片钠铝石

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  • 与滤光片相关的名词解释

    小编相信很多对[b][url=http://www.fydph.com/]滤光片[/url][/b]有所了解的朋友们,对它的个别名词不一定能理解,那我们飞宇达光电现在就开始重点讲讲与它有关的名词解释使得各位朋友们更加的对它有所清楚。1) [b]中心波长(CWL)[/b]:使用的波长,如光源主峰值是900nm led灯,那需求的中心波长就是900nm2) [b]透过率(T)[/b]:假设光初始值为100%,通过滤光片后有所损耗了,通过评估得出只有90%了,那就可以把这个滤光片的光学透过率只有90%,简单讲就是损失了多少,大家都希望做所有事性损失越小越好.3)[b]峰值透过率(Tp)[/b]85%4) [b]半带宽(FWHM)[/b]:简单说就是最高透过率的1/2处所对应的波长,左右波长值相减,例如,峰值最好是90%,1/2就是45%,45%所对应的左右波长是800nm和850nm,那半带宽就是50nm5) [b]截止率(Blocked)[/b]: 截止区所对应的透过率.由于要想透过率达到0%,那是非常难的事情,要知道太阳可以让地下的树变成炭,只靠这薄薄的薄膜去掩盖一切是很难的,只能选择它透过率越小越好.就是不想要的光谱透过率越小越好.6)[b]截止波段[/b]:可接受地不想要的波长最小区域.7) [b]介质硬膜(hardcoating)[/b]: 氧化物材料镀制(如Ta2O5,SiO2等)子8) [b]软膜[/b]: 除氧化物材料外,如氟化物(MgF2),硫化物,常用的金,银,铝之类.9)[b]增透膜(AR)[/b]: 减反射膜,增加光的穿性,使光能量最有效的利用.10) [b]BBAR[/b]:背面宽带增透膜11) [b]高反(HR)[/b]:光通过某波长被返回或反射走较多,如平时用的镜子.12)[b]高透(HT)[/b]:光通过某波长损失较少,如平时用的玻璃窗.就属于可见光高透.大家看完小编讲的这些[b]光学滤光片的名词解释[/b],想必也会对此有所认识理解了吧。只要我们对这些了解了,我们才能更好的去使用和应用光学滤光片。那么针对这个滤光片的名词解释能够对大家有所帮助。

  • 氨氮曲线斜率低和纳氏试剂有关系吗

    请问一下氨氮曲线斜率低是不是和纳氏试剂有很大的关系,以往的纳氏试剂都是自己配制,曲线斜率都在0.0072-0.0076.近段时间采购纳氏试剂成品,做出来的曲线斜率在0.0063-0.0065.盲样考核的时候,低浓度的样品做不好,偏高了。我是不是重新考虑使用自己配制的纳氏试剂,但是自己配制的纳氏试剂有一个缺点就是低浓度0.5毫升标准溶液的那个吸光度真是好低,跟空白值一样,所以每次做曲线只能把这个浓度点删除。

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  • 世界上最高分辨率的光刻系统来了,可制造0.7纳米芯片
    9月21日,美国原子级精密制造工具的纳米技术公司Zyvex Labs发布公告,已推出世界上最高分辨率的光刻系统“ZyvexLitho1“,其使用电子束光刻技术,实现了768皮米(即0.768纳米)的原子级精密图案和亚纳米级分辨率。Zyvex Labs已经开始接受ZvyvexLitho1系统的订单,交货期约为6个月。EUV光刻机是当前先进制程的必备设备。荷兰阿斯麦(ASML)作为全球第一大光刻机设备商,同时也是全球唯一可提供EUV光刻机的设备商。在市调机构CINNO Research发布的2022年上半年全球上市公司半导体设备业务营收排名Top10报告中排名第二。Zyvex Labs此次推出的ZyvexLitho1光刻系统,基于STM扫描隧道显微镜,使用的是EBL电子束光刻方式,可以制造出了0.7纳米线宽的芯片,相当于2个硅原子的宽度,是当前制造精度最高的光刻系统。据悉,ZyvexLitho1光刻系统ZyvexLitho1的高精度光刻可以用于实验室阶段高端制程工艺的产品研发,是传统芯片制造所需光刻机的一个应用补充,主要可用于制造对于精度有较高要求的量子计算机的相关芯片,例如高精度的固态量子器件以及纳米器件及材料,对半导体产业的发展也具有巨大的促进作用。目前,Zyvex Labs已经开始接受订单,6个月内就可出货。对于这个新型光刻系统是否会威胁到EUV光刻的统治地位,赛迪顾问集成电路产业研究中心一级咨询专家池宪念表示:“短期内并不会“,他指出ZyvexLitho1是一种使用电子束曝光作为光刻方式的设备,与传统光刻机工作原理会有明显的差异。它是通过电子束改变光刻胶的溶解度,最后选择性地去除曝光或未曝光区域。它的优势在于可以绘制10纳米以下分辨率的自定义图案,是属于无掩模光刻直接写入的工作方式,精度远高于目前的传统光刻机。但是由于这类型设备的单个产品光刻的工作时间要在几小时到十几小时不等,工作效率方面还需进一步提高,因此不会快速取代EUV光刻机。
  • 滤光片分光型高光谱相机的发展现状及趋势
    高光谱相机可将成像技术与光谱探测技术相结合,在对目标空间特征成像的同时,可以对每个空间像元形成多个窄波段实现连续的光谱覆盖,不同光谱信息能充分反映地物内部的物理结构、化学成分的差异。与传统的空间二维成像相比,高光谱相机可以同时获取目标的空间和光谱信息,在一定的空间分辨率下,能够获取宽谱段范围内地物独有的连续特征光谱,对地物的精准识别和探测具有显著优势,目前已成为对地遥感重要的前沿技术手段,在农、林、水、土、矿等资源调查与环境监测等领域具有重要的应用价值。随着滤光片镀膜技术的飞速发展,极大地促进了滤光片分光型高光谱相机的研制,目前基于滤光片分光原理的高光谱相机以大幅宽、高空间分辨率、高光谱分辨率和轻小型的优势成为高光谱遥感载荷的重要组成部分,在微纳卫星高光谱星座组网中获得广泛应用。据麦姆斯咨询报道,近期,中国科学院长春光学精密机械与物理研究所刘春雨研究员课题组在《红外与激光工程》期刊上发表了以“滤光片分光型高光谱相机发展现状及趋势”为主题的文章。刘春雨研究员主要从事光学系统设计、光电系统总体设计等方面的研究工作。高光谱成像原理示意图这项研究主要对滤光片分光型的高光谱相机进行了综述,介绍了国内外典型滤光片分光型星载高光谱成像载荷,以及地面在研的滤光片分光型高光谱成像系统,并分析了这些系统的技术方案、性能指标及应用前景,阐述了基于滤光片分光原理的高光谱相机的技术特点和优缺点,最后展望了滤光片分光型高光谱相机的发展趋势。滤光片轮高光谱相机是以滤光片轮为分光元件,通过转动滤光片轮获得不同波段的光谱图像,从而完成复色光到单色光的分光。滤光片轮高光谱相机的关键器件是滤光片轮,可以根据观测波段的不同替换相应谱段范围的滤光片轮,光路结构简单,谱段更换灵活。随着光谱成像技术的发展,探测波段数目越来越多,滤光片轮已无法满足宽谱段高分辨率的观测,因此越来越多地被用于多光谱探测中。可调谐滤光片高光谱相机以可调谐滤光片为分光元件,根据调谐方式的不同主要分为液晶可调谐滤光片(Liquid Crystal Tunable Filter,LCTF)高光谱相机、声光可调谐滤光片(Acousto-Optic Tunable Filter,AOTF)高光谱相机、MEMS可调谐FP腔滤光片(MEMS Tunable Fabry–Perot Cavity Filters)高光谱相机。楔形滤光片型高光谱相机也被称为渐变滤光片型高光谱相机,可以实现在光谱区和空间区的连续取样,它的设计理念是将一个楔形多层薄膜介质作为滤光片,并将其安装在紧靠着二维阵列探测器的位置,使探测器的若干像元与渐变滤光片的某一光谱带相互对应。根据渐变滤光片各波段与探测器像元之间的对应关系,渐变滤光片高光谱相机又可以分为线性渐变型和滤光片阵列型。线性渐变滤光片结构及分光示意图量子点又称为“纳米晶”,是一种无机材料,自身稳定性高,其半径小于大块的激子波尔半径。将不同种类的量子点集成一起,则可以实现不同波段的同时探测,量子点光谱仪(CQD)就是以此为原理研制的。传统概念上的光谱仪配置了高精度的光学和机械元件,体积笨重、造价昂贵、结构复杂,应用领域严重受限,量子点光谱仪的出现突破了上述局限,为微型光谱仪的推广提供了新思路。近红外量子点光谱仪原理图总的来看,滤光片分光型的高光谱相机正处于起步阶段,其光谱分辨率还无法与高精度的光栅色散分光方式相比拟,因此提高系统的光谱分辨率和能量利用率将成为镀膜型高光谱相机总的发展方向,尤其是随着镀膜技术以及量子点等新材料的发展,基于镀膜型的高光谱相机的光谱分辨率和能量利用率已得到了大幅提高,研发成本也有望进一步降低;此外,滤光片与探测器的结合也将进一步提高系统的光谱分辨率,甚至可以与高精度的光栅色散分光相媲美,因此,滤光片和探测器晶元的结合也是镀膜型高光谱相机的一大发展趋势。不难看出,滤光片型高光谱相机的发展将推动高光谱成像领域的颠覆性发展,并由此带动微纳卫星高光谱遥感技术的发展,为未来微纳高光谱卫星星座组网在轨业务运行,更好地服务于国民经济奠定技术基础。该项目获得国家自然科学基金(41504143)、中国科学院科研装备研制项目(YJKYYQ20190044)、安徽省自然科学基金(1908085 ME135)、中国科学院青年创新促进会(2016203)的支持。
  • 3D打印微型旋转过滤器,可重复用于芯片实验室的微粒过滤
    来自中科大、合肥工业大学和日本RIKEN高级光子学中心的研究人员制造了一种磁驱动旋转微过滤器,可用于过滤微流体设备内的颗粒。他们通过创造一种磁性材料制成了微小的转动过滤器,这种材料可以与一种称为双光子聚合的非常精确的3D打印技术一起使用。作为利用便携性、安全性和效率优势的微型实验室平台,片上实验室系统已广泛应用于各个领域。近年来,得益于飞秒激光微纳制造技术的不断进步,用于三维(3D)高精度加工、微光学、微流体等多种功能微元件和微机械可以通过简单的程序集成到微芯片中,实现分子检测、细胞操作、催化反应等应用。常见的功能性微芯片之一是微分选装置,对分离颗粒和富集特殊细胞具有重要意义,并已成功应用于单细胞分析、药物筛选、血细胞分离等。目前的微流控分选方法可分为主动分选和被动分选。前者需要使用外部设备或外力,操作复杂,需要昂贵的设备。同时,后者在集成无源微器件的微流控芯片中实现了无外力的细胞或颗粒分选。微米级微孔过滤器是一种传统的被动分选装置,可以根据孔径大小对颗粒或细胞进行分选。由于过滤器中的孔的数量和形状不能在分选过程中动态改变,因此无法灵活地按需分选不同的颗粒或细胞,从而限制了微芯片的使用。因此,开发一种可以自由切换过滤、通过、选择性过滤等过滤模式的多功能过滤器,可以使应用多样化。在该研究中,来自中科大、合肥工业大学和日本RIKEN高级光子学中心的研究人员使用飞秒激光双光子聚合在微流控芯片中制造了磁性旋转微过滤器。研究人员首先合成了磁性纳米颗粒,将其混合在光刻胶中以制备磁性光刻胶。为了聚合制备的磁性光刻胶,优化了激光功率密度、脉冲数和扫描间隔等不同工艺参数。然后在载玻片上制作旋转微过滤器,并测试其磁驱动性能。最后,将旋转微过滤器集成到微流控芯片中。在恒定磁场下证明了微流控芯片内部过滤器对“过滤”和“通过”模式的磁响应。过滤性能是用在酒精溶液中含有直径为 2.5 和 8.0 µm 的聚苯乙烯 (PS) 球体的悬浮液来测试的,显示完全过滤了 8.0 µm 的颗粒。设想这种磁驱动旋转微过滤器可以在血细胞分选、微粒纯化和循环肿瘤细胞分离方面提供广泛的应用。▲图1. 磁驱动旋转微过滤器的制造过程和磁性颗粒的表征。(a) 具有可切换模式功能的磁驱动旋转微过滤器的制造过程示意图。(b) [Math Processing Error] 纳米粒子的 XRD 图。(c) 小熊猫的 SEM 图像。EDX 映射图像说明来自印刷的小熊猫的 (d) 覆盖层、(e) 碳和 (f) 铁。比例尺:5 µm。他们使用双光子聚合创建了新的过滤器,它使用聚焦的飞秒激光束来固化或聚合一种称为光刻胶的液体光敏材料。由于双光子吸收,聚合可以以非常精确的方式完成,从而能够制造微米级的复杂结构。图2. 双光子示意图为了制造微过滤器,研究人员合成了磁性纳米粒子并将它们与光刻胶混合。制造旋转式微过滤器要求它们优化用于聚合的激光功率密度、脉冲数和扫描间隔。在载玻片上测试其磁驱动特性后,他们将微过滤器集成到微流体装置中。多种过滤模式为了过滤较大的颗粒,应用垂直于微通道的磁场。过滤过程完成后,可以通过施加平行于微通道的磁场释放大颗粒,这将使微过滤器旋转 90°。然后可以根据需要重复过滤过程。研究人员使用混合在酒精溶液中的直径为 8.0 和 2.5 微米的聚苯乙烯颗粒验证了过滤器的过滤性能。“很明显,小于孔径的颗粒很容易通过微过滤器,而较大的颗粒则被过滤掉,”中国科学技术大学的张晨初说。“在通过模式下,过滤器捕获的任何较大颗粒都会被流体冲走,从而防止过滤器堵塞并允许重复使用微过滤器。”▲图3. 磁力旋转微滤器的参数优化与设计。(a) 不同激光功率密度下最小脉冲数的聚合窗口。(b) 磁旋转微过滤器的示意图。【数学加工误差】为外径,【数学加工误差】为轴套内径。盖玻片上的磁性旋转微过滤器 (c) 和通道中的 (d) 的 SEM 图像。所有比例尺:10 µm。▲图4. 制造的微过滤器的磁驱动旋转。(a) 在平面上操纵磁旋转微过滤器的示意图。(b) 通过施加不同方向的均匀磁场,在平坦表面上的液体环境中操作磁旋转微过滤器的演示。(c) 磁性操纵通道中旋转微过滤器的示意图。(d) 和 (e) 在充满乙醇的微通道中展示磁性旋转微过滤器的旋转以切换模式。该研究得到了中国国家自然科学基金、中国国家重点研发项目、中国博士后科学基金和中央大学基础研究基金的支持,相关成果发表在光学学会杂志Optics Letters上。

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  • XUV滤光片 400-860-5168转2943
    具有高透明度和长使用寿命的优质 XUV滤光片优点NTT-AT公司的用于各种XUV实验的极紫外(XUV或EUV)滤光片具有高透明度、高稳定性和长使用寿命。此优质滤光片无针孔、无支撑网和支撑膜,并覆有抗氧化涂层。 NTT-AT公司提供的优质无支撑XUV 滤光片在金属薄膜两侧覆有抗氧化涂层,实现了高透明度和长使用寿命。NTT-AT公司的用于各种XUV实验的极紫外(XUV或EUV)滤光片具有高透明度、高稳定性和长使用寿命。此优质滤光片无针孔、无支撑网和支撑膜,并覆有抗氧化涂层。标准规格:滤光片尺寸:6毫米×10毫米滤光片厚度:100纳米支架尺寸:直径 28毫米滤光片列表:Zr(用于波长10至20纳米)Al(用于波长20至50纳米)Sn、SiN(用于波长3至5纳米)In、SiN(用于波长3至5纳米)尺寸、厚度等可根据需求定制。示例(滤光片厚度:100纳米)在本公司的演示中,NTT-AT公司的抗氧化Al XUV 滤光片制造后3个月时的透明度比传统Al滤光片高2至5倍。因抗氧化涂层的作用,该XUV 滤光片能长时间稳定使用。NTT-AT公司的抗氧化Al XUV滤光片NTT-AT公司的XUV、EUV滤光片因为无支撑网和支撑材料,所以具有出色的高透明度和透射光束质量。因能长时间稳定使用,该滤光片已被用于许多需要长时间辐射的实验环境。
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  • 亚纳秒微片激光器 400-860-5168转2831
    亚纳秒微片激光器(波长可选1064、946、532、473、355、266、236.5nm)作为意大利Bright Solutions 集团的一部分,Bright Microlaser专注于市场上zui强大的DPSS微芯片激光器的开发和制造。Bright Microlaser公司利用母公司的在DPSS被动调q激光器方面的丰富经验,以及美国的微芯片激光器制造商Concepts Research Corporation(CRC)的技术和工厂。微片激光器以更小、更低功率和SLM激光单元完成了Bright Solutions Group目前的产品系列。微芯片激光器的脉冲持续时间从350 ps到3 ns,能级高达100 uJ,重复频率高达100 kHz。除了通常的1064nm波长及其谐波(532 355和266nm)外,我们还提供发射946和473nm的单元。我们的微片激光器以体积小,能量高,一体化集成高,方便操作等特点广受各界人士使用,同事他还具有高性价比的特点,在半导体加工,微加工,非线性光学,光谱学,拉曼 光学,全息投影,激光雷达 ,遥感,生物光学等应用领域广泛使用。亚纳秒微片激光器产品特点:1、能量高达80uj2、峰值功率达50kW3、重频Single shot up to100kHz4、M21.35、体积小,一体化集成,方便操作。亚纳秒微片激光器产品参数:纳秒皮秒脉宽 2 ns 1.3 ns 400 ps单脉冲能量up to 35 uJup to 80 uJup to 2 uJ脉冲重复频率up to 10 kHzup to 15 kHzinternal and external triggeredup to 100 kHz峰值功率up to 20 kWup to 50 kWup to 5 kWSB1波长946, 473. 236.5 nm1064. 532. 355, 266 nm光束质量 因数 (M2) 1.3电源型号DC power supply 15V. 3 A体积65x54x28 mma重量0.2kg工作温度+10 to +40 °C储存温度-20 to +60 °C亚纳秒微片激光器产品应用领域: 半导体加工,微加工,非线性光学,光谱学,拉曼光学,全息投影,激光雷达,遥感,生物光学关于昊量光电:上海昊量光电设备有限公司是光电产品专业代理商,产品包括各类激光器、光电调制器、光学测量设备、光学元件等,涉及应用涵盖了材料加工、光通讯、生物医疗、科学研究、国防、量子光学 、生物显微、物联传感、激光制造等;可为客户提供完整的设备安装,培训,硬件开发,软件开发,系统集成等服务。
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  • 滤光片支架 400-860-5168转3407
    滤光片支架 滤光片支架,本产品阳极氧化铝合金加工,滤光片槽有3/8-24螺孔,用以容纳准直透镜(包括了两个光纤准直透镜)。容纳的样品最厚可达10mm,并有一个固定样品的尼龙螺丝,可以将被测物品安全地放置在两个固定面板之间,最宽可容纳10mm的样品。产品规格底座装配材料:黑色阳极氧化铝固定面板装配材料:黑色阳极氧化铝尺寸(MM):150 x 50 x 53重量:500 g螺纹:---固定面板-- 3/8-24螺纹---面板用固定螺丝钉-- M3最大样品厚度:10mm更多详细信息:
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片钠铝石相关的耗材

  • 【洛科】针式 | 碟型滤片
    【洛科】针式 | 碟型滤片过滤设备配件: 针式 | 碟型滤片◆ PTFE碟型滤片 外包PP材质外壳,可过滤气体,并能堵水,可防止废液满瓶未排,而被吸入帮浦里。 基本规格 (针头式过滤器) : ◆ 型号: 194225-01◆ 厂牌: Pall◆ 滤膜直径/孔径: 25mm, 0.2 ?&mu m◆ 滤片外壳直径: 30 mm◆ 滤膜材质: PTFE◆ 滤片外壳材质: PP基本规格 (小型碟型滤片) : ◆ 型号: 167200-35◆ 厂牌: Pall◆ 滤膜直径/孔径: 35mm, 0.2 ?&mu m◆ 滤片外壳直径: 45 mm◆ 滤膜材质: PTFE◆ 滤片外壳材质: PP基本规格 (大型碟型滤片) : ◆ 型号: 167200-36◆ 厂牌: Pall◆ 滤膜直径/孔径: 50mm, 0.2 ?&mu m◆ 滤片外壳直径: 72 mm◆ 滤膜材质: PTFE◆ 滤片外壳材质: PP 此产品资讯页面下载 :
  • 纳谱分析顶空瓶及顶空瓶配套铝盖+垫片
    纳谱分析的20mL钳口顶空进样瓶能够兼容国内外顶空进样器,使用顶空进样技术可以免除冗长繁琐的样品前处理过程,避免有机溶剂对分析造成的干扰、减少对色谱柱及进样口的污染。订货信息:产品名称描述货号顶空样品瓶NanoChrom Vial G 顶空,20mL 透明 100/pkgV-20HSCG盖垫(顶空瓶配套)NanoChrom 20mL 顶空瓶配套铝盖+垫片 100/pkgV-20HSSC
  • NaCl窗片
    NaCl窗片NaCl是在通用光谱窗片和对水分敏感性无重要影响的应用中最有用的材料之一。通过Kyropoulos生长方法生产氯化钠。 氯化钠容易裂开。在湿度控制条件下,NaCl可抛光至更高的标准。详细参数:传输范围: 0.2~15μm折射率: 1.49065 at 10.6μm反射损耗: 7.5% at 10.6%(2个表面)吸收系数: 7×10 -6 cm -1 at 1.06μm(1)吸收峰: 50.1μmdn / dT: -40.83×10 -6 /℃dn /dμ= 0: n / a密度: 2.17g / cc熔点: 801℃热导率: 1.25 W m-1 K-1 at 273K热膨胀: 44×10-6 /℃硬度: Knoop 18.2 in 100中 with 200g indenter比热容: 854 J Kg-1 K-1介电常数: 5.9 at 1MHz杨氏模量(E): 39.98GPa(2)剪切模量(G): 12.61GPa(2)体积模量(K): 24.42GPa(2)弹性系数: C11 = 48.5 C12 = 12.3 C 44 = 12.61断裂模量: 3.9MPa(560psi)(2)泊松比: 0.252溶解度 : 35.7g / 100g水,273K分子量: 58.45类/结构: 立方FCC,NaCl,Fm3m,(100)裂解折射率:No = Ordinary Ray μm Noμm Noμm No0.589 1.544270.640 1.541410.760 1.536820.884 1.533950.972 1.532531.054 1.531531.555 1.538152.074 1.527369.000 1.5019.500 1.499810.60 1.4906511.40 1.4847612.50 1.47568 13.50 1.466614.60 1.4557216.00 1.439917.80 1.4164919.80 1.3855920.57 1.373522.30 1.3403订购信息:NaCl圆形窗片订购型号规格应用范围NACLP13-113.0×1.0mmIR PolishedNACLP13-213.0×2.0mmIR PolishedNACLP20-220.0×2.0mmIR PolishedNACLP25-525.0×5.0mmIR PolishedNACLP30-530.0×5.0mmIR PolishedNACLP40-540.0×5.0mmIR PolishedNACLP50-550.0×5.0mmIR PolishedNACLP50.8-558.0×5.0mmIR PolishedNaCl矩形窗片订购型号规格应用范围NACLP23-41-5D23.0×41.0×5.0mm 打孔IRNACLP23-41-5 23.0×41.0×5.0mm 未打孔IR

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