光学器件

p 　　清华大学精密仪器系尤政课题组、材料学院刘锴课题组、物理系魏洋课题组，与美国伯克利加州大学吴军桥课题组、姚杰课题组、科斯塔斯· 格里戈罗普洛斯(Costas P. Grigoropoulos)课题组合作，在材料学国际知名期刊《先进材料》(Advanced Materials)上发表题为《非光刻和现场编程的光子超画布》(A Lithography-Free and Field-Programmable Photonic Metacanvas)的研究论文，提出了一种新型的可重构光学平台——超画布。该论文被《先进材料》杂志选为该期的内封底(Inside Back Cover)文章。 /p p 　　传统光学器件的技术参数与功能是固定的，这给光学器件与光学系统的实际应用带来了诸多不便。如果能够在现场调节光学器件的技术参数或功能，就可以大幅提升光学系统的工作性能。因此，可重构光学器件成为了近年来光学领域的研究焦点。 /p p 　　为了实现上述目的，清华大学和伯克利加州大学的研究人员创造性地提出使用相变材料二氧化钒，构建新型全固态的可重构光学平台“超画布”的方法。借助二氧化钒薄膜的相变热滞回线，研究人员可以在超画布上实现几乎任意光学元件的快速写入与无痕擦除。光学元件的写入由低功率(约1 mW)的连续激光和三维移动平台完成，整个过程中超画布的温度可以保持在90 ℃以下。光学元件的擦除依靠降低超画布的温度实现，最快仅需约1秒就可以完全擦除超画布上所有的光学元件或图案。 /p 　　超画布具有成本低、无需光刻、重构速度快等优点。文章中，研究人员首先基于超画布演示了能够偏折光线的可重构光学器件 接着，使用复数块超画布搭建了可重构光学系统样机，对光学现象的动态转变过程进行了观测 最后，展示了使用超画布进行物理仿真，以辅助光学器件设计工作的方法。 p style=" text-align: center " 　　 img src=" http://img1.17img.cn/17img/images/201802/insimg/3106e717-a2e6-496e-95c0-bf5c48e67080.jpg" title=" e86f87c6-4006-42ce-a787-28c6fad7719b.jpg" / /p p style=" text-align: center " 　　基于超画布的可重构光学器件与可重构光学系统示意图。 /p p 　　超画布的研究促进了光学器件与光学系统技术的发展，此成果有潜力应用到光学计算、可重构光子电路、生物医疗、全息图像等领域中。《先进材料》审稿人在评审意见中指出：“这篇文章展示了可调超表面领域的一个巨大的技术进步。” /p p 　　清华大学尤政教授指导的精密仪器系2017届博士毕业生董恺琛、伯克利加州大学已出站的博士后洪錫濬(Sukjoon Hong)和博士研究生邓洋为该文章的共同第一作者。该项研究得到了中国国家自然科学基金、美国国家科学基金、清华-富士康纳米科技研究中心等方面的支持。 /p p br/ /p

光学前沿——第三届全国信息光学与光子器件学术会议(CIOC2010)由中国科学院上海光学精密机械研究所主办，广西师范大学与中国激光杂志社联合承办。第一届(CIOC2008)、第二届(CIOC2009)学术会议分别于2008年8月、2009年8月在南京与青岛举办，并取得了圆满成功。每届会议都有来自全国160多个高校和研究院所的近500名代表参加了会议，出版专题文集两期。应广大代表要求，第三届学术会议(CIOC2010)将于2010年8月6-9日在广西桂林举办。 　　CIOC2010继续以光信号处理技术、光电子技术、光子器件、新型光功能材料等领域等作为主题，还将增加能源光子学、机器视觉专题。会议面向全国高等院校、研究院所以及高新技术企业征集高水平论文。 　　本次会议将在会前审稿，全文通过审稿的代表可在会议报到时领取论文录用通知单，每篇文章至少需要一名作者到会参与学术交流。全文通过审稿的文章将刊登在《光学学报》 “信息光学”专刊(Ei收录)、《强激光与粒子束》(Ei收录)、《光子学报》、《应用光学》上，优秀文章可安排到《光学学报》正刊发表。其余文章可推荐到网络期刊《激光与光电子学进展》(中文核心期刊，中国科技核心期刊)出版(出版周期60天)。 　　广西师范大学是广西壮族自治区重点大学，坐落在世界著名山水旅游名城、历史文化名城桂林市。学校历史悠久，文化底蕴深厚，创办于1932年，有王城、育才、雁山3个校区。广西师范大学竭诚欢迎各位光学专家参会、考察和指导，以推动光学学科的建设与发展。 　　会议时间：2010年8月6日-9日 　　会议地点：广西 桂林 广西师范大学 　　指导单位：中国光学学会 　　主办单位：中国科学院上海光学精密机械研究所 　　承办单位：广西师范大学 中国激光杂志社 　　媒体支持：《光学学报》、《中国激光》、《强激光与粒子束》、《激光与光电子学进展》、《光子学报》、《应用光学》、中国光学期刊网(www.opticsjournal.net) 　　会议主题/征稿范围： 　　1、光信号处理技术 2、能源光子学 　　3、光通信、光网络技术 4、光器件与集成光路 　　5、光电子技术及其应用 6、先进光功能材料技术及应用 　　7、机器视觉及应用 8、其他相关技术 　　征文要求： 　　论文摘要需中英文对照，中文摘要控制在250～300字，重点包括4个要素，即研究目的、方法、结果和结论。英文摘要要求句型简单、语句顺畅、意义完整。摘要须用第三人称撰写，控制在1000字左右，一个A4页面以内(小四号字排版)。 　　论文全文不超过8000字，论文应该是具有国内外领先水平或独创意义的学术论文,有一定独立见解的理论论述,有可靠数据的实验报道,有科学依据的技术应用或阶段性科研成果的实验快报。不接受综述和已在国内外正式出版刊物上发表过的论文。来稿需注明论文题目、作者姓名、单位、通讯地址(包括邮编、电话、E-mail等)、标明所属征稿范围的第几类。论文格式请参考模板http://www.opticsjournal.net/post/PT080503000025GdJf.doc 　　注册、投稿、酒店预订请登陆会议官方网站，使用中国激光杂志社汇同会议系统在线注册和投稿。http://www.opticsjournal.net:8889/CIOC.htm 　　注意，选择《光子学报》投稿的作者请直接联系《光子学报》编辑部，文章录用后由会务组统一发送参会邀请函。 　　企业研讨及产品发布： 　　为促进学界和产业界的融合，本次论坛欢迎光电企业参与赞助，赞助企业可在会议、摘要集、论文集、网站上发布信息，主办单位将提供产品介绍的时间和产品展示场地。 　　重要日期： 　　论文全文提交截止时间：2010年6月1日 　　论文是否接收通知时间：2010年7月6日 　　预注册交费截止时间： 2010年7月16日 　　报 到：8月6日9：00-20：00 　　大 会 报告：8月7日9：00-17：00 　　分会场报告：8月8日9：00-17：00 　　考 察：8月9日 　　注册报到事项： 　　1.收费：本次会议收取会务费1200元，学生凭学生证1000元(预注册优惠价为一般代表1100元，学生代表900元，需在2010年7月16日之前交费)。 　　2.食宿：会议期间食宿费自理，无伙食补贴。 　　3.汇款方式： 　　(1)银行汇款(需由对公账户汇出)： 　　账户名：《中国激光》杂志社有限公司 开户行：中国工商银行上海市嘉定支行 　　账 号：1001 7008 0930 0218 071 附言备注项：CIOC会务费 　　(2)邮局汇款：邮 编：201800 地 址：上海市嘉定区清河路390号 　　收款人：《中国激光》杂志社有限公司 附言备注项：CIOC会务费 　　联系方式： 　　通信地址：上海市嘉定区清河路390号　中国激光杂志社 201800 　　会务投稿：段家喜　编辑 电话：021-69918426 传真：021-69918705 　　展览赞助：高福海 主管 电话：021-69918011 传真：021-69918705 　　电子信箱：conference@siom.ac.cn 　　会议官方网站：http://www.opticsjournal.net:8889/CIOC.htm 　　中国科学院上海光学精密机械研究所 　　广西师范大学 　 (中国激光杂志社代章)

Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 用于光学器件精密加工某光学器件制造商采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 应用于光学器件精密加工, 通过蚀刻工艺提高光学器件的聚酰亚胺薄膜的表面光洁度.Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 技术参数Φ4 inch X 12片基片尺寸Φ4 inch X 12片Φ5 inch X 10片Φ6 inch X 8片均匀性±5%硅片刻蚀率20 nm/min样品台直接冷却,水冷离子源Φ20cm 考夫曼离子源 Hakuto 离子刻蚀机 20IBE-J 的核心构件离子源采用的是伯东公司代理美国 考夫曼博士创立的 KRI考夫曼公司的射频离子源 RFICP220伯东 KRI 射频离子源 RFICP 220 技术参数:离子源型号RFICP 220DischargeRFICP 射频离子束流800 mA离子动能100-1200 V栅极直径20 cm Φ离子束聚焦, 平行, 散射流量10-40 sccm通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他典型压力中和器LFN 2000 采用伯东 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J 可以使 PV、RMS分别为1.347μm和340nm的粗糙表面, 通过蚀刻其粗糙度可降低至75nm和13nm PV、RMS分别为61nm和8nm的表面, 其粗糙度可降低至9nm和1nm. 该刻蚀工艺能有效提高光学器件聚酰亚胺薄膜的表面光洁度. 若您需要进一步的了解详细产品信息或讨论 , 请参考以下联络方式 :上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王女士T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.twwww.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw伯东版权所有, 翻拷必究！