沉积系统、离子束刻蚀机、等离子清洗机、物理气相沉积系统以及各品牌的光学显微镜以及实验室设备仪器。

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  • 等离子刻蚀机 400-860-5168转4585
    总部位于德国柏林科技园区的SENTECH仪器公司,已成为光伏生产设备世界市场之 一.我们是一家快速发展的中型公司,拥有60多名员工,他们是我们有价值的资产我们団 队的每个成员都为公司的成功做出贡献,我们总是在寻找与我们志同道合的新工作伙伴,我 们诚挚期待您的加入。 等离子刻蚀设备ICP-RIE等离子刻蚀机SI500产品介绍高端等离子刻蚀设备SI 500使用低离子; 能量的电感耦合等离子体用于低损伤刻: 蚀和纳米结构刻蚀。通过在广泛的温度: 范围内的动态温度控制确保了可重复且稳定的等离子刻蚀条件。深反应等离子;刻蚀(硅,III-V族半导体,MEMS)可: 采用低温工艺和室温下的气体切换工艺: 来实现。 特点*低损伤刻蚀 ?高速刻蚀*自主研发的ICP等离子源*动态温度控制 RIE等离子刻蚀机Etchlab 200产品介绍:经济型等离子刻蚀设备EtchLab 200具备 低成本效益高的特点,并且支持揭盖直接 放置样片。EtchLab 200允许通过载片 器,实现多片工艺样品的快速装载,也可 以直接快速地把样品装载在电极上。RIE等离子体刻蚀设备具备占地面积小, 模块化和灵活性等设计特点. 特点*低成本效益高*升级扩展性*SENTECH控制软件RIE等离子刻蚀机SI 591产品介绍SI 591特别适用于采用氟基和氣基 :气体的工艺,可以通过预真空室和电 :脑控制的等离子工艺系统实现。SI 591的特点是占地空间小,高度灵活性,例如,SI 591可作为单一反应腔系统集成在多腔系统中。特点工艺灵活性*占地面积小且模块化程度高*SENTECH控制软件
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  • 离子束刻蚀机 400-860-5168转5919
    1 产品概述: 离子束刻蚀设备是一种高精度的材料加工设备,它利用经过电场加速的高能离子束对样品表面进行物理轰击,从而实现材料的精细刻蚀。这种设备广泛应用于物理学、工程与技术科学基础学科、测绘科学技术、航空、航天科学技术等多个领域,成为现代微纳米加工技术中的重要工具。2 设备用途:材料加工:离子束刻蚀设备可以对多种材料进行精细加工,包括硅、石英、半导体、金属、非金属硬质薄膜等。通过控制离子束的能量、束流密度和刻蚀时间等参数,可以精确控制刻蚀深度和形貌,实现微米甚至纳米量级的加工精度。微结构制作:该设备具有制作微结构图形的能力,如光栅、微透镜阵列等。在光学、电子学等领域中,这些微结构对于提高器件性能具有关键作用。样品表面处理:离子束刻蚀还可以用于清洗材料表面有机物、氧化物等污染物,提升材料表面的亲水性、粘接力和附着力。这对于提高样品的质量和分析精度具有重要意义。3 设备特点 高精度:离子束刻蚀设备能够实现高精度的材料加工和微结构制作。通过精确控制离子束的参数,可以实现微米甚至纳米量级的加工精度。 多材料适应性:该设备可以处理多种材料,包括硅、石英、半导体、金属、非金属硬质薄膜等。这种广泛的材料适应性使得离子束刻蚀设备在多个领域中得到广泛应用。 高灵活性:离子束刻蚀设备通常配备有先进的控制系统和样品台,可以实现多种加工模式和工艺参数的灵活调整。这为用户提供了更多的选择和便利。 高稳定性:设备在长时间运行过程中能够保持较高的稳定性和可靠性。这有助于确保加工质量和生产效率的稳定。 4 技术参数和特点:离子枪ECR型离子枪电离气体Ar、Xe等、惰性离子种类的气体 N2、O2、C3F8等、活性离子种类的气体加速电压100 ~ 3000 V 连续可变离子流密度Ar: 1.5 mA/cm2 以上 (2kV加速时)O2: 2.0 mA/cm2 以上 (2kV加速时)离子束有效直径Φ 20 mm (FWHM 35 mm)离子流稳定性±5 % / 2 H大试样尺寸Φ 4英寸
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  • 离子束刻蚀机 400-860-5168转5919
    1 产品概述: 离子束刻蚀设备是一种高精度的材料加工设备,它利用经过电场加速的高能离子束对样品表面进行物理轰击,从而实现材料的精细刻蚀。这种设备广泛应用于物理学、工程与技术科学基础学科、测绘科学技术、航空、航天科学技术等多个领域,成为现代微纳米加工技术中的重要工具。2 设备用途:材料加工:离子束刻蚀设备可以对多种材料进行精细加工,包括硅、石英、半导体、金属、非金属硬质薄膜等。通过控制离子束的能量、束流密度和刻蚀时间等参数,可以精确控制刻蚀深度和形貌,实现微米甚至纳米量级的加工精度。微结构制作:该设备具有制作微结构图形的能力,如光栅、微透镜阵列等。在光学、电子学等领域中,这些微结构对于提高器件性能具有关键作用。样品表面处理:离子束刻蚀还可以用于清洗材料表面有机物、氧化物等污染物,提升材料表面的亲水性、粘接力和附着力。这对于提高样品的质量和分析精度具有重要意义。3 设备特点 高精度:离子束刻蚀设备能够实现高精度的材料加工和微结构制作。通过精确控制离子束的参数,可以实现微米甚至纳米量级的加工精度。 多材料适应性:该设备可以处理多种材料,包括硅、石英、半导体、金属、非金属硬质薄膜等。这种广泛的材料适应性使得离子束刻蚀设备在多个领域中得到广泛应用。 高灵活性:离子束刻蚀设备通常配备有先进的控制系统和样品台,可以实现多种加工模式和工艺参数的灵活调整。这为用户提供了更多的选择和便利。 高稳定性:设备在长时间运行过程中能够保持较高的稳定性和可靠性。这有助于确保加工质量和生产效率的稳定。 4 技术参数和特点:离子枪ECR型离子枪电离气体Ar、Xe等、惰性离子种类的气体N2、O2、C3F8等、活性离子种类的气体加速电压300 ~ 2000 V 连续可变离子流密度Ar: 0.16 ~ 0.20 mA/cm2 以上 (700V加速时)离子束有效直径Φ 108 mm气体导入机构自动流量制御6系統大试样尺寸Φ 6英寸晶片
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离子刻蚀机相关的资讯

  • 前十月进口额远超去年全年:等离子体干法刻蚀机海关进口数据分析
    自美国提出终断该国企业与华为多年的芯片供应以来,研制中国自己的国产芯片提上了我国的发展日程,也是当前中国市场最为紧迫的一项技术,关于芯片技术发展的讨论不仅在专业领域盛行,也成为了普通民众议论的焦点所在。而芯片的制造离不开刻蚀设备,其中等离子体刻蚀机更是先进制程中必不可少的设备,是重中之重。2021年是“十四五”开局之年,中国政府也推出了一系列激励政策来鼓励半导体产业发展,明确了半导体产业在产业升级中的重要地位,同时全球自2020年爆发的“芯片荒”在全球范围内愈演愈烈,却迟迟得不到缓解,各行各业都受到了一定的影响,受此影响包括仪器产业、新能源产业等在内的诸多产业都面临产品涨价、缺货的危机。危中有机,全球半导体行业的巨震却是中国半导体产业的发展契机。通过分析海关等离子体刻蚀机的进口情况,可以从一个侧面反映出中国等离子体刻蚀机市场的一些情况,进而了解到中国半导体产业的一些情况。为了解过去2021年中等离子体刻蚀机的进出口情况,仪器信息网特别对2021年1-10月,等离子体干法刻蚀机(商品编码84862041)进口数据进行了分析汇总,为大家了解中国目前等离子体刻蚀机市场做一个参考。2021年1-10月进口等离子体刻蚀机贸易伙伴变化(人民币/万元)贸易伙伴进口额(元)进口数量(台)均价(元/台)美国777014343651615058418日本621252727637416611035韩国328231684432710037666中国台湾18771365038921091421新加坡181269896211316041584马来西亚17790801177723104937英国544211135786977066德国203676120414967710中国1296367043240918荷兰632916423164582法国415082322075412波兰643071643072021年1-10月各贸易伙伴进口总额(人民币/元)2021年1-10月,中国进口等离子体干法刻蚀机总额约235亿元,总台数达1624台,其中美国进口金额最多约78亿元,台数达516台,占比高达33%,日本进口金额紧随其后约62亿元,374台,占比达26%。可以看出,目前等离子体刻蚀机主要来自于美国和日本,进口均价都超1500万元/台,此类等离子体刻蚀机以高端产品为主,主要用于生产。值得注意的是,波兰进口的一台等离子体刻蚀机仅6万多元,此设备可能是用于科研领域的低端产品或配件。从此前统计的【2020年等离子体刻蚀机海关进出口数据盘点】可以看出,2020年1-12月,我国共进口等离子体刻蚀机1276台,进口额约为170亿元,而今年仅前十个月就已超去年全年的进口额。这表明,今年我国晶圆代工厂的建设热度不减,这也和如今的半导体投资热、芯片荒有关。2021年1-10月等离子体干法刻蚀机进口数据(人民币/万元)从进口额的时间变化趋势可以看出,等离子体刻蚀机进口额在4-6月出现了一个高峰,进口额连续大幅度增长,而在七月份却断崖式下跌,直到回归正常水平。这一变化可能和疫情有关,在夏季全球疫情由于气温上升得到缓解,海关进口更畅通,而春秋季节气温较低,全球疫情出现反复。另一个可能的原因是海运费用暴涨导致六月以后进口额降低。2021年1-10月等离子体刻蚀机各注册地进口数据变化(单位/万元)2021年1-10月等离子体干法刻蚀机注册地进口额分布那么这些等离子体刻蚀机主要销往何处?通过对进口数据的注册地进行分析发现,陕西省、上海市和湖北省的进口额最多,分别为54亿元、43亿元和41亿元。等离子体刻蚀机主要应用于集成电路生产中,这表明这些地区在新建或改造集成电路生产线上投入较大,对等离子体刻蚀机的需求也在激增。我国在1-10月从韩国进口等离子体刻蚀机总额约33亿元,其中注册地为陕西省的进口额约19亿元,占比约59%。这表明,陕西省等离子体刻蚀机的进口可能和三星等韩国企业在西安的半导体生产线有关。
  • 出口增长63%!2020年等离子体刻蚀机海关进出口数据盘点
    自美国提出终断该国企业与华为多年的芯片供应以来,研制中国自己的国产芯片提上了我国的发展日程,也是当前中国市场最为紧迫的一项技术,关于芯片技术发展的讨论不仅在专业领域盛行,也成为了普通民众议论的焦点所在。而芯片的制造离不开半导体设备,其中刻蚀设备是其中的重中之重。据了解,目前我国已经突破了刻蚀设备的技术难关,其中中微公司的5nm刻蚀设备已成功销往海外,更是进入台积电的生产线。如今最先进的芯片制造主要使用干法刻蚀技术即等离子体刻蚀技术,相对于湿法刻蚀,具有更好的各向异性,工艺重复性,且能降低晶圆污染几率,因此成为了亚微米下制备半导体器件最主要的刻蚀方法。伴随着国际半导体行业的产能危机,国内等离子体刻蚀机需求或将爆发。通过分析海关等离子体刻蚀机的进口情况,可以从一个侧面反映出中国等离子体刻蚀机市场的一些情况。2020年是特殊的一年,新冠肺炎疫情在全球爆发,各行各业都受到了一定的影响,包括半导体产业。为了解过去近两年中等离子体刻蚀机的进出口情况,仪器信息网特别对2019、2020年1-12月,等离子体刻蚀机(商品编码84862041)进出口数据进行了分析汇总,为大家了解中国目前等离子体刻蚀机市场做一个参考。2019、2020年1-12月海关等离子体刻蚀机进出口数据统计统计年月进口量(台)进口金额(人民币:元)出口量(台)出口金额(人民币:元)2019年1-12月109712,685,798,98279353,896,8762020年1-12月127616,949,614,747122577,419,680从上表可以看到,2020年1-12月,我国共进口等离子体刻蚀机1276台,进口额约为170亿元,进口单价约为1328万元。而2019年同期,等离子体刻蚀机进口1097台,进口额约为127亿元,进口单价约为1156.4万元。与去年同期相比,2020年1-12月我国等离子体刻蚀机进口台数增加约16.3%,进口额增加约33.6%,进口单价提高约15%。从整体来看,2020年进口等离子体刻蚀机市场增长非常明显,同时进口单价也略有提高。而从出口情况来看,2020年1-12月,我国共出口等离子体刻蚀机122台,出口额约为5.8亿元,出口单价约为473万元。而2019年同期,等离子体刻蚀机出口79台,出口额约为3.54亿元,出口单价约为448万元。总体而言,我国等离子体刻蚀机出口量仍然很少,但2020年比上年同期出口金额明显增加约63%,出口数量增加约54%,出口单价也略有提高。2019、2020年1-12月等离子体刻蚀机进口量逐月数据图(单位:台)对2020年1-12月等离子体刻蚀机进口量逐月数据分析发现,并对比2019年同期数据可以明显看出,2020年等离子体刻蚀机进口数量明显有所增加,且逐月变化较为明显,其中2020年1月受国内新冠肺炎疫情影响,等离子体刻蚀机进口数量较去年有所下降,而则2~4月份迎来“报复性”增长,等离子体刻蚀机进口台数比去年同期多大约一半,5~7月每月进口数量与去年有所增长,但增幅有所下降,8月进口数量较去年同期有所下降,可能受国外新冠疫情影响,而9月进口量的大爆发可能是为了弥补8月份进口量不足的部分。10-11月平稳增加,但12月进口量再次下降,这可能来自于特朗普政府将中芯国际列入“实体清单”和冬季疫情反扑的多重影响。2019、2020年1-12月等离子体刻蚀机进口金额逐月数据图(单位:人民币/亿元)对2020年1-12月等离子体刻蚀机进口金额逐月数据分析发现,并对比2019年同期数据可以明显看出,除12月较去年进口金额有所下降以外,等离子体刻蚀机每月进口金额都较去年同期有所增加,其中,6、7、11月较去年增长幅度较小之外,但其他月份增幅明显。值得注意的是,9月进口额更是达到了去年同期的两倍以上,一个可能的原因是9月份台积电停止为华为代工芯片,华为大量订单转向国内代工厂生产,国内代工厂的扩大产能所导致。2019、2020年1-12月等离子体刻蚀机主要海关进口贸易伙伴数量(单位:台)2019、2020年1-12月等离子体刻蚀机主要海关进口贸易伙伴金额(单位:人民币/亿元)2020年1-12月等离子体刻蚀机海关进口贸易伙伴金额分布图根据海关数据,近两年我国主要从美国、日本、新加坡、韩国、中国台湾、马来西亚、英国以及德国等贸易伙伴进口等离子体刻蚀机。其中进口金额最高的前5个贸易伙伴分别是美国、日本、新加坡、韩国和中国台湾。从数据中可以看出,我国等离子体刻蚀机对美日依赖严重。2020年1-12月等离子体刻蚀机进口企业注册地数量分布(单位:台)2020年1-12月等离子体刻蚀机进口企业注册地金额分布(单位:人民币/亿元)通过海关进口等离子体刻蚀机的企业注册地数据,可以大致了解到进口等离子体刻蚀机在国内的“落脚地”。可以看出 ,2020年,江苏、上海、湖北、陕西等省市进口等离子体刻蚀机数量较多,而这些地区也是我国经济较发达,半导体相关行业比较发达的省份和地区。就海关进出口数据来看,等离子体刻蚀机在国内的市场潜力非常巨大,2020年尽管新冠疫情爆发给各行各业造成一定影响,但我国等离子体刻蚀机市场增长依然明显,但由于进口等离子体刻蚀机美日产品占据主流,受到美国贸易战影响较大,国内产线等离子体刻蚀机的“去美化”迫在眉睫。另一方面,由于国内掌握等离子体刻蚀机所涉及的核心零部件、研发人才等仍然相对较少,虽然在介质刻蚀机上的研究已逐渐达到国际先进水平,但难度较大的深硅等离子体刻蚀机的发展距美、日还有一定差距。同时,由于半导体设备企业与晶圆代工厂的工艺深度绑定,也使得等离子体刻蚀机为代表的半导体设备仍依赖进口,受制于人。不过,近年来随着以中微半导体、北方华创等国内等离子体刻蚀机厂商的崛起,国产刻蚀机在一定程度上也能满足部分企业的要求。未来,伴随着中美半导体产业的争夺和全面“去美化”的浪潮,等离子体刻蚀机的国内市场占有率将有望进一步提升。
  • 牛津最新等离子技术App可用于等离子体刻蚀和沉积
    牛津仪器等离子技术最近更新的App包括一个明确和互动的元素周期表、详细的等离子体、离子束和原子层沉积工艺信息。它允许iPhone和iPad用户查阅工艺化学的相关信息,可以通过简单的周期表界面实现任何材料的刻蚀和沉积。  这个周期表App可以免费下载,将吸引大量的工业和学术界的用户。同时,它也是一个优秀的教学设备,可以展示单个元素属性和电子构型。

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  • 【求助】等离子刻蚀参数对实验结果的影响

    各位做过等离子刻蚀的同行们: 我是一个新手,在刻蚀聚苯乙烯小球的时候自己设置了几个参数,但是具体每个参数对实验结果的影响还不是很清楚,先列出来Icp(w);RF(w);Pressure(mT)等。希望大家给予指点,不胜感激

  • Ar离子刻蚀制备EBSD样品

    想用离子刻蚀制备EBSD样品,材料是碳含量为0.5%左右的珠光体钢。但是不知离子刻蚀的具体参数,所以想请了解这方面的给些建议。

离子刻蚀机相关的耗材

  • 微结构加工服务 激光微加工 微结构激光刻蚀
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例: FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构 单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备 1,电子束曝光系统;2,聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统;3,双面对准接触式紫外光刻机;4, 单面对准紫外光刻机;5,金属高密度等离子体刻蚀机;6,硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机; 7,反应等离子体刻蚀机;8,纳米压印机。
  • Eachwave 微结构加工服务 激光微加工 微结构激光刻蚀 其他光谱配件
    上海屹持光电技术有限公司专业提供各种微纳结构加工服务典型案例: FIB加工微纳结构 紫外光刻微纳结构单晶硅反应离子刻蚀图片 ICP 刻蚀微纳结构 纳米压印点线图微流控细胞打印 EBL 刻写微纳阵列 FIB 用于器件电极沉积 激光直写图案激光直写器件微纳结构加工主要设备1,电子束曝光系统;2,聚焦离子束/ 扫描电子显微镜双束系统;3,双面对准接触式紫外光刻机;4, 单面对准紫外光刻机;5,金属高密度等离子体刻蚀机;6,硅刻蚀高密度等离子体刻蚀机;7,反应等离子体刻蚀机;8,纳米压印机。
  • 光刻胶/抗蚀剂_导电胶_耐刻蚀胶
    光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。光刻胶的英文名为resist,又翻译为抗蚀剂、光阻等。广泛应用于集成电路(IC),封装(Packaging),微机电系统(MEMS),光电子器件光子器件(Optoelectronics/Photonics),平板显示器(LED,LCD,OLED),太阳能光伏(Solar PV)等领域。 德国ALLRESIST公司是从事光刻用电子化学品研发、生产和销售的专业公司,有丰富的经验和悠久的传统。可以为您提供各种标准工艺所用的紫外光刻胶,电子束光刻胶(抗蚀剂)以及相关工艺中所需要的配套试剂。 北京汇德信科技有限公司作为德国ALLRESIST的国内独家代理经销商,为国内用户提供高品质的光刻胶以及配套服务。 产品类型: 1.紫外光刻胶(Photoresist) 各种工艺:喷涂专用胶,化学放大胶,lift-off胶,图形反转胶,高分辨率胶,LIGA用胶等。 各种波长: 深紫外(Deep UV)、I线(i-line)、G线(g-line)、长波(longwave)曝光用光刻胶。 各种厚度: 光刻胶厚度可从几十纳米到上百微米。 2. 电子束光刻胶(电子束抗蚀剂)(E-beam resist) 电子束正胶:PMMA胶,PMMA/MA聚合物, LIGA用胶等。 电子束负胶:高分辨率电子束负胶,化学放大胶(高灵敏度电子束胶)等。 3. 特殊工艺用胶(Special manufacture/experimental sample) 电子束曝光导电胶,耐酸碱保护胶,全息光刻用胶,聚酰亚胺胶(耐高温保护胶)等特殊工艺用胶。 4. 配套试剂(Process chemicals) 显影液、除胶剂、稀释剂、增附剂(粘附剂)、定影液等。 产品特点1. 光刻胶种类齐全,可以满足多种工艺要求的用户。产品种类包含:各种厚度的紫外光刻胶(正胶或负胶),lift-off工艺用胶,LIGA用胶,图形反转胶,化学放大胶,耐刻蚀保护胶,聚酰亚胺胶,全息曝光用胶,电子束光刻胶(包含PMMA胶、电子束负胶、三维曝光用胶(灰度曝光用胶)、混合曝光用胶等)2. 光刻胶包装规格灵活多样,适合各种规模的生产、科研需求。 包装规格包含:250毫升、1升、2.5升等常规包装,还提供试验用小包装,如30毫升、100毫升等。3. 交货时间短。我们每个月20号左右都会向德国厂商下订单,产品将于第二个月中旬到货,您可以根据实际情况,合理安排采购时间。具体的订购情况,请联系我们的销售人员。 4. 可以提供高水准的技术咨询服务,具有为客户开发、定制特殊复杂工艺用光刻产品的能力5. 储存条件:密闭储存在容器中并置于避光、干燥阴凉、通风良好之处。储存在适当的温度下。详情请联系我们的销售人员。 欢迎致电咨询(电话:010-82867920/21/22),更多光刻胶信息请查看官网:http://www.germantech.com.cn/new/cplook.asp?id=514
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