光学干涉

仪器信息网光学干涉专题为您整合光学干涉相关的最新文章,在光学干涉专题,您不仅可以免费浏览光学干涉的资讯, 同时您还可以浏览光学干涉的相关资料、解决方案,参与社区光学干涉话题讨论。
当前位置: 仪器信息网 > 行业主题 > >

光学干涉相关的资讯

  • Veeco于9月24号举办光学干涉表征技术研讨会
    全球领先测量仪器制造商美国Veeco公司,将于“2008中国国际轴承及其专用设备展览会”同期举办光学干涉表征技术研讨会。Veeco旗下的Wyko光学轮廓仪可提供精确的、重复性高的三维测试方案,达纳米以下的垂直分辨率,被广泛应用在精密机械加工、材料、半导体、生物、光学器件等方向。在这次的研讨会中,我们将着重介绍光学干涉测量技术在轴承制造及精密加工领域的应用,并在现场进行仪器操作演示。 欢迎致电021-68866186转123,或发送电邮至sales@veecoasia.com垂询。 敬请阁下光临我公司展台,展位号:Bd24 题目:光学干涉表征技术及其在轴承领域的应用 时间:2008年9月24日 14:00-17:00 pm 地点:光大会展中心国际大酒店一层光韵厅3号,上海徐汇区漕宝路66号
  • Veeco公司5月成功举办两场光学干涉技术研讨会
    2008年5月20号及23号,Veeco公司在北京、上海两地成功地举办了两场光学干涉表征技术研讨会。来着Veeco美国的技术科学家韩森博士及全球产品顾问Wanye Mozer先生全程参加了此次活动。他们针对:MEMS、精密机械加工、汽车、摩擦学、数据存储、半导体等领域做了详细的报告。在北京的研讨会上,我们还安排了NT9100仪器的展示及现场测试活动。在整场活动中,客户直观地了解到了光学干涉技术及光学轮廓仪在他们领域中的应用,得到他们的赞许。Veeco公司会持续地开展此类技术研讨会活动,感兴趣的客户请关注我们的网站。 北京研讨会现场
  • 日立高新:在中国开售纳米尺度3D光学干涉测量系统VS1800
    p    strong 仪器信息网讯 /strong 2019年3月5日,日立高新技术科学公司宣布,在中国开始销售利用光干涉原理进行非接触式无损伤三维表面形态测量的纳米尺度3D光学干涉测量系统——VS1800 span style=" color: rgb(0, 176, 240) text-decoration: underline " 【 /span a href=" https://www.instrument.com.cn/netshow/C316288.htm" target=" _blank" style=" color: rgb(0, 176, 240) text-decoration: underline " span style=" color: rgb(0, 176, 240) " 产品链接 /span /a span style=" color: rgb(0, 176, 240) text-decoration: underline " 】 /span 。据悉,VS1800于2018年年底在日本发布并销售,今日起,中国市场正式开始发售。 /p p   VS1800搭配有支持多目的表面测量国际标准“ISO 25178*1参数对比工具”,通过简单而准确的样品测量支持客户的分析业务,与此同时,凭借不断创新积累的三维测量性能,实现高精度、高分辨率的表面性状的测量。 /p p style=" text-align: center" img src=" https://img1.17img.cn/17img/images/201903/uepic/f8ecf284-1695-4c8e-bf63-a2c0093622f0.jpg" title=" 1.jpg" alt=" 1.jpg" style=" width: 300px height: 423px " width=" 300" vspace=" 0" height=" 423" border=" 0" / /p p style=" text-align: center " span style=" color: rgb(0, 176, 240) " VS1800:通过分析工具和测量技术支持三维表面性状测量 /span /p p   strong   span style=" background-color: rgb(112, 48, 160) color: rgb(255, 255, 255) " 产品开发背景 /span /strong /p p   在半导体、汽车、食品、医药品等产业领域的材料研究和开发方面,为了提高产品的性能与功能,对产品表面的粗糙度、凸凹不平、翘曲等表面形状的评估变得尤其重要。以往,表面形态的测量方法,一般是采用 strong 触针式粗糙度测量仪等进行二维测量(线+高差) /strong 。但近年来,伴随着材料的薄膜化和微细构造化的加速,需要能够获取更多的信息,传统测量手段受到限制。进而,采用 strong 扫描型白光干涉显微镜*2和激光显微镜*3等进行三维测量(面+高差) /strong 便得到了进一步灵活应用。 /p p   此外,2010年,三维表面形态评估的国际标准ISO 25178的制定,确立了评估方法,在此背景下,实施三维测量的企业和研究机构等日益增多。随之,表面形态测量上的测量与分析的简单化以及应对多种样品的测量等问题日益凸显,为解决这些测量问题,VS1800应运而生。 /p p    span style=" background-color: rgb(112, 48, 160) color: rgb(255, 255, 255) " strong 产品解决了哪些测量问题? /strong /span /p p   此次发售的VS1800, 搭配了符合ISO 25178标准的分析工具 “ISO 25178参数对比工具”。在ISO 25178标准中规定了评估表面性状的32个项目的参数,但在对比样品时,选择最适合评估的参数很难,成为分析业务的难题。“ISO 25178参数对比工具”,通过按差异程度大小顺序自动对测量的参数值进行依次排序,可轻松选出最适合对比样品的参数,从而支持客户的分析业务。 /p p   此外,VS1800通过光干涉方法*4,除了可实现大视野测量、0.01nm的垂直方向分辨率*5、高重现性外,亦通过日立高新技术科学自主研发的技术,继承了多层膜的无损伤测量等传统产品的高测量性能。此外,该产品还可搭配“大倾斜角测量选配 ”*6功能,通过捕捉大倾斜角斜面的微弱的干涉条纹变化,实现传统的光干涉方式无法实现的大倾斜角斜面测量,从而应对多种多样的样品表面性状的三维测量。 /p p   至此,在表面分析系统解决方案方面,日立高新技术集团拥有了可实现极微细样品高分辨率测量的原子力显微镜、获得更大视野的扫描电子显微镜、高精度测量可能的VS1800等产品阵容,满足相关用户更广泛需求。 /p p    span style=" background-color: rgb(112, 48, 160) color: rgb(255, 255, 255) " strong 产品主要特点 /strong /span /p p    strong (1)高测量性能 /strong /p p   ■ 垂直方向分辨率:利用光干涉方法,通过独自的算法,实现0.01 nm*的垂直方向分辨率 /p p   ■ 重现性:利用干涉条纹测量凸凹的高度,通过将来自Z驱动机构的影响最小化,实现0.1 %以下的重现性 /p p   ■ 测量速度:由于不需要样品的前处理,只要将样品放置在样品台上即可完成测量准备。通过光干涉方法最快5秒钟即可完成测量 /p p   ■ 测量视野:以从干涉条纹获取的信息为基础进行凸凹高度的测量,由此可实现广范围(One-shot最大6.4 mm× 6.4 mm)测量与高垂直方向分辨率的两者兼顾。此外,通过连接多个数据的图像,可进一步实现广范围的分析 /p p   ■ 无损伤测量:通过日立高新技术科学自主研发的技术,对玻璃和薄膜等透明多层结构样品进行测量时,无需对样品进行加工切割成截面,即可在无损伤的情况下,完成多层结构样品的各层厚度或异物混入状况的确认以及缺陷分析等 /p p    strong (2) 易于使用的操作界面 /strong /p p   采用直观易懂的操作界面,能够轻而易举地进行图像分析处理前后的图像对比,从而支持分析时的最合适图像处理选择。此外,可简单地列出处理与分析的内容、创建独自的分析参数、重复使用分析参数等,并且还可批量处理数据,由此实现统一管理多个样品和分析结果,减轻繁琐复杂的后处理。 /p p    strong (3) ISO 25178参数对比工具 /strong /p p   在对比多个样品时,通过将ISO 25178标准中规定的32项参数值按差异的大小顺序重新排列,从而在样品对比时能够轻松选取最适参数,支持客户的分析业务。 /p p    strong (4) 硬件升级 /strong /p p   按每一台XY样品台的驱动方式,设计了3个类型的产品,即基础模式的手动型Type 1、电动型Type 2、Type 3。从Type 1到Type 2、Type 3,均可根据不同的用途进行升级。 /p p    strong span style=" color: rgb(255, 255, 255) background-color: rgb(112, 48, 160) " 【附注】 /span /strong /p p   *1 ISO 25178:规定表面形态评估方法的国际标准。 /p p   *2扫描型白色干涉显微镜:利用 span style=" background-color: rgb(112, 48, 160) " /span 光干涉原理进行非接触式、无损伤的表面形态测量的测量设备。 /p p   *3激光显微镜:将激光作为光源进行表面形态测量的测量设备。 /p p   *4光干涉方法:是利用两列或两列以上的光波相互叠加而出现光明暗(干涉条纹)现象(干涉)的检查方法。 /p p   *5 0.01 nm的垂直方向分辨率为Phase模式时的性能。 /p p   *6“大倾斜角测量选配”为选择项目。 /p

光学干涉相关的方案

光学干涉相关的论坛

  • 新型干涉光谱成像技术研究取得重要进展

    近日,西安光机所新型干涉光谱成像技术研究取得重大进展,以光谱室胡炳樑研究员为首的研究团队在国内率先将离轴三反光学系统应用于短波红外干涉光谱成像系统中,并成功研制了基于M-Z像面干涉光谱成像的离轴三反桌面样机系统。  面向宽覆盖、高分辨率、高光谱分辨率的要求,离轴三反加M-Z像面干涉光谱成像技术可以有效解决大视场光学系统和大尺寸干涉仪的技术瓶颈。M-Z干涉仪放置在系统会聚光路中,在减小系统体积和重量的同时,能量利用率可以达到成像仪的极限;离轴三反光学系统则能够同时实现长焦距与大视场,并且没有中心遮拦,传递函数高。但在基于M-Z像面干涉的光谱成像系统中,离轴全反射系统难以补偿会聚光路中M-Z干涉仪棱镜元件所引入的像差,为此,科研人员将校正补偿系统应用到离轴三反系统中,设计并成功研制了一种新型离轴三反成像光学系统,并针对离轴三反系统装调自由度多,结构非对称性以及离轴系统离轴量需要精确测量调整等问题,解决了离轴非球面微应力装夹、多自由度调整结构形式、离轴三反系统高精度装调等多项技术难点,为高分辨率、高光谱分辨率光谱成像技术奠定了坚实基础,并完成了必要的技术储备,使我所先进光谱成像技术达到了国内领先水平。

  • 白光干涉仪是什么?有哪些作用?

    白光干涉仪目前在3D检测领域是精度最高的测量仪器之一,在同等系统放大倍率下检测精度和重复精度都高于共聚焦显微镜和聚焦成像显微镜,在一些纳米级和亚纳米级的超精密加工领域,除了[url=http://www.chotest.com/detail.aspx?cid=686][b][color=#333333]白光干涉仪[/color][/b][/url],其它的仪器无法达到其测量精度要求。[align=center][img]http://www.chotest.com/Upload/2018/3/201803076710554.jpg[/img][/align][align=center]中图仪器SuperView W1白光干涉仪[/align]白光干涉仪测量原理:  白光干涉仪是利用光学干涉原理研制开发的超精密表面轮廓测量仪器。照明光束经半反半透分光镜分威两束光,分别投射到样品表面和参考镜表面。从两个表面反射的两束光再次通过分光镜后合成一束光,并由成像系统在CCD相机感光面形成两个叠加的像。由于两束光相互干涉,在CCD相机感光面会观察到明暗相间的干涉条纹。干涉条纹的亮度取决于两束光的光程差,根据白光干涉条纹明暗度以及干涉条纹出现的位置解析出被测样品的相对高度。[align=center][img]http://www.chotest.com/Upload/2019/5/201905302500097.jpg[/img][/align]白光干涉仪的测量应用:  以测量单刻线台阶为倒,在检查仪器的各线路接头都准确插到对应插孔后,开启仪器电源开关,启动计算机,将单刻线台阶工件放置在载物台中间位置,先手动调整载物台大概位置,对准白光干涉仪目镜的下方。  在计算机上打开白光干涉仪测量软件,在软件界面上设置好目镜下行的最低点,再微调镜头与被测单刻线台阶表面的距离,调整到计算机屏幕上可以看到两到三条干涉条纹为佳,此时设置好要扫描的距离。按开始按钮,白光干涉仪可自动进行扫描测量,测量完成后,转件自动生成3D图像,测量人员可以对3D图像进行数据分析,获得被测器件表面线、面粗糙度和轮廓的2D、3D参数。[align=center][img]http://www.chotest.com/Upload/2019/5/201905303281565.png[/img][/align]  白光干涉仪具有测量精度高、操作便捷、功能全面、测量参数涵盖面广的优点,测量单个精密器件的过程用时2分钟以内,确保了高款率检测。白光干涉仪独有的特殊光源模式,可以广泛适用于从光滑到粗糙等各种精密器件表面的测量。

光学干涉相关的资料

光学干涉相关的仪器

  • 3D 光学干涉轮廓仪 400-860-5168转4680
    NanoX-2000/3000 系列3D 光学干涉轮廓仪建立在移相干涉测量(PSI)、白光垂直扫描干涉测量(VSI)和单色光垂直扫描干涉测量(CSI)等技术的基础上,以其纳米级测量准确度和重复性(稳定性)定量地反映出被测件的表面粗糙度、表面轮廓、台阶高度、关键部位的尺寸及其形貌特征等。广泛应用于集成电路制造、MEMS、航空航天、精密加工、表面工程技术、材料、太阳能电池技术等领域。
    留言咨询
  • 产品描述Zeta-300光学轮廓仪是一种非接触式3D表面形貌测量系统。 Zeta-300继承了Zeta-20的功能,并增加了隔离选项以及处理更大样品的灵活性。 该系统采用获得专 利的ZDot&trade 技术和Multi-Mode (多模式)光学系统,可以对各种不同的样品进行测量:透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的纹理,以及纳米至毫米级别的台阶高度。Zeta-300的配置灵活并易于使用,并集合了六种不同的光学量测技术。ZDot&trade 测量模式可同时收集高分辨率3D扫描和True Color无限远焦距图像。其他3D测量技术包括白光干涉测量、Nomarski干涉对比显微镜和剪切干涉测量。ZDot或集成宽带反射计都可以对薄膜厚度进行测量。Zeta-300也是一种高端显微镜,可用于样品复检或自动缺陷检测。 Zeta-300通过提供全面的台阶高度、粗糙度和薄膜厚度的测量以及缺陷检测功能,适用于研发及生产环境。主要功能采用ZDot和Multi-Mode(多模式)光学器件的简单易用的光学轮廓仪,具有广泛的应用可用于样品复检或缺陷检测的高质量显微镜ZDot:同时采集高分辨率3D数据和True Color(真彩)无限远焦点图像ZXI:白光干涉测量技术,适用于z向分辨率高的广域测量ZIC:干涉对比度,适用于亚纳米级别粗糙度的表面并提供其3D定量数据ZSI:剪切干涉测量技术提供z向高分辨率图像ZFT:使用集成宽带反射计测量膜厚度和反射率AOI:自动光学检测,并对样品上的缺陷进行量化生产能力:通过测序和图案识别实现全自动测量主要应用台阶高度:纳米到毫米级别的3D台阶高度纹理:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波纹度外形:3D翘曲和形状应力:2D薄膜应力薄膜厚度:30nm到100μm透明薄膜厚度缺陷检测:捕获大于1μm的缺陷缺陷复检:采用KLARF文件作为导航以测量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置工业应用LED:发光二极管和PSS(图案化蓝宝石基板)半导体和化合物半导体半导体 WLCSP(晶圆级芯片级封装)半导体FOWLP(扇出晶圆级封装)PCB和柔性PCBMEMS(微机电系统)医疗设备和微流体设备数据存储大学,研究实验室和研究所还有更多:请与我们联系以满足您的要求应用台阶高度Zeta-300可以提供纳米级到毫米级的3D非接触式台阶高度测量。ZDot和Multi-Mode(多模式)光学器件提供了一系列测量台阶高度的方法。主要的测量技术是ZDot,可以快速测量从几十纳米到几毫米的台阶高度。ZXI干涉测量技术可以在大范围面积上对台阶高度进行纳米级到毫米级的测量。ZSI剪切干涉测量技术可用于测量小于80nm的台阶高度。薄膜厚度Zeta-300可以利用ZDot或ZFT测量技术对透明薄膜进行厚度测量。ZDot适用于测量大于10μm的透明薄膜,例如在折射率较高的基板上涂覆的光阻或微流体器件层。ZFT则采用集成宽带反射仪适用于测量30nm至100μm的薄膜。 这既适用于单层薄膜也适用于多层薄膜堆叠,用户可以输入薄膜属性或者采用模型针对色谱进行匹配。纹理:粗糙度和波纹度Zeta-300可以对3D纹理进行测量,并对样品的粗糙度和波纹度进行量化。ZDot可测量从几十纳米到非常粗糙表面的粗糙度。ZSI和干涉测量技术可以测量从埃级到微米级的光滑表面。软件过滤功能将测量值分离为粗糙度和波纹度部分,并计算诸如均方根(RMS)粗糙度之类的参数。 Nomarski干涉对比度显微镜可以通过发现斜率的微小变化对非常精细的表面细节进行可视化。外形:翘曲和形状Zeta-300可以测量表面的2D和3D的形状或翘曲。这包括对晶圆翘曲的测量,例如半导体或化合物半导体器件生产中的多层沉积期间由于层与层的不匹配是导致这种翘曲的原因。Zeta-300还可以量化包括透镜在内的结构高度和曲率半径。应力:薄膜应力Zeta-300能够测量在生产过程中,包含多个工艺层的半导体或化合物半导体等器件期间所产生的应力。 使用应力卡盘将样品支撑在中性位置并精确测量样品翘曲。然后通过应用Stoney方程,利用诸如薄膜沉积工艺的形状变化来计算应力。 Zeta-300采用用户定义的间隔,并沿着样品直径采集样品表面的高度,然后将数据汇总并绘制样品形状轮廓,并以此测量2D应力。自动缺陷检查Zeta-300的自动光学检测(AOI)功能可以快速检测样品、区分不同的缺陷类型,并绘制样品的缺陷密度分布。Zeta-300结合了3D测量功能,可以提供2D检测系统无法获得的缺陷信息,从而可以更快找到缺陷根源。缺陷复检Zeta-300的缺陷复查功能采用检测设备的KLARF文件,并将平台移动到缺陷位置。用户可以使用高质量的显微镜对缺陷进行检测或者对其高度、厚度或纹理等形貌进行测量。 这提供了2D缺陷检测系统无法获得的额外的缺陷细节。Zeta-20还可以对缺陷做划线标记,从而更容易在如SEM复检设备等视野有限的设备中找到这些缺陷。LED图案化蓝宝石基板(PSS)Zeta-300光学轮廓仪可以对图案化蓝宝石基板进行量测和检测。该系统结合了ZDot功能、样品透射照明和自定义算法,可快速量化PSS凸块的高度、宽度和间距。Zeta-300还可在图案化前后用于测量光刻胶,让蓝宝石在蚀刻之前能够进行样品返工。PSS基板的自动缺陷检测可以快速识别关键缺陷,例如PSS凸块缺失、凸块桥接、撕裂和污染。半导体和复合半导体封装Zeta-300支持晶圆级芯片级封装(WLCSP)和扇出晶圆级封装(FOWLP)的量测要求。关键的应用技术是该系统能够在干光刻胶薄膜完好无损的情况下对镀铜的高度做出测量。这是透过透明的光刻胶对种子层进行测量,通过测量铜柱的高度、光刻胶的厚度以及铜柱和光刻胶的相对高度差来实现的。其他应用包括再分布线(RDL),凸块下金属化(UBM)高度和纹理、光刻胶开口关键尺寸(CD)、光刻胶厚度和聚酰亚胺厚度的测量。还可以测量金属触点的共面性以确定凸块高度是否满足最 终的器件封装连接要求。印刷电路板(PCB)和柔性PCBZeta-300的动态范围很大,这使得该系统无需改变配置就可以对表面粗糙度和台阶高度进行从纳米级到毫米级的测量。 它可以测量像铜之类的高反射率薄膜以及PCB上常见的透明薄膜。 Zeta-300支持针对盲孔(的高度和宽度)、线迹和热棒,以及表面粗糙度等关键尺寸的测量。激光烧蚀Zeta-300可以测量在激光表面处理后对半导体、LED、微流体器件、PCB等引起的形貌变化。激光已在半导体、LED和生物医学设备等行业中被用于精密尺度微加工和表面处理。对于半导体工业,测量晶圆ID标记的高度和宽度至关重要,这确保其在多个不同的工艺步骤中可以被成功读取。微流体Zeta-300能够测量由硅、玻璃和高分子等材料制成的微流体装置。该系统可以对通道、井和控制结构的高度、宽度、边缘轮廓和纹理进行量化。Zeta-300还可以在透明顶盖板密封后对最 终设备进行测量 – 对折射率的变化进行补偿并且对使用盖板引起的的应力变化进行量化。生物技术Zeta-300非常适用于生物技术应用,可以针对各种样品表面的纳米级到毫米级特征为其提供非接触式测量。Zeta-300可以用于测量生物技术设备中的深井深度之类的高纵横比台阶。此外,利用其高数值孔径物镜和分辨反射率极低样品的能力,该系统还可以测量药物输送的微针阵列结构。产品优势Zeta-300支持3D量测和成像的功能,并提供整合隔离工作台和灵活的配置,可用于处理更大的样品。该系统采用ZDot&trade 技术,可同时采集高分辨率3D数据和True Color(真彩)无限远焦点图像。Zeta-300具备Multi-Mode(多模式)光学系统、简单易用的软件、以及低拥有成本,适用于研发及生产环境。
    留言咨询
  • 产品描述Zeta-388光学轮廓仪是一种非接触式3D表面形貌测量系统。 Zeta-388继承了Zeta-300的功能,并增加了晶圆盒至晶圆盒机械臂,可实现全自动测量。该系统采用获得专 利的ZDot&trade 技术和Multi-Mode (多模式)光学系统,可以对各种不同的样品进行测量:透明和不透明、由低至高的反射率、由光滑至粗糙的纹理,以及纳米至毫米级别的台阶高度。Zeta-388的配置灵活并易于使用,并集合了六种不同的光学量测技术。ZDot&trade 测量模式可同时收集高分辨率3D扫描和True Color无限远焦距图像。其他3D测量技术包括白光干涉测量、Nomarski干涉对比显微镜和剪切干涉测量。ZDot或集成宽带反射计都可以对薄膜厚度进行测量。Zeta-388也是一款高端显微镜,可用于样品检查或自动缺陷检测。Zeta-388通过提供全面的台阶高度、粗糙度和薄膜厚度的测量以及缺陷检测功能,以及晶圆盒到晶圆盒的晶圆传送,适用于研发及生产环境。主要功能采用ZDot和Multi-Mode(多模式)光学器件的简单易用的光学轮廓仪,具有广泛的应用可用于样品复检或缺陷检测的高质量显微镜ZDot:同时采集高分辨率3D数据和True Color(真彩)无限远焦点图像ZXI:白光干涉测量技术,适用于z向分辨率高的广域测量ZIC:干涉对比度,适用于亚纳米级别粗糙度的表面并提供其3D定量数据ZSI:剪切干涉测量技术提供z向高分辨率图像ZFT:使用集成宽带反射计测量膜厚度和反射率AOI:自动光学检测,并对样品上的缺陷进行量化生产能力:通过测序和图案识别实现全自动测量晶圆传送机械臂: 自动加载直径为50mm至200mm的不透明(如硅)和透明(如蓝宝石)样品主要应用台阶高度:纳米到毫米级别的3D台阶高度纹理:平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波纹度外形:3D翘曲和形状应力:2D薄膜应力薄膜厚度:30nm到100μm透明薄膜厚度缺陷检测:捕获大于1μm的缺陷缺陷复检:采用KLARF文件作为导航以测量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置工业应用LED:发光二极管和PSS(图案化蓝宝石基板)半导体和化合物半导体半导体 WLCSP(晶圆级芯片级封装)半导体FOWLP(扇出晶圆级封装)PCB和柔性PCBMEMS(微机电系统)医疗设备和微流体设备还有更多:请与我们联系以满足您的要求应用台阶高度Zeta-388可以提供纳米级到毫米级的3D非接触式台阶高度测量。ZDot和Multi-Mode(多模式)光学器件提供了一系列测量台阶高度的方法。主要的测量技术是ZDot,可以快速测量从几十纳米到几毫米的台阶高度。ZXI干涉测量技术可以在大范围面积上对台阶高度进行纳米级到毫米级的测量。ZSI剪切干涉测量技术可用于测量小于80nm的台阶高度。薄膜厚度Zeta-388可以利用ZDot或ZFT测量技术对透明薄膜进行厚度测量。ZDot适用于测量大于10μm的透明薄膜,例如在折射率较高的基板上涂覆的光阻或微流体器件层。ZFT则采用集成宽带反射仪适用于测量30nm至100μm的薄膜。 这既适用于单层薄膜也适用于多层薄膜堆叠,用户可以输入薄膜属性或者采用模型针对色谱进行匹配。纹理:粗糙度和波纹度Zeta-388可以对3D纹理进行测量,并对样品的粗糙度和波纹度进行量化。ZDot可测量从几十纳米到非常粗糙表面的粗糙度。ZSI和干涉测量技术可以测量从埃级到微米级的光滑表面。软件过滤功能将测量值分离为粗糙度和波纹度部分,并计算诸如均方根(RMS)粗糙度之类的参数。Nomarski干涉对比度显微镜可以通过发现斜率的微小变化对非常精细的表面细节进行可视化。外形:翘曲和形状Zeta-388可以测量表面的2D和3D的形状或翘曲。这包括对晶圆翘曲的测量,例如半导体或化合物半导体器件生产中的多层沉积期间由于层与层的不匹配是导致这种翘曲的原因。Zeta-388还可以量化包括透镜在内的结构高度和曲率半径。应力:薄膜应力Zeta-388能够测量在生产过程中,包含多个工艺层的半导体或化合物半导体等器件期间所产生的应力。 使用应力卡盘将样品支撑在中性位置并精确测量样品翘曲。然后通过应用Stoney方程,利用诸如薄膜沉积工艺的形状变化来计算应力。 Zeta-388采用用户定义的间隔,并沿着样品直径采集样品表面的高度,然后将数据汇总并绘制样品形状轮廓,并以此测量2D应力。自动缺陷检查Zeta-388的自动光学检测(AOI)功能可以快速检测样品、区分不同的缺陷类型,并绘制样品的缺陷密度分布。Zeta-388结合了3D测量功能,可以提供2D检测系统无法获得的缺陷信息,从而可以更快找到缺陷根源。缺陷复检Zeta-388的缺陷复查功能采用检测设备的KLARF文件,并将平台移动到缺陷位置。 用户可以使用高质量的显微镜对缺陷进行检测或者对其高度、厚度或纹理等形貌进行测量。 这提供了2D缺陷检测系统无法获得的额外的缺陷细节。 Zeta-388还可以对缺陷做划线标记,从而更容易在如SEM复检设备等视野有限的设备中找到这些缺陷。LED图案化蓝宝石基板(PSS)Zeta-388光学轮廓仪可以对图案化蓝宝石基板进行量测和检测。该系统结合了ZDot功能、样品透射照明和自定义算法,可快速量化PSS凸块的高度、宽度和间距。Zeta-388还可在图案化前后用于测量光刻胶,让蓝宝石在蚀刻之前能够进行样品返工。PSS基板的自动缺陷检测可以快速识别关键缺陷,例如PSS凸块缺失、凸块桥接、撕裂和污染。Zeta-388还配有一个自动晶圆机械传送系统,以减少人为干预和手动样品传送所引起的污染。半导体和复合半导体封装Zeta-388支持晶圆级芯片级封装(WLCSP)和扇出晶圆级封装(FOWLP)的量测要求。关键的应用技术是该系统能够在干光刻胶薄膜完好无损的情况下对镀铜的高度做出测量。这是透过透明的光刻胶对种子层进行测量,通过测量铜柱的高度、光刻胶的厚度以及铜柱和光刻胶的相对高度差来实现的。其他应用包括再分布线(RDL),凸块下金属化(UBM)高度和纹理、光刻胶开口关键尺寸(CD)、光刻胶厚度和聚酰亚胺厚度的测量。 还可以测量金属触点的共面性以确定凸块高度是否满足最 终的器件封装连接要求。激光烧蚀Zeta-388可以测量在激光表面处理后对半导体、LED、微流体器件、PCB等引起的形貌变化。激光已在半导体、LED和生物医学设备等行业中被用于精密尺度微加工和表面处理。对于半导体工业,测量晶圆ID标记的高度和宽度至关重要,这确保其在多个不同的工艺步骤中可以被成功读取。微流体Zeta-388能够测量由硅、玻璃和高分子等材料制成的微流体装置。该系统可以对通道、井和控制结构的高度、宽度、边缘轮廓和纹理进行量化。Zeta-388还可以在透明顶盖板密封后对最 终设备进行测量 – 对折射率的变化进行补偿并且对使用盖板引起的的应力变化进行量化。生物技术Zeta-388非常适用于生物技术应用,可以针对各种样品表面的纳米级到毫米级特征为其提供非接触式测量。Zeta-388可以用于测量生物技术设备中的深井深度之类的高纵横比台阶。此外,利用其高数值孔径物镜和分辨反射率极低样品的能力,该系统还可以测量药物输送的微针阵列结构。产品优势Zeta-388支持3D量测和成像功能,并提供整合隔离工作台和晶圆盒到晶圆盒的晶圆传送系统,可实现全自动测量。该系统采用ZDot&trade 技术,可同时采集高分辨率3D数据和True Color(真彩)无限远焦点图像。Zeta-388具备Multi-Mode(多模式)光学系统、简单易用的软件、低拥有成本,以及SECS / GEM通信,适用于研发及生产环境。
    留言咨询

光学干涉相关的耗材

  • 2.5倍 尼康 显微镜 白光干涉镜头
    2.5X Nikon CF IC Epi Plan TI Interferometry Objective2.5倍 尼康白光干涉镜头类型 Michelson放大率 2.5X数字孔径 NA 0.075工作距离 (mm) 10.3焦距 FL (mm) 80.0分辨能力 (μm) 3.7焦深(μm) 48.6视场,25直径视场目镜 (mm) 10视场,20直径视场目镜 (mm) 8视场, 2/3" 传感器 3.52 x 2.64mm视场, 1/2" 传感器 2.56 x 1.92mm支架 C-Mount安装螺纹 M27 x 0.75重量 (g) 440生产商 NikonRoHS 豁免 用于三维表面形貌仪,表面轮廓仪,白光干涉显微镜等测量设备的镜头。适用型号:MicroXAM系列,Newview7000系列,Newview8000系列,Wyko各型号,Contour Elite系列,ContourGT系列,Talysurf系列,SMARTWLI系列等几乎所有的白光干涉原理非接触式表面三维形貌测量仪。如果您购买设备后,发现市场不够大,或者发现放大倍数不够用,都可以联系我们,以远低于厂商售价的优惠价格拿到此类镜头产品。根据不完全统计,市场上在售的白光干涉型非接触形貌/轮廓测量设备,90%使用的是nikon原装干涉物镜。全球市场的几大重要厂家K公司,B公司,Z公司都是采用Nikon镜头。价格随时有波动,欢迎来电咨询。
  • 50倍 尼康 显微镜 干涉镜头
    50X Nikon CF IC Epi Plan DI Interferometry Objective50倍 尼康干涉物镜镜头类型 Mirau放大率 50X数字孔径 NA 0.55工作距离 (mm) 3.4焦距 FL (mm) 4.0分辨能力 (μm) 0.5焦深(μm) 0.9视场,25直径视场目镜 (mm) 0.5视场,20直径视场目镜 (mm) 0.22视场, 2/3" 传感器 0.18 x 0.13mm视场, 1/2" 传感器 0.13 x 0.10mm支架 C-Mount安装螺纹 RMS重量 (g) 150生产商 NikonRoHS 豁免用于三维表面形貌仪,表面轮廓仪,白光干涉显微镜等测量设备的镜头。适用型号:MicroXAM系列,Newview7000系列,Newview8000系列,Wyko各型号,Contour Elite系列,ContourGT系列,Talysurf系列,SMARTWLI系列等几乎所有的白光干涉原理非接触式表面三维形貌测量仪。如果您购买设备后,发现市场不够大,或者发现放大倍数不够用,都可以联系我们,以远低于厂商售价的优惠价格拿到此类镜头产品。根据不完全统计,市场上在售的白光干涉型非接触形貌/轮廓测量设备,90%使用的是nikon原装干涉物镜。全球市场的几大重要厂家K公司,B公司,Z公司都是采用Nikon镜头。价格会有所波动,欢迎来电咨询。
  • 10倍 尼康 显微镜 干涉镜头
    10X Nikon CF IC Epi Plan DI Interferometry Objective10倍 尼康干涉镜头 CF IC Epi Plan类型 Mirau放大率 10X数字孔径 NA 0.30工作距离 (mm) 7.4焦距 FL (mm) 20.0分辨能力 (μm) 0.92焦深(μm) 3.04视场,25直径视场目镜 (mm) 2.5视场,20直径视场目镜 (mm) 2视场, 2/3" 传感器 0.88 x 0.66mm视场, 1/2" 传感器 0.64 x 0.48mm支架 C-Mount安装螺纹 RMS重量 (g) 125生产商 NikonRoHS 符合标准用于三维表面形貌仪,表面轮廓仪,白光干涉显微镜等测量设备的镜头。适用型号:MicroXAM系列,Newview7000系列,Newview8000系列,Wyko各型号,Contour Elite系列,ContourGT系列,Talysurf系列,SMARTWLI系列等几乎所有的白光干涉原理非接触式表面三维形貌测量仪。如果您购买设备后,发现市场不够大,或者发现放大倍数不够用,都可以联系我们,以远低于厂商售价的优惠价格拿到此类镜头产品。根据不完全统计,市场上在售的白光干涉型非接触形貌/轮廓测量设备,90%使用的是nikon原装干涉物镜。全球市场的几大重要厂家K公司,B公司,Z公司都是采用Nikon镜头。欢迎来电咨询。
Instrument.com.cn Copyright©1999- 2023 ,All Rights Reserved版权所有,未经书面授权,页面内容不得以任何形式进行复制