氧杂己基

01 引言 离子色谱法测定甲醇中铵离子 监测甲醇中铵离子含量在煤基合成甲醇工艺中具有重要作用。在煤基合成甲醇过程中，会产生一系列杂质气体 ，如 CO 、NH3 以及有机硫化物、氮的氧化物、煤焦油等，而铵离子会引起合成过程中的催化剂中毒失效，致催化剂效率严重下降；同时铵离子含量较高时会降低低温甲醇洗脱硫效率、对工艺设备有严重影响。因此，通过控制甲醇中铵离子的含量 ，可以防止催化剂中毒，提高转化率，降低成本。工艺控制中工业用甲醇中铵离子含量不得大于0.05mg/L.制定工业用甲醇中铵离子测定方法，是为工业甲醇的杂质检测提供一个试验方法，对指导甲醇为原料的相关生产过程的检测具有重要意义。目前甲醇中NH4+的测定都是采用离子色谱法，2022年3月1日开始实施国标《工业用甲醇中铵离子的测定离子色谱法》，下面小编分享下甲醇中NH4测定的离子色谱法。02 相关标准 GB/T 40395-2021《工业用甲醇中铵离子的测定离子色谱法》03 皖仪科技应对方案 皖仪仪器设备 试剂耗材 甲醇：色谱纯；铵根离子：ρ=1000mg/L；一次性注射器（0.5-2mL）；有机系针式过滤器（0.22μm） 测试结果 标曲线性测试NH4+标曲重叠谱图NH4+线性说明：由于所有胺类物质一次线性范围均较窄，本次按照标准要求配置的标准曲线系列梯度范围较宽，因此，标准曲线采用二次曲线拟合，本次测试铵离子线性相关系数为R2=0.99996，线性良好。------ 重复性测试 ------ NH4+0.05mg/L连续3针测试谱图NH4+0.2mg/L连续3针测试谱图NH4+2.0mg/L连续3针测试谱图 ------ 重复性结果 ------ 说明：根据谱图及测试结果可见，所有组分定量重复性均小于1%，定性重复性均小于0.2%，测试重复性良好。------ 检出限 ------ 注：标准中规定，在进样体积为50μL下，测定下限为0.01mg/L，本测试以NH4+0.05mg/L进样，考察其峰高，取测试最大噪声，以3倍信噪比对应峰高为检出限。------ 测试结果 ------ 经计算，本次测试 NH4+检出限为 0.434μg/L，小于标准要求的 0.01mg/L。04 总结 结果表明 本文采用离子色谱法，对甲醇中 NH4+进行测定，准确度高，灵敏性好，精密度好，该法可用于甲醇中 NH4+的测定。05 注意事项 — END —扫描二维码 ｜

12月5日，电子信息系统复杂电磁环境效应国家重点实验室揭牌仪式在中国洛阳电子装备试验中心举行。据中国洛阳电子装备试验中心主任聂皞介绍，该实验室是国内目前唯一从事此类研究的科研实体。 　　电子信息系统复杂电磁环境效应指的是电子信息系统在复杂电磁环境下，受各类电磁信号的综合作用导致其信息获取、传输、利用等信息链路环节产生的内在变化，以及由此引起的对电子信息系统正常工作产生的影响。 　　聂皞说，该实验室的建立，将有效促进我国高性能电子信息系统的科技创新和关键技术攻关，着重解决社会发展和公共安全、国防和军队建设中电子信息技术发展的瓶颈问题，增强我国在该领域的核心竞争力。 　　据介绍，电子信息系统复杂电磁环境效应国家重点实验室于2012年10月9日经国家科技部正式批准立项建设，依托中国洛阳电子装备试验中心的技术实力和资源优势，联合国防科技大学电子科学与工程学院的人才培养及开放交流平台，汇聚了国内外有关研究力量，自筹建以来，已出色完成了国家30余个重大项目，先后获得国家和部委级科技进步奖10余项。

为进一步满足客户的实验工艺需求，雷博科仪特推出新款实验型等离子清洗机：PT13M-BE、PT13M-SE、PT13M-GE、PT40K-BE、PT40K-SE仪器介绍等离子清洗机(plasma cleaner)也叫等离子清洁机，或者等离子表面处理仪，是一种全新的高科技技术，利用等离子体来达到常规清洗方法无法达到的效果。等离子清洗可以除去器材表面细小的油膜、锈迹或其他油类污物，而且在等离子清洗后，不会在器材表面留下残余物。工作原理等离子清洗机是一种利用等离子体技术对材料表面进行处理的设备，其工作原理主要基于等离子体中的活性粒子与材料表面发生物理和化学反应，从而达到清洁、活化、改性等目的。应用工艺雷博科仪PT系列等离子清洗机主要应用于：亲水性处理、表面处理、疏水性处理、键合处理。亲水性处理操作真空等离子清洗机通过高频电源产生电场能量，使得气体分子发生电离和激发，形成含有大量正离子、电子和自由基等活性物质的等离子体。这些活性物质在与材料表面发生作用时，能够去除表面的污染物和有机物，同时在材料表面引入含氧极性基团，如羟基、羧基等，这些基团的引入增加了材料的亲水性。①准备阶段：将要处理的材料放入真空等离子清洗机中，设定适当的处理参数，如处理时间、气体种类和浓度等。②抽真空阶段：启动真空泵，将腔体内抽成真空状态。③注入气体：选择适当的气体（如氩气、氧气、氮气等）注入腔体，形成等离子体。④等离子照射：在一定的电压和电流条件下，产生等离子体，通过等离子体中的活性粒子与材料表面发生作用，去除表面污染物，并在表面引入亲水基团。⑤结束处理：停止等离子照射，取出材料，完成亲水性处理。我们的优势1.满足8寸以下基片使用2.可处理形状复杂的材料3.低温等离子体，能量低、密度高4.对处理产品无损伤，不改变材料特性5.高效清洗，快速达成需要的表面亲水性6.无环境污染、无化学品消耗、机台本身不产生污染物